一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物制造技术

一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，该涂料组合物包括（按质量份计）：聚烷氧基硅氧烷0.5~20份、有机溶剂60~100份、水0.5~20份；其中，所述聚烷氧基硅氧烷为：

【技术实现步骤摘要】
一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物
本专利技术属于涂层
，具体涉及一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物。
技术介绍
以低分子烷氧基硅烷（如四乙氧基硅烷）为原料的溶胶-凝胶功能性涂层在玻璃工业、电子、特种包装、太阳能电池及建筑等领域有广泛的应用（Sol-GelTechnologyforThinFilms,Fibers,Performers,Electronics,andSpecialtyShapes,主编LisaC.Klein,出版社NoyesPublications,1988年）。烷氧基硅烷可用作抗刮擦涂料里的粘接剂，而这种涂层可以大大提高聚合物例如聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸酯的表面硬度。烷氧基硅烷的另一种用途是减反射涂层。WO2006/129973A1描述了一种有减反射效果的低折光指数涂层，该涂层由烷氧基硅烷粘合剂和多孔纳米粒子组成。而US6777069B2专利技术了一种使用含烷氧基的有机硅材料产生低折光指数，从而形成减反射涂层的方法。以烷氧基硅烷为基础的涂料制剂的另一用途是聚合物膜上阻隔水和氧气的涂层。例如文章ThinSolidFilm本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，按质量份计，包括：聚烷氧基硅氧烷0.5~20份、有机溶剂60~100份、水0.5~20份；其中，所述聚烷氧基硅氧烷为：/n

【技术特征摘要】
1.一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，按质量份计，包括：聚烷氧基硅氧烷0.5~20份、有机溶剂60~100份、水0.5~20份；其中，所述聚烷氧基硅氧烷为：

，（1）；
式（1）中，x＞0且n为＞1的整数，R基团为烷基基团。


2.根据权利要求1所述的一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，所述聚烷氧基硅氧烷通过酸催化剂水解活化，所述酸催化剂为液态质子酸、固体酸中的一种。


3.根据权利要求2所述的一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，所述酸催化剂与所述涂料组合物中的硅原子的摩尔比为0.0001~0.1：1。


4.根据权利要求1所述的一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，所述有机溶剂为醇、酮、醚或酯中的一种或多种。


5.根据权利要求2所述的一种生成二氧化硅薄膜涂层的涂料组合物，其特征在于，所述涂料组合物还包括用于增强粘附性的化合物，所述用于增强粘附性的化合物为：

，（2）；
式（2）中，n为＞1的整数，m为＞0的整数；Y基团为不可水解的有机基团，Z基团为可水解基团。


6.根据权利要求5所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张红生，
申请(专利权)人：浙江世窗光学薄膜制造有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33