一种铜板去氧化清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体设有进口、出口、清洗机构、传输机构、抛光机构，所述传输机构包括辊轮和传输带，所述清洗机构包括清洗剂仓与雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池、抛光液、料框，所述抛光池连接有过滤机构，其特征在于，所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输上设有沟槽，所述传输机构设有翻转组件，所述翻转组件包括拨动轴，所述拨动轴固连有拨动板，本实用新型专利技术的有益效果为：提供一种铜板去氧化清洁装置，一次去氧化行程内可对铜板两面进行去初步清洁处理，提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本。

【技术实现步骤摘要】
一种铜板去氧化清洁装置
本技术涉及铜加工装置
，具体涉及一种铜板去氧化清洁装置。
技术介绍
铜面氧化是指氧元素与另外一种金属化学元素组成的二元化合物，如氧化铁(Fe2O3)、氧化钠（Na2O）等，现有技术中存在多种铜板氧化清洁装置，其中公开号为“CN207806067U”的专利公开了一种铜板去氧化清洁装置，其结构包括清洗装置、机壳、传输带、清洗剂仓、雾化喷头、控制装置、承料篮、时间继电器、抛光液仓、滤板，所述清洗装置上设有机壳，所述机壳的内部设有传输带，所述传输带的上方设有清洗剂仓，所述传输带通过机壳与清洗剂仓接触连接，所述清洗剂仓的下方固定设有雾化喷头，清洗装置的侧面设有控制装置，所述控制装置的内部设有承料篮，其有益效果是可通过设置带有驱动器的旋轮，配合连接杆对承料篮进行移动，再通过设置带有时间继电器的泵体，可对抛光液进行定时自主抽取，通过设置带有渐窄道的滤板，可对抛光液进行过滤，结构简单，易于实现。但是，上述技术方案中，只能实现铜板的单面去进行清洗，即与雾化喷头相对铜面的清洁，铜板相对于雾化喷头另一板面不清洁干净，会导致后期铜板抛光处理不彻底，则需对铜板进行长时间浸泡或者进行重复抛光工序，则会延长铜板去氧化周期，提高铜板加工成本。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足，提供一种铜板去氧化清洁装置，一次去氧化行程内可对铜板两面进行去初步清洁处理，提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体一侧设有铜板进口，所述机体相对于铜板进口一端的另一端设有可闭合出口，所述机体内位于进口一侧上方设有清洗机构，所述机体内位于清洗机构下方设有传输机构，所述传输机构包括若干组并排组合的辊轮以及包覆在辊轮外周的传输带，所述机体位于出口端设有抛光机构，所述清洗机构包括清洗剂仓以及与清洗剂仓可导通的雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池，所述抛光池内设有抛光液，所述抛光池内位于传输带一端设有料框，所述抛光池底部连接有过滤机构，其特征在于，所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，所述传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，所述翻转组件包括铰接在辊轮外端的拨动轴，所述拨动轴相对于铰接一端的另一端固定连接有拨动板。采用上述技术方案，相比较现有技术，本技术可实现铜板两面清洁，提高铜板在进入抛光池之前表面光洁程度，从而提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本；其中将雾化喷头设置成第一雾化喷头与第二雾化喷头，第一雾化喷头用以对铜板不接触传输带表面进行清洁，而第二雾化喷头则是对铜板另一表面进行清洁；传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，铜板经过第一雾化喷头后，翻转组件跟随辊轮发生自转，拨动板拨动铜板一端，铜板相对于被拨动一端的另一端抵触于凹槽内，即可实现铜板的翻面，继而铜板在传输带带动下经过第二雾化喷头进行清洁，清洁后被输送至抛光机构内进行抛光作业，经过多面清洁后的铜板表面无其余杂质，即可提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本，铜板抛光处理完成后，抛光液经过滤机构进行排出过滤，在通过集体上的出口去去除铜板即可。上述的一种铜板去氧化清洁装置可进一步设置为：所述过滤机构包括设置在抛光池底部的排水口，所述排水口处设有可手动开闭排水口的开合组件，所述过滤机构还包括过滤筒，所述过滤筒一侧设有可与排水口进行导通的开口，所述过滤筒内活动铰接有主轴，所述主轴侧壁均布有若干组扇叶，所述过滤筒外周设有若干组过滤层，所述每层过滤层表面均布有若干组圆径相同滤孔，所述过滤层内滤孔从主轴向外延伸方向直径由大至小均匀分布。