【技术实现步骤摘要】
一种判断半导体激光器芯片光学灾变类型的方法
本专利技术属于半导体激光器失效分析领域,具体涉及一种判断半导体激光器芯片光学灾变类型的方法。
技术介绍
半导体激光器作为间接或直接光源越来越多地应用于激光光纤通信、工业造船、汽车制造、激光雕刻、激光打标、激光切割、印刷制辊、金属非金属钻孔/切割/焊接等领域。同时,随着智能化和微型化的发展,半导体激光器逐渐成为光纤激光器的主要泵源。若半导体激光器芯片要发挥外延设计时的性能,则外延材料生长和芯片制造(腔面镀膜)尤为重要。外延材料生长过程中产生的缺陷或不均匀性均会影响芯片的可靠性,甚至在芯片内部出现COBD(CatastrophicOpticalBulkDamage)。芯片制造过程中的腔面镀膜工艺也是较为重要的环节,半导体激光器芯片生产时,大多在大气环境下进行腔面解理,在大气下解理的芯片腔面容易氧化,该氧化层形成非辐射复合中心。在芯片工作时,非辐射复合中心吸收光能转换成热能,导致腔面的禁带宽度变窄,进而吸收更多的光能,形成热能正反馈,最终导致腔面出现COMD(Catastroph ...
【技术保护点】
1.一种判断半导体激光器芯片光学灾变类型的方法,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤一、设置加载电流的上升步长和最大值;/n步骤二、在芯片测试过程中,根据步骤一确定的上升步长和最大值,将加载电流加载在半导体激光器芯片上;/n步骤三、采集半导体激光器芯片的电流-功率曲线、电流-电压曲线;/n步骤四、根据步骤三得到的电流-功率曲线、电流-电压曲线,判断半导体激光器芯片的失效类型;/n若电流-功率曲线突然下降,同时,电流-电压曲线突然上升,则判断芯片的光学灾变为COMD;/n若电流-功率曲线突然下降,同时,电流-电压曲线突然下降,则判断芯片的光学灾变为COBD。/n
【技术特征摘要】
1.一种判断半导体激光器芯片光学灾变类型的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、设置加载电流的上升步长和最大值;
步骤二、在芯片测试过程中,根据步骤一确定的上升步长和最大值,将加载电流加载在半导体激光器芯片上;
步骤三、采集半导体激光器芯片的电流-功率曲线、电流-电压曲线;
步骤四、根据步骤三得到的电流-功率曲线、电流-电压曲线,判断半导体激光器芯片的失效类型;
若电流-功率曲线突然下降,同时,电流-电压曲线突然上升,则判断芯片的光学灾变为COMD;
若电流-功率曲线突然下降,同时,电流-电压曲线突然下降,则判断芯片的光学灾变为COBD。
2.根据权利要求1中的判断半导体激光器芯片光学灾变类型的方法,其特征在于:步骤一中,加载电流的上升步长为0.1~1.0A,最大值为半导体激光器芯片额定电流的1.0倍~1....
【专利技术属性】
技术研发人员:任占强,李波,李青民,王宝超,李喜荣,仇伯仓,
申请(专利权)人:西安立芯光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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