一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，包括如下步骤：S1、将低浓度氧化石墨烯(GO)溶液高速离心浓缩制备向列相液晶状氧化石墨烯；S2、将还原氧化石墨烯(rGO)粉体与S1混合制备成胶体；S3、将S2胶体制备rGO/GO膜，此高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，在膜制备前添加了一小部分直径非常小的rGO片来填充GO大片径中的间隙，另外通过热处理后或在热处理过程中施加压力，进一步的提高了GO膜密度，且采用热处理后压延处理的方式保证工业量产，并在压延处理后对样品进行了二次高温处理，以修复晶格中的缺陷，从而获得一种尺寸薄、导热率高且具有柔性的石墨烯导热膜，其导热率高达2025W/k·m，且膜的厚度可以为2‑100微米。

【技术实现步骤摘要】
一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法
本专利技术涉及热管理材料
，具体为一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法。
技术介绍
随着电子产品的小型化，集成化，空间限制越来越高，大型散热器的使用越来越困难，因此需要尺寸薄，导热率高，具有柔性的散热器来进行有效的散热管理，单层悬浮的石墨烯具有超过5000W/m·k的高导热率，但不适用作散热材料，当前工业化的柔性导热膜主要依赖于柔性热解石墨或石墨化聚酰亚胺，其面内的最高导热率为1950W/m·k。而氧化石墨烯是石墨烯的氧化物，由于其表面及边缘上引入了大量的羟基羧基等含氧官能团，可以在水溶液及极性溶剂中稳定存在，配制的溶液可以通过各种技术(包括真空过滤、喷涂、棒涂、电化学沉积和剪切排列)制造成薄膜，但氧化的石墨烯被破坏了sp2杂化碳的结构，从而导致极低的热导率和电导率，通过还原可以除去这些官能团，特别是高温石墨化可以恢复石墨烯的sp2烯环结构，为此，我们提出一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高度有序致密的石墨烯导热膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，包括如下步骤：/nS1、将低浓度氧化石墨烯(GO)溶液高速离心浓缩制备向列相液晶状氧化石墨烯；/nS2、将还原氧化石墨烯(rGO)粉体与S1混合制备成胶体；/nS3、将S2胶体制备rGO/GO膜；/nS4、将S3制备的膜进行热处理；/nS5、将S4热处理的膜进行压延，后二次热处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，包括如下步骤：
S1、将低浓度氧化石墨烯(GO)溶液高速离心浓缩制备向列相液晶状氧化石墨烯；
S2、将还原氧化石墨烯(rGO)粉体与S1混合制备成胶体；
S3、将S2胶体制备rGO/GO膜；
S4、将S3制备的膜进行热处理；
S5、将S4热处理的膜进行压延，后二次热处理。


2.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S1中低浓度的氧化石墨烯(GO)浓度为10mg/mL。


3.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S1中高速离心条件为转速25000rpm，离心时间为20min。


4.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S1中GO浓缩后浓度约为50mg/mL。


5.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S1中向列相液晶状GO为假塑性流体。


6.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S2中rGO粉体的C/O比例约为12：8。


7.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S2中rGO/GO胶体中，rGO含量为0.5-2.5％。


8.根据权利要求1所述的一种高度有序致密的石墨烯导热膜的制备方法，其特征在于：S2中rGO/GO胶体制备使用研钵研磨...

【专利技术属性】
技术研发人员：张世闯，曾凡聪，高金鸽，张江，杨亚敏，曲勇威，
申请(专利权)人：深圳市展旺新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44