一种方便靶材轧制的胶塞及胶套制造技术

本实用新型专利技术提供了一种方便靶材轧制的胶塞及胶套，所述胶塞与粉末接触面为内凹拱形面；所述内凹拱形面的跨度方向与胶塞的宽度方向相同，所述胶套包括至少1个胶塞。本实用新型专利技术通过改变胶塞与靶材粉末接触面的形状，使冷等静压处理后的靶坯一侧具有拱形头部，使靶坯在压制过程中拱形头部与轧辊的咬入角减少，使靶坯咬入顺利，保证轧制的连续进行，从而加快了轧制进度与效率，保证了制备得到的靶材质量。

【技术实现步骤摘要】
一种方便靶材轧制的胶塞及胶套
本技术属于靶材制备
，涉及一种靶材制作设备，尤其涉及一种方便靶材轧制的胶带机胶套。
技术介绍
磁控溅射是物理气相沉积技术中的一种，包括直流溅射法、溅射镀膜以及直流磁控溅射技术，所述溅射镀膜时在真空条件下利用荷能离子轰击靶表面，使被击出的粒子沉积在基片上的技术。根据应用的不同可将靶材分为半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材与超导靶材等。靶材以高纯度金属为原料，经过锻造、轧制、热处理以及机加工等工艺，使所述高纯度金属内部晶粒尺寸减小、致密度增加，从而形成溅射性能符合要求的靶材，靶材的溅射性能制约着镀膜的力学性能，影响镀膜质量。以钼铌合金溅射靶材为例，CN110257784A公开了一种高致密度钼铌合金溅射靶材的制作工艺，包括：原料混合；胶套装粉作业；冷等静压作业，升压至一定压力后，保压一定时间，然后泄压，最后将压制坯从胶套去除；真空烧结或氢气保护烧结；热等静压作业，对烧结坯直接进行热等静压作业；热轧，对钼铌合金进行金属包套轧制，热轧后退火去除应力；进行磨削等机加工，得到最终所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方便靶材轧制的胶塞，其特征在于，所述方便靶材轧制的胶塞与粉末接触面为内凹拱形面；所述内凹拱形面的跨度方向与胶塞的宽度方向相同；/n所述方便靶材轧制的胶塞的长度为315-340mm；/n所述方便靶材轧制的胶塞的宽度为100-135mm；/n所述方便靶材轧制的胶塞的厚度为110-130mm；/n所述内凹拱形面的高度为25-35mm；/n所述内凹拱形面为内凹圆弧拱形面；/n所述内凹拱形面的端点弦切角为30-60°。/n

【技术特征摘要】
1.一种方便靶材轧制的胶塞，其特征在于，所述方便靶材轧制的胶塞与粉末接触面为内凹拱形面；所述内凹拱形面的跨度方向与胶塞的宽度方向相同；
所述方便靶材轧制的胶塞的长度为315-340mm；
所述方便靶材轧制的胶塞的宽度为100-135mm；
所述方便靶材轧制的胶塞的厚度为110-130mm；
所述内凹拱形面的高度为25-3...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，郭红波，潘杰，王学泽，丁跃跃，
申请(专利权)人：宁波江丰钨钼材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33