制造偏振膜的方法、偏振膜及使用该膜的图象显示器件技术

用于生产偏振膜的工艺，工艺中包括拉伸原料膜的步骤，其中，拉伸距离（Ｌ）和初始原料膜的宽度（Ｗ）的比值（Ｌ／Ｗ）为０．５～３０。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及到一种制造偏振膜的方法，该偏振膜用于图象显示器件中，如液晶显示器、电致发光(EL)显示器件、等离子体显示器(PD)、场发射显示器(FED)等，特别是用于液晶显示器中，以及由该制造方法生产的偏振膜。本专利技术还涉及到一种具有至少一个层叠于偏振膜上的光学层的光学膜，和具有偏振膜或光学膜的图象显示器件。
技术介绍
用于图象显示器件(特别是液晶显示器)中的偏振膜需同时具有高透射比和高偏振效率，以提供明亮且颜色重复性良好的图象。这种类型的偏振膜迄今为止是用这样一种方法制造的，即在聚乙烯醇(PVA)膜上定向生长二色性物质如双色碘或双色染料。最近随着液晶显示器尺寸的增加、功能的改进和亮度的提高，要求提高用于液晶显示器的偏振片的光学特性和平面内均匀度，以及增加偏振片的尺寸。需要单轴向均匀拉伸宽的原料膜，以获得大尺寸的偏振片。但实际上这是一种非常困难的工艺。光学特性以及平面内均匀度呈现劣化趋势。当平面内光学特性不一致时，在形成的图象显示器中出现显示不规则性，产生很大问题。已知湿拉伸法和干拉伸法主要是用于校直二色性物质的拉伸方法。作为从宽原料膜获得具有高取向度的偏振膜的方法，已经重要本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于生产偏振膜的工艺，包括拉伸原料膜的步骤，其中拉伸距离（Ｌ）和初始原料膜的宽度（Ｗ）的比值（Ｌ／Ｗ）为０．５～３０。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：水岛洋明，龟山忠幸，青木健，和田守正，杉野洋一郎，清水健司，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]