一种阻隔层用涂布液、制备及其阻隔膜制造技术

本发明专利技术公开了一种阻隔层用涂布液、制备及其阻隔膜，所述涂布液的组成及质量份数为：含羧基的聚合物(A)0.4～20，含羟基的水溶性聚合物(B)0.20～5.0，带有与羧基反应性基团的偶联剂(C)0.01～3，金属醇盐(L)的水解缩合物1.7～13，溶剂30～95。本发明专利技术以含有羧基的聚合物(A)为主剂，经过酯交联和无机杂化两步改性后表现出优异的阻气和阻水性能。本发明专利技术的阻隔膜通过涂布实现，制备工艺简单，生产效率高，成本低廉，可应用于食品包装、药品包装及光电器件柔性封装等领域。

【技术实现步骤摘要】
一种阻隔层用涂布液、制备及其阻隔膜
：本专利技术涉及薄膜
，具体涉及一种阻隔膜的涂布液。
技术介绍
：为了避免包装的内容物变质，保持其功能和性能，要求用于食品、药品及光电器件柔性封装的包装材料具有防止由气体(尤其是氧气、水蒸气等)通过包装材料而引起包装内容物变质的性能。因此，要求包装材料具有足够低的气体阻隔性。近年来，人们一直在积极开发具有优异气体阻隔性和保香性的透明性的包装材料，目前常用的是具有氧化硅、氧化铝等无机氧化薄膜所形成的阻隔层的薄膜材料。该类无机氧化物的薄膜材料是通过真空蒸镀、溅射、化学气相沉积等真空镀膜技术在基膜上沉积无机氧化物层，制备出优异的阻氧和阻水性能。但是，由于无机氧化物粒子之间存在晶界这一间隙，从而导致薄膜的气体阻隔性能不充分；并且此类阻气薄膜尽管初期阻气性优异，但是耐冲击性能差，在受到变形或冲击等物理应力时会产生破裂、针孔等缺陷，造成阻气性能降低。针对上述问题，为了提高气体阻隔性能，提出在无机氧化物沉积层面上设置气体阻隔性的涂布膜的方法。如中国专利CN200580035390.5、中国专利CN20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阻隔层用涂布液，其特征在于，所述涂布液的组成及质量份数为：/n含羧基的聚合物(A)0.4～20，/n含羟基的水溶性聚合物(B)0.20～5.0，/n带有与羧基反应性基团的偶联剂(C)0.01～3，/n金属醇盐(L)的水解缩合物1.7～13，/n溶剂30～95。/n

【技术特征摘要】
1.一种阻隔层用涂布液，其特征在于，所述涂布液的组成及质量份数为：
含羧基的聚合物(A)0.4～20，
含羟基的水溶性聚合物(B)0.20～5.0，
带有与羧基反应性基团的偶联剂(C)0.01～3，
金属醇盐(L)的水解缩合物1.7～13，
溶剂30～95。


2.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述含羧基的聚合物(A)为聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚(丙烯酸/甲基丙烯酸)共聚物中的一种，分子量控制在3000～1500,000范围内。


3.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述含羟基的水溶性聚合物(B)为聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、多糖类、壳聚糖、纤维素、淀粉中的一种，聚合度控制在500～3000，醇解度控制在80％～99.99％。


4.根据权利要求1所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述带有与羧基反应性基团的偶联剂(C)中的反应性基团包括氨基、巯基、环氧基、脲基、异氰酸酯基团。


5.根据权利要求4所述阻隔层用涂布液，其特征在于，所述偶联剂为γ-氨基丙基三甲氧基硅烷(KH540)、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)、二乙胺基甲基三乙氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷(KH792)、γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)、γ-巯丙基三乙氧基硅烷(KH580)、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三乙氧基硅烷、γ-脲基丙基三甲氧基硅烷、γ-脲基三乙氧基硅烷、γ-异氰酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘军虎，纪雪梅，郑燕，冯铭竹，刘贤豪，
申请(专利权)人：中国乐凯集团有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13