光电组件特性测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光电组件特性测量装置，包含：物镜、成像镜、摄影镜头以及光程调整模块。所述物镜设置于第一光路径上，用以接收第一待测光线，并将第一待测光线转换成第二待测光线。所述成像镜设置于第一光路径上，用以接收第二待测光线，并将第二待测光线转换成第三待测光线。所述摄影镜头设置于第一光路径上，用以测量第三待测光线的光束特性。所述光程调整模块设置于第一光路径上，且在第一光路径上位于成像镜与摄影镜头之间，光程调整模块受控于测试指令而相对于成像镜移动，据以调整在第一光路径上成像镜和摄影镜头的间隔为第一光程或第二光程。

【技术实现步骤摘要】
光电组件特性测量装置
本专利技术是有关于一种电子组件的测量装置，特别是关于一种用于检查光电组件特性的测量装置。
技术介绍
随着光电技术的进步，目前已知可以用许多介质产生雷射，例如可以通过气体、化学或半导体等介质产生雷射。目前市面上以通过半导体产生雷射较为常见，一般称此类半导体为雷射二极管。实务上，雷射二极管制造完成后，还需进行许多光学检测，以确保雷射质量的稳定。然而，在检测雷射二极管发出的雷射光时，许多测量项目需要经常性地移动物镜的物平面或成像镜的像平面，例如与光束特性相关的测量光束腰(beamwaist)、发散角(divergenceangle)及数值孔径(numericalaperture，NA)等近场参数。于所属
具有通常知识者可以明白，经常性地移动物镜或成像镜，将导致光学架构的测量条件不稳定，也容易产生测量上的误差。此外，多数的雷射二极管测试项目都需要有各自的测试站，例如前述测量光束腰、发散角及数值孔径等近场参数的测试站，实务上均未与测量发光度-电流-电压(luminance-current-voltage，LIV)的测试本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光电组件特性测量装置，其特征在于，包含：/n一物镜，设置于一第一光路径上，用以接收一第一待测光线，并将该第一待测光线转换成一第二待测光线；/n一成像镜，设置于该第一光路径上，用以接收该第二待测光线，并将该第二待测光线转换成一第三待测光线；/n一摄影镜头，设置于该第一光路径上，用以测量该第三待测光线的一光束特性；以及/n一光程调整模块，设置于该第一光路径上，且在该第一光路径上位于该成像镜与该摄影镜头之间，该光程调整模块受控于一测试指令而相对于该成像镜移动，据以调整在该第一光路径上该成像镜和该摄影镜头的间隔为一第一光程或一第二光程。/n

【技术特征摘要】
1.一种光电组件特性测量装置，其特征在于，包含：
一物镜，设置于一第一光路径上，用以接收一第一待测光线，并将该第一待测光线转换成一第二待测光线；
一成像镜，设置于该第一光路径上，用以接收该第二待测光线，并将该第二待测光线转换成一第三待测光线；
一摄影镜头，设置于该第一光路径上，用以测量该第三待测光线的一光束特性；以及
一光程调整模块，设置于该第一光路径上，且在该第一光路径上位于该成像镜与该摄影镜头之间，该光程调整模块受控于一测试指令而相对于该成像镜移动，据以调整在该第一光路径上该成像镜和该摄影镜头的间隔为一第一光程或一第二光程。


2.如权利要求1所述的光电组件特性测量装置，其特征在于，该光程调整模块包含一镜面，该镜面设置于该第一光路径上，且该镜面用以反射该第三待测光线至该摄影镜头。


3.如权利要求2所述的光电组件特性测量装置，其特征在于，当该光程调整模块受控于该测试指令时，该镜面相对于该摄影镜头移动。


4.如权利要求1所述的光电组件特性测量装置，其特征在于，该摄影镜头测量该第三待测光线的该光束特性...

【专利技术属性】
技术研发人员：王友延，黄国玮，翁思渊，
申请(专利权)人：致茂电子苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32