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一种可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面制造技术

技术编号:26503125 阅读:48 留言:0更新日期:2020-11-27 15:30
本发明专利技术公开了一种可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面,其特征在于,包括基底层(1),位于所述基底层(1)之上的导模共振超表面层;所述导模共振超表面层包括硅介质平板(2),所述硅介质平板(2)上沿两正交方向周期性刻蚀出凹槽,其中凹槽深度小于所述硅介质平板(2)的厚度;在所述凹槽内表面依次填充介质层(3)、透明导电氧化物层(4);所述硅介质平板(2)的非凹槽区设有第一电极(5),所述透明导电氧化物层(4)上设有第二电极(6)。本发明专利技术能够同时独立调制两正交偏振态,可以用于更加复杂的应用场景,在未来光器件集成领域具有广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面
本专利技术涉及光通信、光互联以及光器件集成领域,具体说,涉及一种基于导模共振与透明导电氧化物(Transparent-Conducting-Oxide,TCO)的可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面。
技术介绍
电磁超表面是具有波长级厚度的人造材料,可按需人工调整电磁响应,为控制入射波的局部幅度,相位和极化提供了一种很有前途的解决方案,从而在波前控制中开辟了新途径,广泛用于聚焦透镜、波片、分束器、波导模式控制和全息图。间隙等离子激元、米氏共振、Pancharatnam-Berry(PB)相位和导模共振常常用于设计和优化超表面。无源超表面已经被学者们深入研究,其卓越的性能、较高的设计自由度、激发了人们探索更复杂应用的欲望,有源超表面应运而生。目前已经提出了许多技术来实现在红外、近红外(NIR)和可见频率下的超表面的动态控制,包括机械驱动、弹性聚合物以及利用有源材料,例如液晶半导体、相变材料和透明导电氧化物(TCO)。但是,这些超表面中的大多数都包含金属,从而导致了较大的吸收损耗和反射结构的局限性。全透本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面,其特征在于,包括基底层(1),位于所述基底层(1)之上的导模共振超表面层;所述导模共振超表面层包括硅介质平板(2),所述硅介质平板(2)上沿两正交方向周期性刻蚀出凹槽,其中凹槽深度小于所述硅介质平板(2)的厚度;在所述凹槽内表面依次填充介质层(3)、透明导电氧化物层(4);所述硅介质平板(2)的非凹槽区设有第一电极(5),所述透明导电氧化物层(4)上设有第二电极(6)。/n

【技术特征摘要】
1.一种可工作于任意偏振态的光透过率调制超表面,其特征在于,包括基底层(1),位于所述基底层(1)之上的导模共振超表面层;所述导模共振超表面层包括硅介质平板(2),所述硅介质平板(2)上沿两正交方向周期性刻蚀出凹槽,其中凹槽深度小于所述硅介质平板(2)的厚度;在所述凹槽内表面依次填充介质层(3)、透明导电氧化物层(4);所述硅介质平板(2)的非凹槽区设有第一电极(5),所述透明导电氧化物层(4)上设有第二电极(6)。


2.如权利要求1所述的光透过率调制超表面,其特征在于,所述两正交方向的凹槽的槽宽相同或不同均可。


3.如权利要求1或2所述的光透过率调制超表面,其特征在于,不同凹槽内的介质层(3)厚度相同或不同均可;不同凹槽内的透明导电氧化物层(4)宽度、厚度相同或不同均可。


4.如权利要求1所述的光透过率调制超表面,其特征在于,所述第一电极(5)为能与硅形成欧姆接触的金属;所述第二电极(6)为能与...

【专利技术属性】
技术研发人员:仇晓明李艳萍张帆
申请(专利权)人:北京大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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