光学玻璃的制造方法技术

光学玻璃的制造方法，其包括如下工序：在包括从流出口使熔融玻璃流出的连续熔融方式的玻璃熔融装置中，投入预先调节的原料，以使流出的熔融玻璃的特性在所期望的范围内。在前述光学玻璃的制造方法中，被调节的熔融玻璃的特性为折射率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及成分挥发导致的折射率变动大的，特别涉及具有低玻璃化转变温度(Tg)的适于精密压 模成型的。
技术介绍
通常，在中，有间歇熔融方式和连续 熔融方式。根据光学玻璃的生产量等，决定任一方式进行制造， 但从高生产率和低成本的观点考虑，连续熔融方式比间歇熔融 方式更优异。连续熔融方式通常由熔融部、澄清部、搅拌部的 构成组成，将所流出的玻璃成型为板状，由此得到光学玻璃产口t 。所得到的板状成型品或由板状成型品加工得到的再热压制 品等通过退火处理，消除应力和调整折射率。退火工序由如下 工序组成，1 )升温至设定的温度的工序、2)在设定的温度下 保持一定时间的工序、3)以一定速度降温的工序。折射率由2) 和3)工序被决定。球面透镜的情况下，在退火工序后的工序中， 没有升温到玻璃化转变温度(Tg)左右的温度的工序，因此， 折射率没有变化。因此，板状成型品的阶段，即使偏离所期望 的折射率范围，也可在退火工序中使其符合所期望的折射率。近年来，用于非球面透镜等中的精密压制成型用光学玻璃， 在屈服点(At) ~软化点(Sp)附近的温度下被精密压制成型， 用作光学元件。精密压制成型后，进行上述退火处理的情况下， 可调整折射率，因此，精密压制成型用预成型坯的折射率从所 期望的范围有些偏离也不会特别成为问题。但是，精密压制成型后的透镜直接用作光学元件的情况下，精密压制成型用预成 型坯的折射率需要在所期望的范围内。透镜的折射率由压制温 度和精密压制成型后的降温速度确定，由于降温条件固定，因 此，预成型坯本身的折射率直接反映于透镜的折射率。因此，以上述连续熔融方式制得的光学玻璃的折射率变动 需要在规定的范围内。通常的光学玻璃的折射率的公差为±0.00050,具有包含易挥发成分的组成的光学玻璃中，稳定地 制造公差内的光学玻璃是非常困难的。易挥发成分是指例如氟、 锂、硼、锑、碲、铊、铅、铋、铯。调整光学玻璃的各种物性、例如折射率的方法，公知是混 合具有多种折射率的原料(例如，日本特幵平ll - 258401 ),但 即使使用该方法，也会由于玻璃的成分，其值随时间变动较大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决前述
技术介绍
中记载的光学玻璃的 制造方法所揭示的缺点，提供一种成分挥发导致的各特性、特 别是折射率变动大的，特别是提供具有低 的玻璃化转变温度(Tg)的适于精密压模成型的光学玻璃的制 造方法。本专利技术人为了解决上述课题，反复进行了深入试验研究， 结果，通过在连续熔融方式的玻璃熔融装置中，将所流出的玻 璃的折射率、比重等各特性反映到投入原料、例如分批原料或碎玻璃中，从而稳定地制造前述各特性在所期望的公差内的光 学玻璃。本专利技术的第l方案是，其包括如下工 序在包括从流出口使熔融玻璃流出的玻璃熔融装置中，投入 预先调节的原料，以使流出的熔融玻璃的特性在所期望的范围内。本专利技术的第2方案是根据前述方案1的光学玻璃的制造方 法，其中，被调节的熔融玻璃的特性为折射率。本专利技术的第3方案是根据前述方案2所述的光学玻璃的制造 方法，在从流出口使玻璃流出之前的工序中，包括如下工序 被投入的原料的折射率通过从成型玻璃所要求的折射率值中减 去在玻璃熔融工序中所产生的玻璃的折射率变化部分而被决 定。本专利技术的第4方案是根据前述方案2和3所述的光学玻璃的 制造方法，测定,人流出口流出的玻璃的折射率，对应于该折射 率测定值与成型玻璃所要求的折射率的差，连续或断续地调整 所投入的原料的折射率，使其变化。本专利技术的第5方案是根据前述方案2 ~ 4任一项所述的方法， 所述被投入的原料为碎玻璃，并且，碎玻璃的折射率通过混合 具有比碎玻璃所要求的折射率的值更高的折射率的碎玻璃和具 有比碎玻璃所要求的折射率的值更低的折射率的碎玻璃进行调 整而被决定。