一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃制造技术

技术编号:26591945 阅读:25 留言:0更新日期:2020-12-04 21:12
一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,包括玻璃基片和设置在玻璃基片上的溅射镀膜涂层,本实用新型专利技术的低辐射涂层玻璃,在达到成品玻璃所需外观颜色的前提下,具有较高的光透过率和低辐射率,能够对日光中的红外区域高反射,对近、远红外区域低吸收,以实现灵活调节光透过、吸收和反射量,降低玻璃辐射率,提高玻璃热阻的高性能要求。同时,成品玻璃的耐加工性能较高,从而大大降低了加工制作成本,提高了生产率。经测定,本实用新型专利技术的玻璃,玻璃面颜色为接近自然色的中性色,保证了良好的外观效果;辐射率<0.02,玻璃面反射率为5~8%,可见光透过率达到了70~71%,为高透型产品,并极大地提高了光热选择性,具有较好的节能效果。

【技术实现步骤摘要】
一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃
本技术涉及玻璃涂层
,具体的来说是关于一种具有高透过率,低辐射率,且耐加工性能和选择系数高的溅射涂层玻璃。技术背景现有技术中,为了降低镀膜玻璃产品的辐射率和遮阳系数,一般通过采用增加功能层厚度的方法来实现,但功能层厚度的增加会造成玻璃的光透过率下降;而为了增加镀膜产品的光透过率,一般采用减少金属阻挡层厚度的方式来实现,但阻挡层厚度减少后,玻璃制品的加工性能就会有所降低,导致产品难以加工。因此,如何对镀膜玻璃产品的结构进行改进,使其能够在提高透过率、降低辐射率的前提下,依然保持较好的加工性能,对于提高镀膜玻璃产品整体的品质来说实为必要。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本技术通过对溅射镀膜涂层中多层结构的改进,提供一种光透过率高,辐射率低,玻璃热阻得到显著提高,且耐加工性能好的溅射涂层玻璃。为实现上述技术目的,本技术所采用的技术方案为:一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,包括玻璃基片和设置在玻璃基片上的溅射镀膜涂层,所述的溅射镀膜涂层包括于玻璃基片上依次设置的基层电介质组合层、第一反射功能层、第一阻挡层、第一隔层电介质组合层、第二反射功能层、第二阻挡层、第二隔层电介质组合层、第三反射功能层、第三阻挡层和上层电介质组合层,在每个反射功能层靠近于玻璃基片的一侧均设置有用于调节涂层透过率的防护阻挡层,具体为设置在基层电介质组合层和第一功能层之间的基层防护阻挡层、设置在第一隔层电介质组合层和第二功能层之间的中间防护阻挡层,以及设置在第二隔层电介质组合层和第三功能层之间的顶层防护阻挡层,所述的每个防护阻挡层均为复合层,且按照镀设在玻璃基片上的先后顺序,由AZO层和NiCr层组成,该AZO层的膜层厚度为5~15nm,NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,所述的第一阻挡层、第二阻挡层和第三阻挡层也均为复合层,且按照镀设在玻璃基片上的先后顺序,由NiCr层和AZO层组成,该NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,AZO层的膜层厚度为5~15nm;所述的第一反射功能层、第二反射功能层和第三反射功能层均为Ag层,且第一反射功能层、第二反射功能层和第三反射功能层在膜层厚度上依次增加;所述的基层电介质组合层、第一隔层电介质组合层、第二隔层电介质组合层和上层电介质组合层均为Si3N4层,且第一隔层电介质组合层和第二隔层电介质组合层的膜层厚度不小于基层电介质组合层和上层电介质组合层的膜层厚度,在所述上层电介质组合层远离玻璃基片的一侧还设置有高硬度保护层。进一步的,所述的玻璃基片为透明浮法玻璃。进一步的,所述基层电介质组合层厚度为20~40nm;所述第一隔层电介质组合层和第二隔层电介质组合层的厚度均为50~80nm;所述上层电介质组合层厚度为30~50nm。