【技术实现步骤摘要】
适用于OVD沉积设备的在线清洗系统及方法
本申请涉及光纤预制棒制造
,特别涉及一种适用于OVD沉积设备的在线清洗系统及方法。
技术介绍
传统的外部气相沉积(OutsideVapourDeposition,OVD)制棒工艺主要以四氯化硅(SiCl4)作为原材料,但SiCl4本身具有强腐蚀性,同时在OVD制棒过程中会产生大量HCl、Cl2以及未反应的SiCl4等有毒、腐蚀性气体,安全风险较高,需要投入高昂的费用进行人员防护、设备防腐和维护以及废气处理,从而增加了光纤预制棒制造综合成本。随着行业产能逐渐释放,以八甲基环四硅氧烷(octamethylcyclotetrasiloxane,OMCTS,简称D4)为原材料的新型环保OVD制棒工艺获得各大厂商的青睐。相较于传统的SiCl4工艺,不含卤素的D4本身性能稳定,无毒无腐蚀,材料中含硅量高达SiCl4的两倍以上,在沉积过程中具有更高的转换效率,而且反应产物中除了SiO2粉尘外无其他有害物质释放,对环境污染小,后续尾气处理工艺简单,技术及成本优势明显。但SiCl4作为多晶硅产业的副产物,生产工艺成熟,能够为光纤行业提供所需的高纯度产品。而工业D4多是以二甲基二氯硅烷的水解物为原料,通过裂解重排反应制备而成,由于有机反应过程中副反应较多,所制备的D4产品中会混有D3、D5、D6等轻、重组分杂质,由于D4与这些杂质的结构性质相似且可以任意比例混合,通过精馏、萃取、膜分离等提纯工艺难以达到光纤预制棒外包层沉积所需的理想纯度要求。目前国内D4供应商为光纤行业所提 ...
【技术保护点】
1.一种适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于,其包括:/n清洗剂储罐(1),其上设有废气排放阀(2);/n第一管路(3),其两端均连通于所述清洗剂储罐(1),沿清洗剂流向,所述第一管路(3)上依次设有输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)和第二清洗剂阀(6),且所述第一管路(3)位于第一清洗剂阀(5)与第二清洗剂阀(6)之间的管段断开,以形成分别用于连通蒸发器(7)进口和加热料管(8)出口的第一端口(9)和第二端口(10);/n气体吹扫装置,其通过吹扫进气阀(11)连接于所述第一管路(3)上,并位于第一清洗剂阀(5)的下游;/n控制装置(12),其与所述废气排放阀(2)、输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)、第二清洗剂阀(6)、气体吹扫装置和吹扫进气阀(11)相连接,并用于控制所述废气排放阀(2)、输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)、第二清洗剂阀(6)、气体吹扫装置和吹扫进气阀(11)工作。/n
【技术特征摘要】
1.一种适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于,其包括:
清洗剂储罐(1),其上设有废气排放阀(2);
第一管路(3),其两端均连通于所述清洗剂储罐(1),沿清洗剂流向,所述第一管路(3)上依次设有输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)和第二清洗剂阀(6),且所述第一管路(3)位于第一清洗剂阀(5)与第二清洗剂阀(6)之间的管段断开,以形成分别用于连通蒸发器(7)进口和加热料管(8)出口的第一端口(9)和第二端口(10);
气体吹扫装置,其通过吹扫进气阀(11)连接于所述第一管路(3)上,并位于第一清洗剂阀(5)的下游;
控制装置(12),其与所述废气排放阀(2)、输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)、第二清洗剂阀(6)、气体吹扫装置和吹扫进气阀(11)相连接,并用于控制所述废气排放阀(2)、输送泵(4)、第一清洗剂阀(5)、第二清洗剂阀(6)、气体吹扫装置和吹扫进气阀(11)工作。
2.如权利要求1所述的适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于:所述在线清洗系统还包括第二管路,所述第二管路的一端连接于所述第一管路(3)上,并位于第二清洗剂阀(6)的上游,所述第二管路上设有吹扫排气阀(13),所述控制装置(12)还与所述吹扫排气阀(13)连接,并用于控制吹扫排气阀(13)工作。
3.如权利要求1所述的适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于,所述在线清洗系统还包括:
蒸汽清洗装置(15),其通过第一蒸汽排放阀(16)连接于所述第一管路(3)上,并位于吹扫进气阀(11)的下游;
第三管路,其一端连接于所述第一管路(3)上,并位于第二清洗剂阀(6)的上游,另一端接入废液收集桶(17),所述第三管路上设有第二蒸汽排放阀(18);所述控制装置(12)还与所述蒸汽清洗装置(15)、第一蒸汽排放阀(16)和第二蒸汽排放阀(18)连接,并用于控制所述蒸汽清洗装置(15)、第一蒸汽排放阀(16)和第二蒸汽排放阀(18)工作。
4.如权利要求3所述的适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于:所述在线清洗系统还包括第二管路,其一端连接于所述第一管路(3)上,并位于第三管路的上游,所述第二管路上设有吹扫排气阀(13),所述控制装置(12)还与所述吹扫排气阀(13)连接,并用于控制吹扫排气阀(13)工作。
5.如权利要求1所述的适用于OVD沉积设备的在线清洗系统,其特征在于:
所述第一管路(3)上还设有清洗剂过滤器(14),所述清洗剂过滤器(14)位于所述清洗剂储罐(1)和第二清洗剂阀(6)之间,所述控制装置(12)还与所述清洗剂过滤器(14)连接,并用于控制清洗剂过滤器(14)工作;和/或,
所述清洗剂储罐(1)上设有用于监测清洗剂余量的传感器;和/或,
所述废气排放阀(2)连通OVD沉积设备的废气处理塔。
6.一种使用如权利要求1所述的适用于OVD沉积设备的在线清洗系统对OVD沉积设备进行清洗的方法,其特征在于,包括如下步骤:
将所述在线清洗系统与OVD沉积设备的蒸发器(7)和加热料管(8)连通;
关闭所述废气排放阀(2)和吹扫进气阀(11),开启...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔东明,孔明,伍淑坚,
申请(专利权)人:烽火通信科技股份有限公司,武汉烽火锐拓科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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