一种多磁场集成阴极弧源制造技术

本发明专利技术属于真空镀膜技术关键部件阴极弧源技术装备领域，具体涉及一种多磁场集成阴极弧源，包括阴极组件、阳极组件，所述阳极组件套设在阴极组件外且之间绝缘设置；所述阳极组件中设有第一磁极；所述阴极组件一端固定有靶材，所述阴极组件内设有第一空腔，所述第一空腔内设有第二磁极安装座，所述第二磁极安装座在第一空腔内可沿靶材轴向方向位移，所述第二磁极安装座上设有第二磁极；所述阴极组件远离靶材的一端设有电磁线圈。本发明专利技术通过利用阳极组件中的第一磁极和阴极组件内的可调节距离的第二磁极及电磁线圈相互作用，可在靶材表面形成较高的水平分量磁场强度，从而有利于弧光放电过程中增加电子的运动行程，提升等离子体的浓度及强度。

【技术实现步骤摘要】
一种多磁场集成阴极弧源
本专利技术属于真空镀膜技术关键部件阴极弧源技术装备领域，具体涉及一种多磁场集成阴极弧源。
技术介绍
电弧离子镀膜技术是当今一种先进的离子镀膜技术，由于其结构简单，离化率高，入射粒子能量高，绕射性好，可实现低温沉积等一系列优点，使电弧离子镀技术得到快速发展并获得广泛应用，展示出很大的经济效益和工业应用前景。目前，应用比较多而且效果比较好的措施是磁过滤，磁过滤技术的采用，虽然有效地消除了大颗粒的污染，但由于等离子体在传输过程的损失，沉积速率也大幅度降低，目前等离子体的传输效率最高也仅有25％，导致了原材料的浪费和生产效率降低，电弧离子镀的优点就是沉积速率快，这也是该技术在工业领域广泛应用的原因之一，不能为了减少部分大颗粒而来损失这个突出的优点，这也是磁过滤技术不能工业化的重要原因。现阶段对于弧源靶材有效利用的有效途径主要是通过手动调节单个磁组与靶材表面的距离，通过磁场的变化来控制弧斑的运动区域，这种方式为手动经验性操作，存在一定的不可控性，操作繁琐；另一种有效途径为电磁线圈控制弧靶弧斑的运动，但常用的电磁线圈其输出电压及频率本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多磁场集成阴极弧源，其特征在于：包括阴极组件、阳极组件，所述阳极组件套设在阴极组件外且之间绝缘设置；/n所述阳极组件中设有第一磁极；/n所述阴极组件一端固定有靶材，所述阴极组件内设有第一空腔，所述第一空腔内设有第二磁极安装座，所述第二磁极安装座在第一空腔内可沿靶材轴向方向位移，所述第二磁极安装座上设有第二磁极；/n所述阴极组件远离靶材的一端设有电磁线圈。/n

【技术特征摘要】
1.一种多磁场集成阴极弧源，其特征在于：包括阴极组件、阳极组件，所述阳极组件套设在阴极组件外且之间绝缘设置；
所述阳极组件中设有第一磁极；
所述阴极组件一端固定有靶材，所述阴极组件内设有第一空腔，所述第一空腔内设有第二磁极安装座，所述第二磁极安装座在第一空腔内可沿靶材轴向方向位移，所述第二磁极安装座上设有第二磁极；
所述阴极组件远离靶材的一端设有电磁线圈。


2.根据权利要求1所述的多磁场集成阴极弧源，其特征在于：所述阴极组件包括阴极座，所述阴极座一端固定有靶材，所述阴极座远离靶材的一端连接有安装件，所述第二磁极安装座设置在阴极座与安装件之间，所述第二磁极安装座上设有连接杆，所述连接杆穿过安装件且连接有用于驱动第二磁极安装座沿轴向方向直线运动或周向旋转的驱动装置。


3.根据权利要求2所述的多磁场集成阴极弧源，其特征在于：所述安装件与阴极座可拆卸连接，所述电磁线圈固定在安装座外周。


4.根据权利要求1所述的多磁场集成阴极弧源，其特征在于：所述阴极组件包括阴极座，所述阴极座一端固定有靶材，所述阴极座远离靶材的一端连接有阴极盖，所述阴极座与阴极盖之间形成第二空腔，所述阴极盖上设有连通第二空腔的用于进出水的通孔。


5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郎文昌，胡晓忠，刘伟，
申请(专利权)人：温州职业技术学院，
类型：发明
国别省市：浙江;33