本专利技术的第6方案是根据前述方案1所述的光学玻璃的制造 方法，被调节的熔融玻璃的特性为比重。本专利技术的第7方案是根据前述方案6所述的光学玻璃的制造 方法，在从流出口使玻璃流出之前的工序中，包括如下工序 被投入的原料的比重通过从成型玻璃所要求的比重值中减去在 玻璃熔融工序中所产生的玻璃的比重变化部分而被决定。本专利技术的第8方案是根据前述方案6和7所述的光学玻璃的 制造方法，测定从流出口流出的玻璃的比重，对应于该比重测 定值与成型玻璃所要求的比重的差，连续或断续地调整所投入 的原料的比重，使其变化。本专利技术的第9方案是根据前述方案6 ~ 8任 一 项所述的制造方法，所述被投入的原料为碎玻璃，并且，碎玻璃的比重通过 混合具有比碎玻璃所要求的比重的值更高的比重的碎玻璃和具 有比碎玻璃所要求的比重的值更低的比重的碎玻璃进行调整而 被决定。本专利技术的第10方案是根据前述方案1 ~ 4和6 ~ 8任一项所述 的，被投入的原料为碎玻璃。本专利技术的第ll方案是根据前述方案l ~ IO任一项所述的制 造方法，其特征在于，熔融玻璃成分中包含氟、锂、硼、锑、 碲、铊、铅、叙、铯中的一种或两种以上。本专利技术的第12方案是根据前述方案1 ~ ll任一项所述的制 造方法，其特征在于，光学玻璃具有折射率(nd)超过1.80、 阿贝数(Vd)为35以上的范围的光学常数，作为必要成分含有 Si02和B203中的任一方或双方、及La203和Gd203中的任一方或 双方、以及Ta20s和Li20,基本上不含砷成分，玻璃化转变温度 (Tg)为630。C以下。本专利技术的第13方案是根据前述方案11和12所迷的制造方 法，其特征在于，以基于氧化物的质量％计，所述光学玻璃含 有如下成分作为必要成分，Si02 0.1 ~8%、B203 5 ~不足20%、La203 15~50%、Gd203 0.1 ~ 30%、Ta205 超过10%至25%、以及Li20 超过0.5%不足3%,还含有如下成分作为任意成分，Ge02 0 ~ 10%、和/或和/或 和/或和/或 和/或和/或和/或CaO、 SrO和BaO中的l种或2种以以及将上述各金属元素的l种或2种以上的氧化物的 一部分 或全部取代成氟化物的以F计的总量为0 ~ 6%的范围的各成分。本专利技术的第14方案是精密压制成型用预成型坯，其是由通 过前述方案l ~ 13任一项所述的制造方法制得的光学玻璃形成 的。本专利技术的第15方案是光学元件，其是对通过前述方案1 ~ 13 所述的制造方法制得的光学玻璃进行成型而形成的。根据本专利技术的制造方法，在成分挥发导致的折射率变动大 的光学玻璃的制造中，特别是可稳定地制造具有低的玻璃化转 变温度(Tg)的适于精密压模成型的光学玻璃。附图说明图l是本专利技术的一个实施方式的玻璃熔解工序的整体图。 图2是不使用本专利技术的制造方法时的熔解时间和折射率变 化的图表。图3是使用本专利技术的制造方法时的熔解时间和折射率变化上、Yb203 Ti02 Zr02 Nb205wo3ZnO RO其中， 和/或 Sb2030 ~ 5%、 0 ~ 1%、 0 ~ 10% 0 ~ 8%、 0 ~ 10% 0 ~ 15%. 0 ~ 10% RO为选自MgO、0 ~ 1%具体实施方式以下，使用具体例子说明本专利技术的实施方式。图l是用于熔解光学玻璃的连续熔融炉的一个例子。用于熔解光学玻璃的连续熔融炉通常是包括原料投入部1 、熔融部2 、 澄清部3、搅拌部4的构成本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学玻璃的制造方法，其包括如下工序：在包括从流出口使熔融玻璃流出的玻璃熔融装置中，投入预先调节的原料，以使流出的熔融玻璃的特性在所期望的范围内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：上原进，
申请(专利权)人：株式会社小原，
类型：发明
国别省市：JP[日本]