一种反射阵天线及其设计方法技术

技术编号:26481429 阅读:40 留言:0更新日期:2020-11-25 19:27
本发明专利技术属于宽频液晶反射阵天线领域,具体涉及一种反射阵天线及其设计方法,所述反射阵天线包括馈源和反射阵面,馈源和反射阵面的组成形式为正馈或偏馈;所述反射阵面包括可控介电常数层及其上贴合的m行*n列的反射阵单元;所有反射阵单元采用相同的控制电压。本发明专利技术从材料的介电常数调节着手,可以展宽已有的反射阵天线的带宽,解决了现有反射阵天线频带展宽问题。

【技术实现步骤摘要】
一种反射阵天线及其设计方法
本专利技术属于宽频液晶反射阵天线
,具体是一种可展宽反射阵带宽的反射阵天线及其设计方法。
技术介绍
反射阵天线一般由馈源和反射阵组成。馈源可采用任意天线形式,馈源辐射的电磁波照射在反射阵上,经过反射阵反射后在阵列口面上形成不同的幅度和相位分布。反射阵的设计可以类比抛物面天线,即馈源的摆放位置应位于反射阵的“焦点”或“焦线”上。抛物面天线虽然可以形成高增益的波束,但是体积太大,不利于小型化。反射阵天线相比于抛物面天线可以降低剖面,还可以利用折叠、可展开等技术,便于天线的小型化设计。为了实现反射阵天线的波束赋形,现有研究已将反射阵的介质材料替换为介电常数可调的材料,最广泛的研究对象即为液晶材料。但这些研究都是对反射阵的一个单元或一组单元介电常数进行调节,使不同的调节单元具有不同的介电常数。由于反射阵天线单元数量成百上千,因而这种调节形式结构复杂。现有反射阵单元的结构如图1和图2所示,其中图1为反射阵结构的俯视图,图1中,多个矩形为刻蚀在微带板材或隔离层(一般为石英)上的金属,圆形为可控介电常本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反射阵天线,包括馈源和反射阵面,馈源和反射阵面的组成形式为正馈或偏馈;其特征在于,所述反射阵面包括可控介电常数层及其上贴合的m行*n列的反射阵单元;所有反射阵单元连接同一个电压控制器。/n

【技术特征摘要】
1.一种反射阵天线,包括馈源和反射阵面,馈源和反射阵面的组成形式为正馈或偏馈;其特征在于,所述反射阵面包括可控介电常数层及其上贴合的m行*n列的反射阵单元;所有反射阵单元连接同一个电压控制器。


2.根据权利要求1所述的反射阵天线,其特征在于,所述可控介电常数层的层数为1层。


3.根据权利要求1所述的反射阵天线,其特征在于,所述可控介电常数层的介电常数可调范围εv-εh为2.32到3.11。


4.根据权利要求1所述的反射阵天线,其特征在于,反射阵单元采用四臂阿基米德螺旋单元结构,21行*19列反射阵单元的排列方式,扇形波束反射阵天线。


5.根据权利要求1所述的反射阵天线,其特征在于,按照介电常数的中间值设置反射阵,不同位置的反...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈雪陈博王宏建易敏刘广
申请(专利权)人:中国科学院国家空间科学中心
类型:发明
国别省市:北京;11

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