【技术实现步骤摘要】
一种激光器巴条的光束指向性偏差计算系统
本专利技术涉及激光应用
,尤其涉及一种激光器巴条的光束指向性偏差计算系统。
技术介绍
半导体激光器由于其高功率、高效率、体积小、寿命长、波长覆盖范围广、可靠性高、体积小和成本低廉等特点,被广泛应用于通讯、生物医疗、泵浦及军事等诸多领域,尤其在材料加工领域。半导体激光器是激光加工的核心元器件,它的性能通过光束特性参数来表征。对于大功率半导体激光器而言,远场光强分布呈现两个束瓣或更多束瓣。根据半导体激光器远场光场的近似描述理论,用双偏心椭圆高斯光束模型来模拟其光场。半导体激光器的发散角很大,慢轴光束质量很差,难以达到直接应用的要求,而且无法通过透镜等常规光学元件实现光束质量的改善,因此有必要利用特殊的光学手段对光源(发光单元)进行整形。发光单元的光束指向性偏差是影响光纤耦合的一个重要因素,所以需要计算巴条每个发光单元光束的指向性,筛选满足要求的巴条才能投入科研项目中使用。在实践中,实验人员常常利用狭缝计算发光单元光束的指向性偏差。由于巴条封装比较紧凑,激光器光束的快轴 ...
【技术保护点】
1.一种激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,包括:/n半导体激光器的光场分布模型、采集图像数据的实验平台以及光束指向性偏差的计算单元;/n所述实验平台采集巴条的光束的图像数据,并将所述图像数据输入至所述光场分布模型;/n所述光场分布模型输出所述计算单元基于所述图像数据计算得到的所述光束的指向性偏差。/n
【技术特征摘要】
1.一种激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,包括:
半导体激光器的光场分布模型、采集图像数据的实验平台以及光束指向性偏差的计算单元;
所述实验平台采集巴条的光束的图像数据,并将所述图像数据输入至所述光场分布模型;
所述光场分布模型输出所述计算单元基于所述图像数据计算得到的所述光束的指向性偏差。
2.根据权利要求1所述的激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,所述光场分布模型包括发光单元的光场分布模型以及巴条的光场分布模型。
3.根据权利要求2所述的激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,所述发光单元的光场分布模型是根据所述半导体激光器远场光场的近似描述理论,利用非傍轴标量理论,用双偏心圆高斯光束模型模拟光场得到的。
4.根据权利要求2所述的激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,所述发光单元的光场分布模型包括发光单元的远场光场模型和光束整形后的发光单元的远场光场模型。
5.根据权利要求2所述的激光器巴条的光束指向性偏差计算系统,其特征在于,所述巴条的光场分布模型是以巴条的中心位置作为坐标原点建立空间坐标系,将若干个发光单元的光场分布模型进行叠加后得到的远场光强分布模型。
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【专利技术属性】
技术研发人员:秦文斌,赵云哲,李景,王智勇,
申请(专利权)人:北京工业大学,
类型:发明
国别省市:北京;11
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