一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺制造技术

本发明专利技术实施例提供了一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺，该制备工艺先先在阵列式凸起模板的凸起面进行涂覆和固化处理，得到表面覆盖有有机隔离层的阵列式凸起模板，再将阵列式凸起模板浸入前驱体溶液中，待所述的凸起面润湿后，将衬底固定于所述的凸起面上，得到复合模具，然后将所述复合模具从前驱体溶液中移出，最后将复合模具烘干后进行程序升温加热，冷却后脱模即得所述的阵列式多孔氧化物薄膜。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺
本专利技术属于氧化物薄膜制备
，具体涉及一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺。
技术介绍
阵列式氧化物多孔薄膜具有比表面积大、化学性能稳定、光电性能优异等优点，可广泛应用于光催化、光电探测器、气敏传感器和生物传感器等领域。制备阵列式氧化物多孔薄膜的常用方法之一是使用聚苯乙烯(Polystyrene，缩写为PS)微球。现有技术中，第一种方法是先将PS微球均匀的平铺一层在衬底上，然后将衬底浸入前驱体溶液，再提拉溶液，利用毛细管力在PS微球和衬底之间吸附一层薄的前驱体溶液，之后再高温退火去除PS微球，并使前驱体溶液转变为多孔氧化物薄膜。如CN109813768A公开了一种单层多孔气敏膜、其制备方法及用途，该专利申请文件披露的方法首先在整片传感器基底上平铺单层有机微球作为掩膜板，然后沉积氧化物气敏薄膜，最后去除单层有机微球掩膜板，得到单层多孔气敏膜。该专利技术的方法将传统致密的二维薄膜切割成多孔网状结构，其比表面积大，增加了孔隙率、提高了薄膜与气体之间的相互作用面积，进而增加了灵敏度，然而重复本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：在阵列式凸起模板的凸起面进行涂覆和固化处理，得到表面覆盖有有机隔离层的阵列式凸起模板；/nS2：将步骤S1得到的表面覆盖有有机隔离层的阵列式凸起模板浸入前驱体溶液中，待所述的凸起面润湿后，将衬底固定于所述的凸起面上，得到复合模具；/nS3：将所述复合模具从前驱体溶液中移出，移出过程保持复合模具处于水平状态；/nS4：将所述复合模具烘干后进行程序升温加热，冷却后脱模即得所述的阵列式多孔氧化物薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列式多孔氧化物薄膜的模板法制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在阵列式凸起模板的凸起面进行涂覆和固化处理，得到表面覆盖有有机隔离层的阵列式凸起模板；
S2：将步骤S1得到的表面覆盖有有机隔离层的阵列式凸起模板浸入前驱体溶液中，待所述的凸起面润湿后，将衬底固定于所述的凸起面上，得到复合模具；
S3：将所述复合模具从前驱体溶液中移出，移出过程保持复合模具处于水平状态；
S4：将所述复合模具烘干后进行程序升温加热，冷却后脱模即得所述的阵列式多孔氧化物薄膜。


2.根据权利要求1所述的模板法制备工艺，其特征在于，所述阵列式凸起模板为表面图形化的蓝宝石模板、硅模板、金属模板和陶瓷模板中的一种。


3.根据权利要求1所述的模板法制备工艺，其特征在于，所述凸起面的凸起形状包括圆柱形、棱锥形、棱台形和半球形。


4.根据权利要求1所述的模板法制备工艺，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨为家，王凤鸣，关则毅，何鑫，曾庆光，
申请(专利权)人：五邑大学，
类型：发明
国别省市：广东;44