微流道及其制备方法和操作方法技术

一种微流道(100)及其制备方法和操作方法。微流道(100)包括：通道结构，包括允许液体样品流动通过的通道(110)以及围绕通道(110)的通道壁，其中，通道壁包括由电解质材料形成的电解质层(121)，以及位于电解质层(121)远离通道(110)一侧的控制电极层(130)，相对于通道(110)，控制电极层(130)与电解质层(121)重叠。以及制备和操作微流道(100)的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微流道及其制备方法和操作方法
本公开的实施例涉及一种微流道及其制备方法和操作方法。
技术介绍
微纳流控学(MicrofluidicsandNanofluidics)是涉及物理、化学、工程、材料和生物学等领域的一门新兴前沿交叉学科。近几年，微纳流控学发展迅速，特别是其众多的潜在优势和广泛的应用前景受到世界学术界和产业界的极大关注。微纳流控通道是微纳流控芯片及传感器等微纳流控器件中不可或缺的重要组成结构。
技术实现思路
本公开的至少一个实施例提供了一种微流道，其包括：通道结构，包括允许液体样品流动通过的通道以及围绕所述通道的通道壁，其中，所述通道壁包括由电解质材料形成的电解质层，以及控制电极层，位于所述电解质层远离所述通道一侧，其中，相对于所述通道，所述控制电极层与所述电解质层重叠。例如，在根据本公开一些实施例的微流道中，所述电解质层暴露于所述通道中从而在操作中允许与所述液体样品接触。例如，在根据本公开一些实施例的微流道中，所述电解质层围绕部分所述通道。例如，在根据本公开一些实施例的微流道中，所述通道壁还本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微流道，包括：/n通道结构，包括允许液体样品流动通过的通道以及围绕所述通道的通道壁，其中，所述通道壁包括由电解质材料形成的电解质层，以及/n控制电极层，位于所述电解质层远离所述通道一侧，其中，相对于所述通道，所述控制电极层与所述电解质层重叠。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种微流道，包括：
通道结构，包括允许液体样品流动通过的通道以及围绕所述通道的通道壁，其中，所述通道壁包括由电解质材料形成的电解质层，以及
控制电极层，位于所述电解质层远离所述通道一侧，其中，相对于所述通道，所述控制电极层与所述电解质层重叠。


根据权利要求1所述的微流道，其中，所述电解质层暴露于所述通道中从而在操作中允许与所述液体样品接触。


根据权利要求1或2所述的微流道，其中，所述电解质层围绕部分所述通道。


根据权利要求1-3任一所述的微流道，其中，所述通道壁还包括第一壁层，
所述第一壁层暴露于所述通道中从而在操作中允许与所述液体样品接触，形成所述第一壁层的材料与形成所述电解质层的所述电解质材料不同。


根据权利要求1所述的微流道，其中，所述通道壁还包括第二壁层，
所述电解质层位于所述第二壁层远离所述通道的一侧，形成所述第二壁层的材料与形成所述电解质层的所述电解质材料不同。


根据权利要求1-5任一所述的微流道，还包括衬底基板，其中，所述控制电极层位于所述衬底基板上，所述通道结构位于所述控制电极层远离所述衬底基板的一侧。


根据权利要求1-6任一所述的微流道，其中，所述控制电极层包括位于所述通道的相对两侧的第一电极部分和第二电极部分。


根据权利要求7所述的微流道，其中，所述电解质层包括位于所述第一电极部分上的第一部分和位于所述第二电极部分上的第二部分，所述第一部分与所述第二部分接触，从而在所述第一部分和所述第二部分之间限定所述通道。


根据权利要求1-7任一所述的微流道，还包括盖板，其中，所述盖板位于所述通道结构一侧以部分限定所述通道。


根据权利要求1-9中任一所述的微流道，其中，所述电解质材料包括无机电解质材料或聚合物电解质材料。


根据权利要求5所述的微流道，其中，所述电解质材料呈液态，且所述通道结构包括开孔结构，所述开孔结构配置为在操作中允许容纳所述电解质材料，以形成所述电解质层。

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【专利技术属性】
技术研发人员：马啸尘，袁广才，宁策，李正亮，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11