【技术实现步骤摘要】
制备方法、金属线栅偏光片、显示装置及电子设备
本申请涉及电子
,特别涉及一种金属线栅偏光片的制备方法、金属线栅偏光片、显示装置及电子设备。
技术介绍
随着电子技术的发展,诸如智能手机等电子设备的屏占比越来越大,从而电子设备的显示屏上用于设置诸如传感器等电子器件的区域越来越小。因此,越来越多的电子设备上,光线传感器设置在显示屏的下方,以通过光线传感器检测环境光。然而,光线传感器设置在显示屏下方时,随着使用时间的增长,光线传感器检测环境光的准确性会逐渐降低。
技术实现思路
本申请实施例提供一种金属线栅偏光片的制备方法、金属线栅偏光片、显示装置及电子设备,可以防止金属线栅偏光片被氧化,从而提高金属线栅偏光片的稳定性,进而提高光线传感器检测环境光的准确性。本申请实施例提供一种金属线栅偏光片的制备方法,包括:提供一承载体;在所述承载体上形成金属层;通过刻蚀工艺在所述金属层上形成多个金属线栅,以形成金属线栅层;在所述金属线栅层的表面形成保护层,所述保护层用于隔绝空 ...
【技术保护点】
1.一种金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,包括:/n提供一承载体;/n在所述承载体上形成金属层;/n通过刻蚀工艺在所述金属层上形成多个金属线栅,以形成金属线栅层;/n在所述金属线栅层的表面形成保护层,所述保护层用于隔绝空气。/n
【技术特征摘要】
1.一种金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,包括:
提供一承载体;
在所述承载体上形成金属层;
通过刻蚀工艺在所述金属层上形成多个金属线栅,以形成金属线栅层;
在所述金属线栅层的表面形成保护层,所述保护层用于隔绝空气。
2.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述保护层的材质包括氧化硅或氮化硅。
3.根据权利要求1或2所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述在所述承载体上形成金属层,包括:
通过物理气相沉积在所述承载体上形成金属层。
4.根据权利要求1或2所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述通过刻蚀工艺在所述金属层上形成多个金属线栅,包括:
在所述金属层表面涂敷光刻胶,以形成光刻胶层;
通过纳米压印工艺对所述光刻胶层进行处理,以形成光刻胶光栅;
以所述光刻胶光栅作为掩膜,通过蚀刻工艺对所述金属层进行蚀刻,以形成多个金属线栅。
5.根据权利要求1或2所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述承载体包括:
玻璃基底;
有机高分子层,设置在所述玻璃基底上;
所述金属层形成在所述有机高分子层上。
6.根据权利要求5所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述在所述金属线栅层的表面形成保护层之后,还包括:
将所述玻璃基底从所述有机高分子层上剥离。
7.根据权利要求1或2所述的金属线栅偏光片的制备方法,其特征在于,所述金属层的材质包括铝、银、铜中的一种。
8.一种金属线栅偏光片,其特征在于,所述金属线栅偏光片通过权利要求1至7任一项所述的金属线栅偏光片的制备方法所制备。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:
显示屏,所述显示屏包括第一偏光元件;
调光组件,设置在所述显示屏的一侧,所述调光组件包括第二偏光元件,所述第二偏光元件通过权利要求1至7任一项所述的金属线栅偏光片的制备方法所制备;
第一光线传感器,设置在所述调光组件背离所述显示屏的一侧,所述第一光线传感器与所述第二偏光元件正对设置;
第二光线传感器,设置在所述调光组件背离所述显示屏的一侧;其中
所述调光组件用于对透过所述显示屏的环境光以及所述显示屏发出的光线进行过滤,以使得所述第一光线传感器接收到所述显示屏发出的光线,所述第二光线传感器接收到所述显示屏发出的光线以及透过所述显示屏的环境光。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于:
所述显示屏还包括第一四分之一波片,所述第一四分之一波片设置在所述第一偏光元件朝向所述调光组件的一侧;
所...
【专利技术属性】
技术研发人员:葛励成,
申请(专利权)人:OPPO广东移动通信有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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