一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置，该装置首先生成用于产生高通量暗斑的激光，然后入射到加载衍射相位的空间调制器上，将光束分束为多路激光阵列，再将其入射到微透镜阵列上并聚焦，同时将光束阵列在微透镜阵列的傅里叶面上进行滤波，之后将光束阵列入射到高通量暗斑生成器件上进行相位调制，最后将光束阵列聚焦产生高通量的暗斑。本发明专利技术设计紧凑，集成度高；可以在生成大通量超衍射极限焦斑的同时实现对暗斑的高速特异性调控；可用于实现并行受激发射损耗显微成像和高通量双光束激光直写光刻，可实现并行系统的亚50nm分辨率，提升系统速度，保证激光直写加工速度和成像分辨率的同步稳定提升。

【技术实现步骤摘要】
一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置
本专利技术属于光学工程领域，尤其涉及一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置。
技术介绍
激光三维打印与加工技术是一种具有微米加工精度，又具备三维打印能力的技术。可以灵活地制造相应尺度结构的机械、电子和光学器件。同时，简化了加工工艺，特别适合用于新型器件研究与试制。但这种方法在原理上受到衍射极限的限制，分辨率难以突破亚百纳米。要实现纳米精度的直写，需要突破光学衍射极限，因此需要发展基于超分辨激技术的光直写技术。在直写原理上，激光三维纳米加工（打印）系统将直写激光直接聚焦于光胶，使光胶聚合而获得微纳结构。利用光胶的双光子激发效应，可实现百纳米级精度的激光直写加工。而且，由于双光子效应对聚焦激光高能量密度的要求，使这种加工方式特别适合制造大尺寸三维结构。在此基础上，将一束经过空间光调制，聚焦后为3D暗斑的光束与直写光束合束，利用该光束在光胶中引发的抑制效应，减小聚焦直写激光光斑的有效尺寸，提高加工分辨率，这样的等效焦斑也被称作超衍射极限焦斑。利用以上原理，奥地利林茨大学的Klar研究组，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置，其特征在于，包括抑制光激光器、抑制路准直器、第一半波片、抑制路起偏器、第一反射镜、抑制路空间光调制器、第一透镜、抑制路小孔阵列、第一微透镜阵列、高通量暗斑生成器件、抑制路多通道声光调制器、第二半波片、抑制路四分之一波片、第二微透镜阵列、第二透镜、第三透镜、第二反射镜、二色镜、激发光激光器、激发路准直器、第三半波片、激发路起偏器、第三反射镜、激发路空间光调制器、第四透镜、激发路小孔阵列、第三微透镜阵列、激发路多通道声光调制器、第四半波片、激发路四分之一波片、第四微透镜阵列、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、场镜和物镜；抑制光激光器发出的抑...

【技术特征摘要】
1.一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置，其特征在于，包括抑制光激光器、抑制路准直器、第一半波片、抑制路起偏器、第一反射镜、抑制路空间光调制器、第一透镜、抑制路小孔阵列、第一微透镜阵列、高通量暗斑生成器件、抑制路多通道声光调制器、第二半波片、抑制路四分之一波片、第二微透镜阵列、第二透镜、第三透镜、第二反射镜、二色镜、激发光激光器、激发路准直器、第三半波片、激发路起偏器、第三反射镜、激发路空间光调制器、第四透镜、激发路小孔阵列、第三微透镜阵列、激发路多通道声光调制器、第四半波片、激发路四分之一波片、第四微透镜阵列、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、场镜和物镜；抑制光激光器发出的抑制光光束依次经过抑制路准直器、第一半波片、抑制路起偏器、第一反射镜、抑制路空间光调制器、第一透镜、抑制路小孔阵列、第一微透镜阵列、高通量暗斑生成器件、抑制路多通道声光调制器、第二半波片、抑制路四分之一波片、第二微透镜阵列、第二透镜、第三透镜、第二反射镜后，生成抑制光光束阵列到达二色镜；激发光激光器发出的激发光光束依次经过激发路准直器、第三半波片、激发路起偏器、第三反射镜、激发路空间光调制器、第四透镜、激发路小孔阵列、第三微透镜阵列、激发路多通道声光调制器、第四半波片、激发路四分之一波片、第四微透镜阵列、第五透镜、第六透镜后，生成激发光光束阵列到达二色镜；二色镜对抑制光光束阵列透射、对激发光光束阵列反射，抑制光光束阵列和激发光光束阵列经二色镜合束后的光束阵列依次经过第七透镜、第八透镜、场镜、物镜后聚焦在物镜焦面处，抑制光光束阵列在物镜焦面处形成暗斑阵列，激发光光束阵列在物镜焦面处形成实心光斑阵列，共同形成可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑。


2.如权利要求1所述可特异性调控的高通量超衍射...

【专利技术属性】
技术研发人员：匡翠方，朱大钊，丁晨良，郝翔，刘旭，
申请(专利权)人：之江实验室，
类型：发明
国别省市：浙江;33