一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室制造技术

一种用于Ｘ射线源剂量率监控的穿透电离室，它包括下壳体（１）、上壳体（１１），在下壳体（１）内从下至上依次布置第一电极绝缘板（６）、第一电极板（４）、第二电极绝缘板（７）、保护环（３）、第三电极绝缘板（８）、第二电极板（５）、第四电极绝缘板（９）和可将上述电极板、保护环、绝缘板固定的板簧（１０），上壳体（１１）由螺钉与下壳体（１）固定而形成灵敏区、充排气区及接线区，所设充气管（１６）穿过下壳体（１）通向灵敏区，其特征在于：所述灵敏区的端面设有对充气管（１６）起保护作用的保护罩（１２），所述接线区的端面设有由两个插座组成的接线盒（１５），第一电极板（４）与第二电极板（５）的电极引线（１７）置于接线盒（１５）内，通过软线分别连接到第一插座（１３）和第二插座（１４）用于输入高压和输出测量信号，所述下壳体（１）的上端面置有橡胶密封圈（２）。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及辐射成像系统，特别是辐射成像系统所用的穿透电离室探测器装置，属于辐射检测

技术介绍
穿透电离室主要用来解决对加速器或其他射线源的剂量率的监控，使加速器的出束剂量率稳定在一个范围内，不能对射线有太多吸收而影响成像。现有技术中的穿透电离室的产品具有结构简单对射线吸收小等优点，但是其密封性能差，特别是在潮湿的环境下或周围气体成分复杂的环境下，极易造成电离室工作不正常。又由于高压输入和信号输出只用了一根双层屏蔽电缆，因此高压通过绝缘层到信号线的漏电流，干扰信号也可通过高压层耦合到信号线上，影响了电离室的输出，必然影响测量精度。
技术实现思路
为了解决上述现有技术中存在的问题，本专利技术的专利技术目的是提供一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室。它可增强对环境的适应性并提高测量精度。为了达到上述的专利技术目的，本专利技术的技术方案以如下方式实现一种用于X射线源剂量率监控的穿透电离室，它包括下壳体、上壳体，在下壳体内从下至上依次布置第一电极绝缘板、第一电极板、第二电极绝缘板、保护环、第三电极绝缘板、第二电极板、第四电极绝缘板和可将上述电极板、保护环、绝缘板固定的板簧。上壳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李元景，缪庆文，张清军，高文焕，代主得，郭红云，
申请(专利权)人：清华大学，清华同方威视技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：