一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法技术

本发明专利技术公开了一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法，属于近场成像技术领域，包括以下步骤：步骤一：发射阵列和接收阵列在电机带动下匀速运动；步骤二：发射阵列对准待成像目标发送微波信号；步骤三：接收阵列接收目标回波信号；步骤四：将接收到的回波信号利用近场成像算法进行成像；采用循环滚动方法，利用内部电机带动一维阵列天线对待成像物品进行循环扫描，省略了每次扫描的加速和减速过程，在保证一维阵列低成本优势的基础上，扫描速度大大提升。并针对滚动式循环扫描技术的特性，提供了一种成像精度高、计算量小，适用于滚动式循环扫描雷达的近场成像算法。

【技术实现步骤摘要】
一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法
本专利技术涉及近场成像
，更具体地说，涉及一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法。
技术介绍
近年来随着微波近场理论的逐渐完善，近场三维成像技术已经进入实际工程应用阶段，人体安检高分辨成像的需求越来越迫切，因此出现了多种微波近场成像技术。目前近场成像技术根据体制的不同大致可分为三种：实孔径成像技术、多基平面阵列扫描成像技术和合成孔径成像技术。实孔径成像技术是基于阵列雷达的波束形成理论，通过合成波束进行扫描得到目标回波信号，然后利用后向投影算法或RMA算法进行图像重构得到目标图像。这种技术要获得高分辨率的图像，需要极多的天线阵元数目和系统通道，系统成本高。多基平面阵列扫描成像技术基于MIMO原理对实孔径阵列进行稀疏化，能够在保证成像分辨率的情况下大大降低天线阵元和通道数目。但其天线阵元数目和系统通道数目仍然是一维阵列几十倍甚至上百倍。合成孔径成像技术，一般利用电机带动一维阵列对目标进行扫描，然后利用成像算法进行成像。这种方式天线阵元数目和系统通道数目少，系统成本低。但是目前合成孔径本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤一：发射阵列和接收阵列在电机带动下匀速运动；/n步骤二：发射阵列对准待成像目标发送微波信号；/n步骤三：接收阵列接收目标回波信号；/n步骤四：将接收到的回波信号利用近场成像算法进行成像。/n

【技术特征摘要】
1.一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：发射阵列和接收阵列在电机带动下匀速运动；
步骤二：发射阵列对准待成像目标发送微波信号；
步骤三：接收阵列接收目标回波信号；
步骤四：将接收到的回波信号利用近场成像算法进行成像。


2.根据权利要求1所述的一种滚动式一维阵列雷达的近场成像方法，其特征在于：在步骤二中，所述的发射信号为：
s(tT)＝exp(j2πft)(1)
在步骤三中，所述的目标回波信号为：
s(tR)＝∫σ(x,y,z)·exp[j2πf(t-τT-τR)]dxdydz(2)
其中，σ(x,y,z)为目标散射函数，发射阵元和接收阵元到散射点的延时分别为






所示发射阵列和接收阵列处于同一平面，两线阵之间间距为d，因此发射阵元和接收阵元到散射点的距离可以用同一个y坐标表示，由于阵列处于运动中，因此有
yT＝y0+vt＝y0+2πωrt
dtr＝2πrωτ＝2πrω(τT+τR)
上式中y0为发射阵元发射信号时的坐标位置，dtr为信号从发射阵元到接收阵元期间内，接收阵元移动的距离，由于微波信号光速传播，近场情况下传播时间为纳秒级，因此dtr极小，对相位影响可以忽略，则该项可以忽略，因此发射阵元和接收阵元到散射点的延时可变为






为了简化计算，令初始位置y0＝0,发射阵元和接收阵元到散射点的延时分别为






令RT为信号从发射阵元到散射体的距离，RR为信号从散射体到接收阵元的距离，RT0为发射阵元发射时刻位置，因此公式(...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙龙，张仕山，尤坤，李坤，
申请(专利权)人：安徽雷鼎电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34