高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法技术

本发明专利技术属于牧草栽培技术领域，提出了高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，包括播种高丹草种子后覆膜，覆膜完成后进行膜上覆土，所述膜上覆土是在所覆膜上，以高丹草种子为中心，半径10cm内覆上2‑3cm的土层。通过上述技术方案，在保证产量和效益的同时，解决了现有技术中高丹草播种后一个月因气候干旱、少雨多风、地表蒸发大，导致耕层土壤水分散失严重、播种后保苗困难、出苗率低的问题。

Cultivation method of high Dan grass with wide narrow line, one hole and two plants covered with plastic film

【技术实现步骤摘要】
高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法
本专利技术属于牧草栽培
，涉及高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法。
技术介绍
高丹草(Sorghumbicolor×Sorghumsudanense)是高粱(Sorghumbicolor(L.)Moench)与苏丹草(Sorghumsudanense(Piper)Stapf.)的远缘杂交种，为禾本科一年生暖季型饲草，属高光效C4作物，具有杂交优势强、抗逆性强、生物产量高、饲用品质优、可多茬利用的特性，可充分利用光温雨热资源进行生长，在北方农区逐渐受到广大种养户的青睐。然而海河平原区，作为高丹草典型生长区域，播种时间一般在每年4月中旬，等雨或造墒播种，种植方式为露地等行距条播种植，主要存在播种后一个月因气候干旱、少雨多风、地表蒸发大导致耕层(0～30cm)土壤水分散失严重、播种后保苗困难等问题。如何提高这一时期的水资源利用效率、提高出苗及苗期存活率是亟待解决的技术问题。大量研究表明，覆膜种植可显著提高土壤温度、水分利用效率和作物产量，研究也发现覆膜对高粱属作物的生产性能有影响。李士敏等发现采用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，包括：播种高丹草种子后覆膜，覆膜完成后进行膜上覆土，所述膜上覆土是在所覆膜上，以高丹草种子为中心，半径10cm内覆上2-3cm的土层。/n

【技术特征摘要】
1.高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，包括：播种高丹草种子后覆膜，覆膜完成后进行膜上覆土，所述膜上覆土是在所覆膜上，以高丹草种子为中心，半径10cm内覆上2-3cm的土层。


2.根据权利要求1所述的高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，所述播种采用宽窄行种植的方法，宽行行距60cm，窄行行距40cm。


3.根据权利要求1-2任意一项所述的高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，播种时在窄行上覆膜。


4.根据权利要求3所述的高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，所述播种采用穴播，每穴留苗2株。


5.根据权利要求4所述的高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，所述穴播的穴距30cm，穴播的播种深度3-5cm；留苗密度9000株/亩。


6.根据权利要求1所述的高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法，其特征在于，所述播种...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘贵波，李源，赵海明，游永亮，武瑞鑫，
申请(专利权)人：河北省农林科学院旱作农业研究所，
类型：发明
国别省市：河北;13