采用上述技术方案，抛光液经排水口后，流至过滤筒内，扇叶在液流带动下发生转动，可加速过滤筒内液流速度，扇叶拨动含有杂质的抛光液，可加快过滤效率，避免杂质堵塞过滤孔，而现有技术中采用泵体将含有杂质的抛光液排出，一方面增加电力输入，且使得整体零部件增多，复杂程度提高，而另一方面过滤板设计不合理，导致过滤效率低下，而本技术将液流自身流动所产生的动能进行合理利用，加快了过滤效率，提升了本技术的整体使用性能。上述的一种铜板去氧化清洁装置可进一步设置为：所述开合组件包括位于排水口处的开合板，所述开合板联动有驱动臂。采用上述技术方案，需要进行排水时，向外拉动驱动臂即可，开合板即可实现排水口的打开，简单快速，操作方便。上述的一种铜板去氧化清洁装置可进一步设置为：所述拨动板内设有磁铁。采用上述技术方案，通过设置磁铁，使得拨动块能够有效准确的吸附住铜板，提升翻转组件的使用性能，当铜板贴靠住第二雾化喷头下方的传输带时，拨动块跟随拨动轴旋转即可实现与铜板的分离，不会影响铜板的后续工序。本技术的有益效果：将雾化喷头设置成第一雾化喷头与第二雾化喷头，第一雾化喷头用以对铜板不接触传输带表面进行清洁，而第二雾化喷头则是对铜板另一表面进行清洁；传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，铜板经过第一雾化喷头后，翻转组件跟随辊轮发生自转，拨动板拨动铜板一端，铜板相对于被拨动一端的另一端抵触于凹槽内，即可实现铜板的翻面，继而铜板在传输带带动下经过第二雾化喷头进行清洁，清洁后被输送至抛光机构内进行抛光作业，相比较现有技术，本技术可实现铜板两面清洁，提高铜板在进入抛光池之前表面光洁程度，从而提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本，抛光完成后抛光液经排水口，流至过滤筒内，扇叶在液流带动下发生转动，，扇叶拨动含有杂质的抛光液，可加速过滤筒内液流速度可加快过滤效率，避免杂质堵塞过滤孔，而现有技术中采用泵体将含有杂质的抛光液排出，一方面增加电力输入，且使得整体零部件增多，复杂程度提高，而另一方面过滤板设计不合理，导致过滤效率低下，而本技术将液流自身流动所产生的动能进行合理利用，加快了过滤效率，提升了本技术的整体使用性能。下面结合附图和实施例对本技术作进一步详细说明。附图说明图1为本技术实施例的结构示意图；图2为本技术实施例的铜板翻转正视示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例，中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。如图1至2所示的一种铜板去氧化清洁装置，包括机体1，所述机体1一侧设有铜板进口11，所述机体1相对于铜板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体一侧设有铜板进口，所述机体相对于铜板进口一端的另一端设有可闭合出口，所述机体内位于进口一侧上方设有清洗机构，所述机体内位于清洗机构下方设有传输机构，所述传输机构包括若干组并排组合的辊轮以及包覆在辊轮外周的传输带，所述机体位于出口端设有抛光机构，所述清洗机构包括清洗剂仓以及与清洗剂仓可导通的雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池，所述抛光池内设有抛光液，所述抛光池内位于传输带一端设有料框，所述抛光池底部连接有过滤机构，其特征在于：所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，所述传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，所述翻转组件包括铰接在辊轮外端的拨动轴，所述拨动轴相对于铰接一端的另一端固定连接有拨动板。/n

【技术特征摘要】
1.一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体一侧设有铜板进口，所述机体相对于铜板进口一端的另一端设有可闭合出口，所述机体内位于进口一侧上方设有清洗机构，所述机体内位于清洗机构下方设有传输机构，所述传输机构包括若干组并排组合的辊轮以及包覆在辊轮外周的传输带，所述机体位于出口端设有抛光机构，所述清洗机构包括清洗剂仓以及与清洗剂仓可导通的雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池，所述抛光池内设有抛光液，所述抛光池内位于传输带一端设有料框，所述抛光池底部连接有过滤机构，其特征在于：所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，所述传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，所述翻转组件包括铰接在辊轮外端的拨动轴，所述拨动轴相对于铰...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱伟康，薛龙江，王中明，李延忠，林游，林凯，
申请(专利权)人：瑞安市五星铜业有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33