进一步的,所述的高硬度保护层为ZrO2层,且其膜层厚度为2nm~15nm。进一步的,所述第一阻挡层、第二阻挡层、中间防护阻挡层和顶层防护阻挡层中的NiCr层的膜层厚度为0.1~2nm。进一步的,所述第一反射功能层的厚度为9~15nm;所述第二反射功能层的厚度为11~15nm;所述第三反射功能层的厚度为12~20nm。有益效果:1、本技术的一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,在达到成品玻璃所需外观颜色的前提下,具有较高的光透过率和低辐射率,能够对日光中的红外区域高反射,对近、远红外区域低吸收,以实现灵活调节光透过、吸收和反射量,降低玻璃辐射率,提高玻璃热阻的高性能要求。同时,成品玻璃的耐加工性能较高,可实现异地加工,从而大大降低了加工制作成本,提高了生产率。经测定,本技术的高透光、低辐射玻璃,玻璃面颜色为接近自然色的中性色,保证了良好的外观效果;辐射率<0.02,玻璃面反射率为5~8%,可见光透过率达到了70~71%,为高透型产品,并极大地提高了光热选择性,具有较好的节能效果。2、本技术提供的一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,在镀膜后可进行高温钢化工艺热处理,而不影响产品的质量。采用磁控溅射的方法,控制磁控溅射电源的功率,在银层前后采用复合电介质层来对银层进行保护,并借助氮化硅Si3N4在热处理中稳定抗热冲击性能,有效的控制和阻隔玻璃基片中的钠离子的迁移,有效避免银离子的凝聚及银层被氧化等一系列影响镀膜玻璃低辐射性能和外观的质量问题。保证低辐射镀膜玻璃经过钢化或者热弯后,其颜色、透过率、反射率和低辐射性能不会发生大的变化,仍然保持良好的外观效果和光热性能。附图说明图1为本技术的结构示意图;图中标记:1、玻璃基片,2、基层电介质组合层,3、第一反射功能层,4、第一阻挡层,5、第一隔层电介质组合层,6、第二反射功能层,7、第二阻挡层,8、第二隔层电介质组合层,9、第三反射功能层,10、第三阻挡层,11、上层电介质组合层,12、基层防护阻挡层,13、中间防护阻挡层,14、顶层防护阻挡层,15、高硬度保护层。具体实施方式下面结合具体实施例对本技术做进一步详细的说明:一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,包括玻璃基片1,玻璃基片1的基材是透明浮法玻璃,玻璃基片1上设有溅射镀覆的溅射镀膜涂层,该溅射镀膜涂层由玻璃基片1向外按顺序至少包括:基层电介质组合层2、第一反射功能层3、第一阻挡层4、第一隔层电介质组合层5、第二反射功能层6、第二阻挡层7、第二隔层电介质组合层8、第三反射功能层9、第三阻挡层10和上层电介质组合层11,在每个反射功能层靠近于玻璃基片1的一侧均设置有用于调节涂层透过率的防护阻挡层,具体为设置在基层电介质组合层2和第一功能层之间的基层防护阻挡层12、设置在第一隔层电介质组合层5和第二功能层之间的中间防护阻挡层13,以及设置在第二隔层电介质组合层8和第三功能层之间的顶层防护阻挡层14,所述的每个防护阻挡层均为复合层,且按照镀设在玻璃基片1上的先后顺序,由AZO层和NiCr层组成,该AZO层的膜层厚度为5~15nm,NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,所述的第一阻挡层4、第二阻挡层7和第三阻挡层10也均为复合层,且按照镀设在玻璃基片1上的先后顺序,由NiCr层和AZO层组成,该NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,AZO层的膜层厚度为5~15nm;本技术中位于反射功能层上方的阻挡层主要作用是保护反射功能层不被后一道镀膜过程或其后的加工过程所氧化。位于反射功能层下方的防护阻挡层主要作用是为了方便反射功能层的溅射沉积加工,并保护反射功能层性能的最优化保留,并提高可加工性。同时金属材质的阻挡层也是光的强吸收材料,用来调节整个涂层的透过率,陶瓷氧化物阻挡层可提高涂层可见光的透过率。