光线探测结构、指纹模组及终端制造技术

一种光线探测结构、指纹模组及终端。所述光线探测结构包括：基底；所述光线探测结构包括：基底；位于基底上方的像素阵列；位于所述像素阵列上方掩膜层；其中，所述掩膜层自下而上依次包括：位于所述像素阵列上方的第一掩膜层；以及位于所述第一掩膜层上方的第二掩膜层；所述第一掩膜层包括：若干第一遮光部，以及设置在相邻第一遮光部之间的若干第一透光部；所述第二掩膜层包括：若干第二遮光部，相邻所述第二遮光部之间设置有第二透光部；所述第二遮光部与所述第一透光部一一对应，且各所述第二遮光部分别位于对应的所述第一透光部的上方。应用本发明专利技术的技术方案，可以抑制全部的环境光，提高指纹图像的清晰度。

【技术实现步骤摘要】
光线探测结构、指纹模组及终端本申请要求2019年6月5日提交中国专利局、申请号为201910495912.3、专利技术名称为“光线探测结构、指纹模组及终端”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本专利技术涉及指纹识别
，具体涉及一种光线探测结构、指纹模组及终端。
技术介绍
目前，大多数终端都设置有指纹模组。通常情况下，该指纹模组可以包括有机电激发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示结构以及位于OLED显示结构下方的光线探测结构。其中，OLED显示结构为自发光结构，不需背光源。用户通过OLED显示结构中的显示屏输入指纹时，OLED显示结构发出的光线经OLED显示屏的反射，被OLED显示结构下方的光线探测结构收集，光线探测结构基于收集到的光线信息形成指纹图像，并将指纹图像发送至后续的指纹识别电路，完成对指纹的识别。然而，现有指纹模组中的光线探测结构，在收集光线时，容易受到环境光的干扰，导致收集到的关系信息受到影响，最终影响指纹图像的清晰度。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是如何抑制环境光、提高指纹图像的清晰度。为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种光线探测结构，所述光线探测结构自下之上依次包括：基底；位于基底上方的像素阵列；位于所述像素阵列上方掩膜层；其中，所述掩膜层自下而上依次包括：位于所述像素阵列上方的第一掩膜层；以及位于所述第一掩膜层上方的第二掩膜层；所述第一掩膜层包括：若干第一遮光部，以及设置在所述若干第一遮光部之间的若干第一透光部；所述第二掩膜层包括：若干第二遮光部，相邻所述第二遮光部之间设置有第二透光部；所述第二遮光部与所述第一透光部一一对应，且各所述第二遮光部分别位于对应的所述第一透光部的上方；以全反射临界角作为入射角沿所述第二遮光部边缘向对应第一透光部照射的第一光线，在与所述第一掩膜层相交时，交点位于所述对应第一透光部的边缘上或者位于所述对应第一透光部外。可选地，当所述第一光线与所述第一掩膜层相交时，所述第二遮光部在所述第一掩膜层上投影的半径，小于或等于全反射临界角的正切值与所述掩膜层的厚度值之间的乘积。可选地，所述第二遮光部及所述第一透光部均为圆形，且所述第二遮光部与对应第一透光部之间圆心的连线，垂直于所述第二遮光部与对应第一透光部所在平面。可选地，所述第二遮光部的半径与相应第一透光部的半径之间的差值，等于全反射临界角角度值的正切值与所述掩膜层的厚度值之间的乘积。可选地，所述像素阵列包括：若干呈阵列排布的光电二极管。可选地，所述若干第二遮光部之间按照六边形阵列排布。可选地，所述若干第二遮光部之间按照条形阵列排布。本专利技术实施例还提供了一种指纹模组，所述指纹模组包括：OLED显示结构；以及上述任一种所述的光线探测结构；所述OLED显示结构位于所述光线探测结构中所述掩膜层的上方。可选地，所述OLED显示结构自下而上依次包括：基底，位于基底上方的OLED阵列，以及位于所述OLED阵列上方的盖板。可选地，所述OLED显示结构发出的信号光线包含在所述第一掩膜层的入射角度大于所述全反射临界角的光线。本专利技术实施例还提供了一种终端，所述终端包括上述任一种所述的指纹模组。与现有技术相比，本专利技术实施例的技术方案具有以下有益效果：采用本专利技术实施例中的光线探测结构，由于环境光从低折射率的空气中入射时，其折射光线照射至第一掩膜层上的入射角均小于全反射临界角，故通过设置以全反射临界角作为入射角沿所述第二遮光部边缘向对应第一透光部照射的第一光线，在与所述对应第一透光部相交时，交点要么位于所述对应第一透光部的边缘上，要么位于所述对应第一透光部外，可以使得环境光的折射光线大部分入射至第一透光部外，由此光线探测结构可以抑制全部的环境光。采用本专利技术实施例中的指纹模组，通过控制OLED阵列所发出光线的入射角的角度值大于所述全反射临界角，可以使得OLED阵列所发出光线能够尽可能入射至被所述第一掩膜层的第一透光部内，进而可以提高指纹模组的光效率。附图说明图1是本专利技术实施例中一种指纹模组的剖面示意图；图2是本专利技术实施例中一种第二遮光部的排布示意图；图3是本专利技术实施例中另一种第二遮光部的排布示意图；图4是本专利技术实施例中一种单个第一透光部与第二掩膜层之间对应关系的结构示意图；图5是本专利技术实施例中另一种单个第一透光部与第二掩膜层之间对应关系的结构示意图；图6是一种信号光线的路线示意图；图7是本专利技术一个实施例的所述第一遮光部a1和所述第二遮光部b1的图案示意图；图8是采用本专利技术前述实施例的光线探测结构测量的环境光的光强分布；图9是采用本专利技术前述实施例的光线探测结构测量的信号光的光强分布。具体实施方式现有指纹模组中的光线探测结构，在收集光线时，容易受到环境光的干扰，环境光的光线被大量吸收，进而影响光线探测结构对OLED信号光线的吸收，最终影响指纹图像的清晰度。针对上述问题，本专利技术实施例提供了一种光线探测结构，应用所述探测结构，通过设置以全反射临界角作为入射角沿所述第二遮光部边缘向对应第一透光部照射的第一光线(信号光线)，在与所述对应第一透光部相交时，交点要么位于所述对应第一透光部的边缘上，要么位于所述对应第一透光部外，可以使得环境光的折射光线大部分入射至第一透光部外，由此光线探测结构可以抑制全部的环境光，提高指纹图像的清晰度。为使本专利技术的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施例做详细地说明。参照图1，本专利技术实施例提供了一种指纹模组，所述指纹模组可以：OLED显示结构10以及光线探测结构20。所述OLED显示结构10位于所述光线探测结构20的上方。在具体实施中，所述OLED显示结构10自下而上依次包括：基底101，位于基底上方的OLED阵列102，以及位于所述OLED阵列上方的盖板103。其中，OLED阵列102由若干呈阵列排布的OLED构成。所述OLED能够自发光。盖板103通常为玻璃盖板，用户可以在盖板103上输入指纹。当有电流通过OLED阵列102时，OLED阵列102中的像素结构会发出信号光，信号光的光线L1照射至盖板103上，产生相应的反射光线L1’。反射光线L1’会被OLED显示结构10下方的光线探测结构20收集，以形成指纹图像。在具体实施中，除信号光外，环境光的光线L2也会照射至盖板103，并产生相应的折射光线L2’。环境光的折射光线L2’也会被光线探测结构20收集。由于环境光折射光线L2’强度通常较大，会影响光线探测结构20所形成的指纹图像的色彩饱和度，进而影响指纹图像的清晰度。本专利技术的实施例中，所述光线探测结构20自下之上依次可以包括：基底201，位于基底上方的像素阵列202以及位于所述像素阵列202上方掩膜层203。其中，所述掩膜层203自下而上依本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光线探测结构，其特征在于，所述光线探测结构包括：/n基底；/n位于基底上方的像素阵列；/n位于所述像素阵列上方掩膜层；其中，所述掩膜层自下而上依次包括：位于所述像素阵列上方的第一掩膜层；以及位于所述第一掩膜层上方的第二掩膜层；/n所述第一掩膜层包括：若干第一遮光部，以及设置在相邻第一遮光部之间的若干第一透光部；/n所述第二掩膜层包括：若干第二遮光部，相邻所述第二遮光部之间设置有第二透光部；所述第二遮光部与所述第一透光部一一对应，且各所述第二遮光部分别位于对应的所述第一透光部的上方。/n

