一种金属线栅宽带偏振器及其制备方法技术

一种金属线栅偏振器及其制备方法，属于光学器件，目的在于具有高偏振光消光比和光通量，结构简单，工作波长范围宽。本发明专利技术的偏振器，在基板上沉积金属铝纳米线栅，基板为在紫外到红外波段均透明的光学材料；金属铝纳米线栅结构参数为：线栅周期长度４０－８０纳米，线栅占空比６０％－４０％，线栅厚度４０－８０纳米，层间距１０－２０纳米。本发明专利技术方法步骤为：清洗基板、基板表面沉积保护膜、旋涂光刻胶、在光刻胶表面形成纳米线栅结构、在保护膜上刻出纳米线栅结构、在基板上刻出纳米线栅结构、除去剩余保护膜、在基板垂直表面镀铝金属膜，形成平行条状纳米线栅。本发明专利技术宽带偏振器在３００－５０００ｎｍ波段范围的偏振消光比可达到３３－７０ｄＢ，偏振光透过率可达到６８％－９４％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学系统中的光学器件，特别涉及一种金属线栅偏振器 及其制备方法。
技术介绍
偏振器一般可以被分为分色偏振器，各向异性晶体偏振器，布氏 角偏振器以及线栅偏振器。但是上述每一种偏振器都只能够对应一个较 小的和相对固定的工作波长范围。对于很多光学和光电子学应用领域来 说，人们都希望得到一种宽带的偏振器，它的工作波长范围能够覆盖整 个紫外一可见—红外光波段。纳米金属线栅偏振器就是这样一种能够达到这一要求的器件。到目 前为止，在无线电波、微波和远红外领域亚波长金属线栅偏振器已经得 到了广泛的应用。而且随着纳米加工技术的不断发展，制备出线条更小 的这种偏振器，并将其应用到近红外、可见、甚至紫外光波段也己经成为可能。2005年，美国普林斯顿一研究所和中国武汉邮电科学研究院分别利用紫外光纳米压印方法和电子束刻蚀方法在玻璃基板上制备成功200纳米线宽的金属线栅偏振器，该偏振器的工作波长在1520—1570纳 米的通信波段。2006年，瑞士微纳技术研究所和美国普林斯顿一研究所 运用深紫外相干刻蚀技术成功的在玻璃基板上制备出线宽在100纳米的 金属线栅偏振器，其工作波段范围达到了 300—本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属线栅宽带偏振器，在基板上沉积出平行条状金属铝纳米线栅，其特征在于：所述基板为在紫外到红外波段均透明的光学材料；所述金属铝纳米线栅的结构参数为：线栅周期长度４０－８０纳米，线栅占空比６０％－４０％，线栅厚度４０－８０纳米，层间距１０－２０纳米。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杨振宇，陆培祥，戴能利，杨光，李玉华，龙华，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：83[中国|武汉]