一种光栅式反射扩束系统技术方案

技术编号:26461715 阅读:36 留言:0更新日期:2020-11-25 17:32
本实用新型专利技术公开了一种光栅式反射扩束系统,包括光栅一和光栅二,所述光栅一水平设置,光栅二位于光栅一正上方且倾斜设置,平行光以光斑直径d,入射角度α入射到光栅一表面,光栅一的刻划线排布在XY平面上,沿X方向,光栅二的刻划线排布在YZ平面上,沿Y方向,光栅一和光栅二光束入射角度、光栅周期b、刻划高度c、光栅倾斜角度均相同,光斑直径d的范围是0.01mm到100mm,入射角度α的范围是0.001mrad到1rad,本实用新型专利技术光栅式反射扩束系统采用较少的镜片组成,且具有较高的效率,使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种光栅式反射扩束系统
本技术涉及光学
,具体是一种光栅式反射扩束系统。
技术介绍
传统的光学扩束系统一般为多片透镜组成的透射式结构,扩束的倍数往往与系统的光学总长、镜片尺寸相关,系统复杂且成像质量和效率较差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种光栅式反射扩束系统,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种光栅式反射扩束系统,包括光栅一和光栅二,所述光栅一水平设置,光栅二位于光栅一正上方且倾斜设置,平行光以光斑直径d,入射角度α入射到光栅一表面,光栅一和光栅二表面刻划结构为三角形,刻划周期b为0.01mm到100mm之间,刻划倾斜角β为0.001mrad到1rad之间,光栅一的刻划线排布在XY平面上,沿X方向,光栅二的刻划线排布在YZ平面上,沿Y方向,光栅一和光栅二光束入射角度、光栅周期b、刻划高度c、光栅倾斜角度均相同,光斑直径d的范围是0.01mm到100mm,入射角度α的范围是0.001mrad到1rad。作为本技术的进一步技术方案:所述光栅二倾斜面镀有增本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光栅式反射扩束系统,包括光栅一(1)和光栅二(2),其特征在于,所述光栅一(1)水平设置,光栅二(2)位于光栅一(1)正上方且倾斜设置,平行光以光斑直径d,入射角度α入射到光栅一(1)表面,光栅一(1)和光栅二(2)表面刻划结构为三角形,刻划周期b为0.01mm到100mm之间,刻划倾斜角β为0.001mrad到1rad之间,光栅一(1)的刻划线排布在XY平面上,沿X方向,光栅二(2)的刻划线排布在YZ平面上,沿Y方向,光栅一(1)和光栅二(2)光束入射角度、光栅周期b、刻划高度c、光栅倾斜角度均相同,光斑直径d的范围是0.01mm到100mm,入射角度α的范围是0.001mrad到1...

【技术特征摘要】
1.一种光栅式反射扩束系统,包括光栅一(1)和光栅二(2),其特征在于,所述光栅一(1)水平设置,光栅二(2)位于光栅一(1)正上方且倾斜设置,平行光以光斑直径d,入射角度α入射到光栅一(1)表面,光栅一(1)和光栅二(2)表面刻划结构为三角形,刻划周期b为0.01mm到100mm之间,刻划倾斜角β为0.001mrad到1rad之间,光栅一(1)的刻划线排布在XY平面上,沿X方向,光栅二(2)的刻划线排布在YZ平面上,沿Y方向,光栅一(1)和光栅二(2)光束入射角度、光栅周期b、刻划高度c、光栅倾斜角度均相同,光斑直径d的范围是0.01mm到100mm,入射角度α的范围是0.001m...

【专利技术属性】
技术研发人员:艾中凯刘刚晏宗飞
申请(专利权)人:上海恒光智影医疗科技有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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