一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统及再生方法技术方案

技术编号:26338009 阅读:39 留言:0更新日期:2020-11-13 19:40
本发明专利技术公开了一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统,包括电连接的控制器、自动加液系统和传感器,传感器伸入盛放蚀刻液的蚀刻槽中,自动加液系统包括两个储液罐,两个储液罐分别盛装盐酸和过氧化氢,储液罐上分别设有注射器,注射器的注射口朝向蚀刻槽。或,一种酸性氯化铜蚀刻液再生方法,包括以下步骤,实时检测蚀刻槽内蚀刻液中铜离子的浓度;当检测到铜离子的浓度超过第一阈值时,向蚀刻液中加入至少一次盐酸和过氧化氢;当检测到铜离子的浓度低于第二阈值时,停止向蚀刻液中加入盐酸和过氧化氢。本发明专利技术的酸性氯化铜蚀刻液再生系统延长了蚀刻液的使用时间,进而降低废液的处理成本,利于保护环境,且再生过程中不会产生有毒有害气体,安全性强。

An acid copper chloride etching solution regeneration system and regeneration method

【技术实现步骤摘要】
一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统及再生方法
本专利技术涉及触控屏
,尤其涉及一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统及适用于酸性氯化铜蚀刻液再生系统的再生方法。
技术介绍
大尺寸的触控屏内部核心的传感材料通常选用铜制成的金属网格,这种金属网格是将整面以PET为基材的铜膜经由压膜、曝光、显影、蚀刻、脱膜等工艺得到,其中蚀刻工艺通常采用主体为酸性氯化铜溶液的蚀刻液,蚀刻液会将PET基材表面的铜膜蚀刻掉进入蚀刻液,其反应原理为:Cu+CuCl2→2CuCl蚀刻反应生成的CuCl不溶于水,在过量的氯离子存在下,生成可溶性的络离子:2CuCl+4Cl-→2[CuCl3]2-随着越来越多的铜膜被蚀刻,蚀刻液内的Cu2+越来越少,Cu+越来越多,于是蚀刻液的的蚀刻能力下降,当蚀刻液的蚀刻能力下降到一定程度,需要将蚀刻液排出更换新的蚀刻液,被排出的蚀刻液最终流向废水处理厂,而蚀刻液中被蚀刻掉的大量的铜被浪费,且酸性废液可能造成环境污染,增加了废水处理厂的处理难度和处理成本,因此需要一种酸性氯化铜蚀刻液的再生方法及再生系统延长蚀刻液的使用时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统,其特征在于:包括电连接的控制器、自动加液系统和传感器,所述传感器伸入盛放蚀刻液的蚀刻槽中,所述自动加液系统包括两个储液罐,两个所述储液罐分别盛装盐酸和过氧化氢,所述储液罐上分别设有注射器,所述注射器的注射口朝向所述蚀刻槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种酸性氯化铜蚀刻液再生系统,其特征在于:包括电连接的控制器、自动加液系统和传感器,所述传感器伸入盛放蚀刻液的蚀刻槽中,所述自动加液系统包括两个储液罐,两个所述储液罐分别盛装盐酸和过氧化氢,所述储液罐上分别设有注射器,所述注射器的注射口朝向所述蚀刻槽。


2.根据权利要求1所述的酸性氯化铜蚀刻液再生系统,其特征在于:所述传感器为光传感器。


3.根据权利要求1所述的酸性氯化铜蚀刻液再生系统,其特征在于:所述注射器上设有流量计,所述流量计与所述控制器电连接。


4.根据权利要求1所述的酸性氯化铜蚀刻液再生系统,其特征在于:还包括用于搅拌所述蚀刻液的搅拌组件,所述搅拌组件设置在所述蚀刻槽内。


5.一种酸性氯化铜蚀刻液再生方法,其特征在于:包括以下...

【专利技术属性】
技术研发人员:苏伟叶宗和王海峰
申请(专利权)人:深圳市志凌伟业光电有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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