滤光片制造技术

技术编号:2672122 阅读:143 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种滤光片,其包括:一基体层及第一膜层,该基体层内混合有纳米材料,第一膜层形成于基体层的任一表面,该第一膜层为抗反射膜。该基体层内含有的纳米材料可为二氧化硅SiO↓[2]、氧化锌ZnO,利用该纳米材料对光中的紫外线、红外线的吸收作用,可减少镀膜工序中的复杂工艺。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种滤光片
技术介绍
随着多媒体技术的发展,数码相机、摄影机越来越为广大消费者青睐,在人们对数码相机、摄影机追求小型化的同时,对其拍摄出物体的影像质量提出更高要求。数码相机一般包括透镜或透镜组及影像感测组件(电荷耦合器Charge Coupled Device,下称CCD,或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor,下称CMOS),由于CCD或CMOS影像感测组件的波长感应光谱范围约为350~1500nm,而可见光的波长范围为400~700nm,波长范围大于700nm~1000000nm为红外线波长范围,即CCD或CMOS影像感测组件不仅可感测到可见光,而且也可感测到部分红外线,因而使拍摄的影像受红外线的干扰产生噪声。为解决以上所述的色彩失真问题,现有的数码相机通常通过一红外截止滤光片来滤除照射至CCD或CMOS影像感测组件的红外光,该红外截止滤光片用以阻止红外线通过,避免于正常拍摄时红外线入射至影像感测组件干扰产生噪点,以利于色彩还原。现有的红外线截止滤光片虽可克服其于正常拍摄时由于红外线干扰导致色彩失本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滤光片,包括一基体层和第一膜层,所述第一膜层形成于该基体层的任一表面,其特征在于:该基体层含有可吸收所需过滤波长的纳米材料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄文正黄全德
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利