所述的第一反射功能层3、第二反射功能层6和第三反射功能层9均为Ag层,且第一反射功能层3、第二反射功能层6和第三反射功能层9在膜层厚度上依次增加,第一反射功能层3、第二反射功能层6和第三反射功能层9的作用均是为了对红外线区和/或太阳辐射光区进行反射,以降低玻璃的辐射率,同时也具有调节涂层颜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,包括玻璃基片(1)和设置在玻璃基片(1)上的溅射镀膜涂层,所述的溅射镀膜涂层包括于玻璃基片(1)上依次设置的基层电介质组合层(2)、第一反射功能层(3)、第一阻挡层(4)、第一隔层电介质组合层(5)、第二反射功能层(6)、第二阻挡层(7)、第二隔层电介质组合层(8)、第三反射功能层(9)、第三阻挡层(10)和上层电介质组合层(11),其特征在于:在每个反射功能层靠近于玻璃基片(1)的一侧均设置有用于调节涂层透过率的防护阻挡层,具体为设置在基层电介质组合层(2)和第一功能层之间的基层防护阻挡层(12)、设置在第一隔层电介质组合层(5)和第二功能层之间的中间防护阻挡层(13),以及设置在第二隔层电介质组合层(8)和第三功能层之间的顶层防护阻挡层(14),所述的每个防护阻挡层均为复合层,且按照镀设在玻璃基片(1)上的先后顺序,由AZO层和NiCr层组成,该AZO层的膜层厚度为5~15nm,NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,所述的第一阻挡层(4)、第二阻挡层(7)和第三阻挡层(10)也均为复合层,且按照镀设在玻璃基片(1)上的先后顺序,由NiCr层和AZO层组成,该NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,AZO层的膜层厚度为5~15nm;/n所述的第一反射功能层(3)、第二反射功能层(6)和第三反射功能层(9)均为Ag层,且第一反射功能层(3)、第二反射功能层(6)和第三反射功能层(9)在膜层厚度上依次增加;/n所述的基层电介质组合层(2)、第一隔层电介质组合层(5)、第二隔层电介质组合层(8)和上层电介质组合层(11)均为Si...

【技术特征摘要】
1.一种银叠层复合结构低辐射涂层玻璃,包括玻璃基片(1)和设置在玻璃基片(1)上的溅射镀膜涂层,所述的溅射镀膜涂层包括于玻璃基片(1)上依次设置的基层电介质组合层(2)、第一反射功能层(3)、第一阻挡层(4)、第一隔层电介质组合层(5)、第二反射功能层(6)、第二阻挡层(7)、第二隔层电介质组合层(8)、第三反射功能层(9)、第三阻挡层(10)和上层电介质组合层(11),其特征在于:在每个反射功能层靠近于玻璃基片(1)的一侧均设置有用于调节涂层透过率的防护阻挡层,具体为设置在基层电介质组合层(2)和第一功能层之间的基层防护阻挡层(12)、设置在第一隔层电介质组合层(5)和第二功能层之间的中间防护阻挡层(13),以及设置在第二隔层电介质组合层(8)和第三功能层之间的顶层防护阻挡层(14),所述的每个防护阻挡层均为复合层,且按照镀设在玻璃基片(1)上的先后顺序,由AZO层和NiCr层组成,该AZO层的膜层厚度为5~15nm,NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,所述的第一阻挡层(4)、第二阻挡层(7)和第三阻挡层(10)也均为复合层,且按照镀设在玻璃基片(1)上的先后顺序,由NiCr层和AZO层组成,该NiCr层的膜层厚度为0.1~3nm,AZO层的膜层厚度为5~15nm;
所述的第一反射功能层(3)、第二反射功能层(6)和第三反射功能层(9)均为Ag层,且第一反射功能层(3)、第二反射功能层(6)和第三反射功能层(9)在膜层厚度上依次增加;
所述的基层电介质组合层(2)、第一隔层电介质组...

【专利技术属性】
技术研发人员:穆键田晓青
申请(专利权)人:上海北玻镀膜技术工业有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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