【技术实现步骤摘要】
一种基于真空环境下回收粉末装置
本专利技术涉及真空机械领域,尤其涉及的是一种基于真空环境下回收粉末装置。
技术介绍
在真空环境下给芯片喷涂纳米级粉末后,基于成本和保证设备正常运行的要求,需要对多余的粉末进行回收,若不及时对粉末进行回收,真空泵在再一次抽真空时,过多的粉末会被吸入泵中,破坏泵的结构。在真空环境下,对多余的纳米粉末进行回收时,一般会在真空泵与真空腔体间接入纳米级粉末回收装置。如专利有CN201320561879.8,该专利利用旋风分离式回收器与脉冲反吹式过滤器,对多余的喷粉能循环回收利用,解决了未被吸附粉料对空气造成的污染问题。但是,该专利的所设计的装置结构复杂,费用成本高,无法很好过滤掉纳米级粉末,在回收粉末的同时不能持续保证真空环境,严重影响设备的工作效率。因此,现有的技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于真空环境下回收粉末装置,旨在解决现有的纳米级粉末回收装置结构复杂,费用成本高,无法很好过滤掉纳米级粉末,在回收粉末的同时不能持续保证真空 ...
【技术保护点】
1.一种基于真空环境下回收粉末装置,其特征在于,包括可通过气体但粉末不能通过的粉末收集罐(3),所述粉末收集罐(3)的气体入口与真空腔体(1)连通,粉末收集罐(3)的气体出口与抽真空装置连通:抽真空装置启动,使真空腔体(1)内形成真空环境,对真空腔体(1)内的芯片进行粉末喷涂,真空腔体(1)内多余的粉末由于压力差被吸入到粉末收集罐(3)内实现收集。/n
【技术特征摘要】
1.一种基于真空环境下回收粉末装置,其特征在于,包括可通过气体但粉末不能通过的粉末收集罐(3),所述粉末收集罐(3)的气体入口与真空腔体(1)连通,粉末收集罐(3)的气体出口与抽真空装置连通:抽真空装置启动,使真空腔体(1)内形成真空环境,对真空腔体(1)内的芯片进行粉末喷涂,真空腔体(1)内多余的粉末由于压力差被吸入到粉末收集罐(3)内实现收集。
2.根据权利要求1所述的基于真空环境下回收粉末装置,其特征在于,在粉末收集罐(3)内设置有可通过气体但粉末不能通过的粉末过滤层(5)。
3.根据权利要求2所述的基于真空环境下回收粉末装置,其特征在于,所述粉末过滤层(5)设置多层,多层粉末过滤层(5)由上到下依次设置在粉末收集罐(3)内。
4.根据权利要求2所述的基于真空环境下回收粉末装置,其特征在于,所述粉末过滤层(5)设置一层。
5.根据权利要求2至4任一所述的基于真空环境下回收粉末装置,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭远军,何斌,侯少毅,黎天韵,方威,卫红,
申请(专利权)人:季华实验室,
类型:发明
国别省市:广东;44
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