【技术实现步骤摘要】
涂布装置以及涂布方法
本专利技术涉及一种涂布装置以及涂布方法。
技术介绍
为了在半导体或者玻璃等基板形成薄膜，已知有将规定的液体从狭缝喷嘴等排出至基板上的涂布装置(例如，参照专利文献1)。在使用狭缝喷嘴的涂布装置中，在涂布时需要适当地调整基板表面与狭缝喷嘴下端的距离即涂布间隙。在专利文献1所记载的涂布装置中，在基板载置部中、利用狭缝喷嘴进行涂布的涂布开始侧设置有检测部，使用该检测部的结果来调整狭缝喷嘴相对于基板载置部的载置面的高度。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第4803714号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题在近年来的涂布装置中，基板的大型化伴随有基板载置部大型化，进而狭缝喷嘴的宽度也增大，且移动范围也变宽。结果，难以确保载置面与狭缝喷嘴下端移动的面(移动面)之间的平行度。由于载置于载置面的基板以沿着载置面的方式配置，因此若载置面与狭缝喷嘴下端的移动面变得不再平行，则仅仅在涂布开始侧调整狭缝喷嘴的高度位置，有可能在涂布中无法确保适当的涂布间隙...
【技术保护点】
1.一种涂布装置，具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿着所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，其特征在于，具有：/n开始侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；/n结束侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布结束侧中在所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；/n控制部，根据在所述开始侧检测部得到的所述...
【技术特征摘要】
20190514 JP 2019-0912671.一种涂布装置，具有：基板载置部，具备载置基板的载置面；狭缝喷嘴，对载置于所述载置面的基板的上表面排出涂布液；移动装置，使所述基板载置部与所述狭缝喷嘴在沿着所述载置面的第一方向上相对地移动；升降装置，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板升降，其特征在于，具有：
开始侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布开始侧中与所述第一方向相交的第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的开始侧高度；
结束侧检测部，设置在所述基板载置部的涂布结束侧中在所述第二方向上分开的两处位置，分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的结束侧高度；
控制部，根据在所述开始侧检测部得到的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的所述结束侧高度，生成与所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的水平基准以及高度基准相关的教导数据，基于所述教导数据来控制所述移动装置以及所述升降装置。
2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
所述控制部根据在所述开始侧检测部得到的两处位置的所述开始侧高度以及在所述结束侧检测部得到的两处位置的所述结束侧高度来设定假想面，生成所述教导数据，从而校正所述假想面相对于所述载置面的偏差，使所述狭缝喷嘴的前端在从涂布开始到涂布结束的整个期间沿着所述载置面。
3.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，
所述假想面为平面或者扭曲的面。
4.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，
在所述基板载置部的涂布开始侧与涂布结束侧之间的、在所述第二方向上分开的两处位置，设置有分别检测所述狭缝喷嘴相对于所述载置面的中间位置高度的中间位置检测部，
所述控制部根据两处位置的所述开始侧高度、两处位置的所述结束侧高度以及两处位置的所述中间位置高度设定所述假想面。
5.如权利要求1～4的任一项所述的涂布装置，其特征在于，
所述控制部通过所述移动装置使所述基板与所述狭缝喷嘴相对地移动，在对所述基板排出涂布液的排出开始到排出结束的期间，基于所述教导数据，通过所述升降装置控制所述狭缝喷嘴相对于所述基板的高度。
6.如权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，
所述控制部通过所述升降装置控制所述狭缝喷嘴相对于所述基板的高度，以使在通过所述狭缝喷嘴向所述基板排出涂...
【专利技术属性】
技术研发人员：近藤士朗，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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