一种铜板去氧化清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体设有进口、出口、清洗机构、传输机构、抛光机构，所述传输机构包括辊轮和传输带，所述清洗机构包括清洗剂仓与雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池、抛光液、料框，所述抛光池连接有过滤机构，其特征在于，所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输上设有沟槽，所述传输机构设有翻转组件，所述翻转组件包括拨动轴，所述拨动轴固连有拨动板，本实用新型专利技术的有益效果为：提供一种铜板去氧化清洁装置，一次去氧化行程内可对铜板两面进行去初步清洁处理，提高铜板抛光处理有效率，进而缩短铜板去氧化周期，降低铜板加工成本。

【技术实现步骤摘要】
一种铜板去氧化清洁装置
本技术涉及铜加工装置
，具体涉及一种铜板去氧化清洁装置。
技术介绍
铜面氧化是指氧元素与另外一种金属化学元素组成的二元化合物，如氧化铁(Fe2O3)、氧化钠（Na2O）等，现有技术中存在多种铜板氧化清洁装置，其中公开号为“CN207806067U”的专利公开了一种铜板去氧化清洁装置，其结构包括清洗装置、机壳、传输带、清洗剂仓、雾化喷头、控制装置、承料篮、时间继电器、抛光液仓、滤板，所述清洗装置上设有机壳，所述机壳的内部设有传输带，所述传输带的上方设有清洗剂仓，所述传输带通过机壳与清洗剂仓接触连接，所述清洗剂仓的下方固定设有雾化喷头，清洗装置的侧面设有控制装置，所述控制装置的内部设有承料篮，其有益效果是可通过设置带有驱动器的旋轮，配合连接杆对承料篮进行移动，再通过设置带有时间继电器的泵体，可对抛光液进行定时自主抽取，通过设置带有渐窄道的滤板，可对抛光液进行过滤，结构简单，易于实现。但是，上述技术方案中，只能实现铜板的单面去进行清洗，即与雾化喷头相对铜面的清洁，铜板相对于雾化喷头另一板面不清洁干净，会导致后期铜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体一侧设有铜板进口，所述机体相对于铜板进口一端的另一端设有可闭合出口，所述机体内位于进口一侧上方设有清洗机构，所述机体内位于清洗机构下方设有传输机构，所述传输机构包括若干组并排组合的辊轮以及包覆在辊轮外周的传输带，所述机体位于出口端设有抛光机构，所述清洗机构包括清洗剂仓以及与清洗剂仓可导通的雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池，所述抛光池内设有抛光液，所述抛光池内位于传输带一端设有料框，所述抛光池底部连接有过滤机构，其特征在于：所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，所述传输机构位...

【技术特征摘要】
1.一种铜板去氧化清洁装置，包括机体，所述机体一侧设有铜板进口，所述机体相对于铜板进口一端的另一端设有可闭合出口，所述机体内位于进口一侧上方设有清洗机构，所述机体内位于清洗机构下方设有传输机构，所述传输机构包括若干组并排组合的辊轮以及包覆在辊轮外周的传输带，所述机体位于出口端设有抛光机构，所述清洗机构包括清洗剂仓以及与清洗剂仓可导通的雾化喷头，所述抛光机构包括抛光池，所述抛光池内设有抛光液，所述抛光池内位于传输带一端设有料框，所述抛光池底部连接有过滤机构，其特征在于：所述雾化喷头设有第一雾化喷头与第二雾化喷头，所述传输带位于第一雾化喷头与第二雾化喷头之间设有向地面方向凹陷的沟槽，所述传输机构位于第一雾化喷头下方靠近沟槽一端设有可翻动铜板的翻转组件，所述翻转组件包括铰接在辊轮外端的拨动轴，所述拨动轴相对于铰...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱伟康，薛龙江，王中明，李延忠，林游，林凯，
申请(专利权)人：瑞安市五星铜业有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33