一种具有微纳米光栅结构的膜片及其制作方法技术

本发明专利技术技术方案公开了一种具有微纳米光栅结构的膜片及其制作方法，其中，所述膜片构成包括依次层叠的背胶层、基材层、底涂层、图像层、纳米涂层、保护膜层和印刷层，其中，所述图像层上形成有微纳米光栅结构图案。本发明专利技术的具有微纳米光栅结构的膜片耐温性能高，层间结合力强，耐老化性能优异，能满足大部分包装及卡证类产品的使用要求。

【技术实现步骤摘要】
一种具有微纳米光栅结构的膜片及其制作方法
本专利技术涉及复合膜片
，尤其是涉及一种具有微纳米光栅结构的膜片及其制作方法。
技术介绍
微纳米光栅结构应用在塑料膜上，能制作出具有全息效果的镭射膜，常被用于包装或者卡证领域。目前最为广泛的镭射膜材质主要是PET、PVC、PP这三种，但这三种镭射膜使用过程中却存在一些问题，比如因为层间结合力差或者不耐水造成的涂层脱落或者面膜分离，后续制作过程中需要较高温度而造成微纳米光栅结构被破坏影响全息效果，又或者不耐老化造成变色发黄，所以一般只能用于一些低端产品上，应用在要求较高的高端产品时，无论从性能还是使用寿命方面都存在较大的问题。
技术实现思路
本专利技术解决的技术问题是现有技术的膜会因为层间结合力差或者不耐水造成的涂层脱落或者面膜分离，后续制作过程中需要较高温度而造成微纳米光栅结构被破坏影响全息效果，又或者不耐老化造成变色发黄。为解决上述的技术问题，本专利技术技术方案提供一种具有微纳米光栅结构的膜片，其中，所述膜片构成包括依次层叠的背胶层、基材层、底涂层、图像层、纳米涂层、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述膜片构成包括依次层叠的背胶层、基材层、底涂层、图像层、纳米涂层、保护膜层和印刷层，其中，所述图像层上形成有微纳米光栅结构图案。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述膜片构成包括依次层叠的背胶层、基材层、底涂层、图像层、纳米涂层、保护膜层和印刷层，其中，所述图像层上形成有微纳米光栅结构图案。


2.根据权利要求1所述的具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述背胶层的材质为热熔胶。


3.根据权利要求1所述的具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述基材层的材质为PVC、PETG、PET、PC、ABS中的任意一种或两种复合，所述基材层的厚度为12～400微米。


4.根据权利要求1所述的具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述底涂层的材质为丙烯酸体系底涂，所述底涂层的厚度为0.5～5微米。


5.根据权利要求1所述的具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述图像层的材质为双组份或多组分反应型树脂，所述图像层的厚度为0.5～10微米。


6.根据权利要求1所述的具有微纳米光栅结构的膜片，其特征在于，所述纳米涂层的材质为高反射金属、金属化合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄斗兴，伍超孝，曹慧芬，
申请(专利权)人：上海宏盾防伪材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31