【技术实现步骤摘要】
一种密封驱动装置及原子层沉积设备
本技术涉及原子层沉积
,特别涉及到一种密封驱动装置及原子层沉积设备。
技术介绍
现有技术中,原子层沉积工艺需要在真空室内进行,原子层沉积工艺就是在基材的传送过程中,在基材表面不断沉积单层原子层;基材在传送过程中可能出现位置偏置,需要对基材进行纠偏,现有的放置在真空室内的纠偏驱动设备价格昂贵、成本较高。
技术实现思路
本技术的主要目的是提出一种密封驱动装置,旨在解决现有技术中放置在真空室内的纠偏驱动设备成本较高的技术问题。为实现上述目的,本技术提出的一种密封驱动装置,所述密封驱动装置包括:壳体,所述壳体用于形成真空室;波纹管,所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰,所述法兰固定于所述壳体外表面上;驱动轴,所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中,所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置。进一步地,所述法兰与所述壳体外表面之间设置有第一O型密封圈。进一步地,所述壳体上开设有供所述驱动轴伸入所述真空室的过孔 ...
【技术保护点】
1.一种密封驱动装置,其特征在于,所述密封驱动装置包括:/n壳体,所述壳体用于形成真空室;/n波纹管,所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰,所述法兰固定于所述壳体外表面上;/n驱动轴,所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中,所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置。/n
【技术特征摘要】
1.一种密封驱动装置,其特征在于,所述密封驱动装置包括:
壳体,所述壳体用于形成真空室;
波纹管,所述波纹管靠近所述壳体的一端设置有法兰,所述法兰固定于所述壳体外表面上;
驱动轴,所述驱动轴一端依次穿过所述波纹管、法兰以及壳体以伸入所述真空室中,所述驱动轴另一端位于所述真空室外并与所述波纹管密封设置。
2.如权利要求1所述的密封驱动装置,其特征在于,所述法兰与所述壳体外表面之间设置有第一O型密封圈。
3.如权利要求1所述的密封驱动装置,其特征在于,所述壳体上开设有供所述驱动轴伸入所述真空室的过孔,所述过孔的孔径大于所述驱动轴的直径。
4.如权利要求1所述的密封驱动装置,其特征在于,所述密封驱动装置还包括:
KF法兰,所述KF法兰设置于所述驱动轴在所述真空室外的一端,所述波纹管远离所述壳体一端伸入所述KF法兰中,以实现所述波纹管与所述驱动轴之间的密封。
5.如权利要求4所述的密封驱动装置,其特征在于,所述密封驱动装置还包括:
密...
【专利技术属性】
技术研发人员:李哲峰,乌磊,郑文岸,张光海,
申请(专利权)人:深圳市原速光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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