【技术特征摘要】
20190605 CN 20191049591231.一种光线探测结构，其特征在于，所述光线探测结构包括：
基底；
位于基底上方的像素阵列；
位于所述像素阵列上方掩膜层；其中，所述掩膜层自下而上依次包括：位于所述像素阵列上方的第一掩膜层；以及位于所述第一掩膜层上方的第二掩膜层；
所述第一掩膜层包括：若干第一遮光部，以及设置在相邻第一遮光部之间的若干第一透光部；
所述第二掩膜层包括：若干第二遮光部，相邻所述第二遮光部之间设置有第二透光部；所述第二遮光部与所述第一透光部一一对应，且各所述第二遮光部分别位于对应的所述第一透光部的上方。


2.如权利要求1所述的光线探测结构，其特征在于，以全反射临界角作为入射角沿所述第二遮光部边缘向对应第一透光部照射的第一光线，在与所述第一掩膜层相交时，交点位于所述对应第一透光部的边缘上或者位于所述对应第一透光部外。


3.如权利要求2所述的光线探测结构，其特征在于，当所述第一光线与所述第一掩膜层相交时，所述第二遮光部在所述第一掩膜层上投影的半径，小于或等于全反射临界角的正切值与所述掩膜层的厚度值之间的乘积。


4.如权利要求3所述的光线探测结构，其特征在于，所述第二遮光部及所述第一透光部均为圆形，且所述第二遮光部与对应第一透光部之间圆心的...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建东，
申请(专利权)人：上海耕岩智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31