干涉扫描装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种干涉扫描装置，是借由反射器的结构改良，使反射器的各别区域具有彼此相异的光程，让每一瞬间各区域各自获得不同光程的干涉资讯，随后整合各瞬间的资讯，借由计算干涉单元的移动速率，找出特定待测位置在各瞬间的资料，即可模拟对该位置的升降量测。所以本发明专利技术的干涉扫描装置在每次量测时，只需将干涉单元在同一高度平移，自然能获得目前干涉仪升降的量测结果；而大幅提升扫描速度与精度，解决目前产业界无法提升干涉检测速度的重大困扰。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种干涉扫描的装置与方法，特别是涉及一种应用一步阶状镜片产生光程差，达到干涉仪光程变化效果的轮廓扫描装置及方法。
技术介绍
随着科技的进步与制程的改善，半导体、平面显示器、微机电、光通讯等领域的制程线宽逐年下降，单位体积的元件数快速成长，尤其奈米技术的应用，把制程推向新的境界；随着制程尺寸的缩小，对于品质的管控愈形困难，以薄膜电晶体-液晶显示器的制程为例，在制程中液晶量乃由两片玻璃间的间格柱或是间格球来控制，间格柱或间格球的尺寸小于5微米，高度需控制在奈米等级，以往的表面形貌检测，是以白光干涉为主，其它如半导体、微机电、生医、光通讯领域都需要针对布植在晶圆或玻璃上的元件进行检测，始能确保产品品质，然而，为了降低成本，批次制程的面积越来越大，如半导体晶圆扩大到12吋，玻璃基板也增加到超过两公尺，制程确实加速，但是在要求检测精度的同时，检测速度却无法符合业界的需求。如何提升检测速度并保有检测精密度，已成为业界亟需解决的制程瓶颈。目前对于半导体、平面显示器、微机电、光通讯与生医产业的表面形貌或表面微细结构的检验，是以白光干涉仪作为检测工具，如图1、2所示，将位于图面右侧的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干涉扫描装置，是供侦测一待测物表面轮廓，其特征在于：该装置包括：一光源，用以射出一原始光束；一干涉单元，包含一分／合光器，供将该原始光束分光为沿一参考方向行进的一参考光束、及沿一物体方向行进的一物体光束；及　 　一反射器，是垂直于该参考方向设置于该参考光束行进路线中，供反射该参考光束返回该分／合光器，该反射器具有一区分为复数区域的反射面，且该反射面的各相邻反射区域与该分／合光器间的光程分别具有一步阶状光程差；一载台，用以承载该待测物，使该 待测物的一待测表面是暴露于该物体光束行进路线中，且至少部分反射该物体光束返回该分／合...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林耀明，
申请(专利权)人：致茂电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]