壳体组件及其制备方法、电子设备技术

本申请公开了壳体组件及其制备方法、电子设备。该制备壳体组件的方法，包括：提供基体；在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。由此，将喷涂、镭雕纹理与光学镀膜进行结合，不受产品外观形貌的限制，在具有较高弧度或复杂形貌的基体上制造出炫彩的纹理效果。

【技术实现步骤摘要】
壳体组件及其制备方法、电子设备
本申请涉及电子领域，具体地，涉及壳体组件及其制备方法、电子设备。
技术介绍
随着人们生活水平的不断提高，人们对电子产品的整体性能提出了越来越高的要求，电子产品制造商为了在激烈的竞争中占据一定的市场份额，在提高产品的使用性能的同时，也会将电子产品制造出纹理效果、变色效果、炫彩效果等外观效果，以吸引用户。玻璃或金属等板材与膜片复合在一起，具备通透鲜艳的外观效果，在此基础之上，为了提高产品的竞争力，一些制造商在膜片中导入UV纹理转印，这可以增加膜片的装饰效果，使手机等电子设备的壳体具有纹理效果，这种方法目前已被广泛应用于手机后盖等配件领域。但目前的外观弧度较高的手机后盖等配件难以利用UV纹理转印膜片与玻璃或金属等板材进行有效复合，因此还难以满足用户对其外观的需求。如果能够提出一种方法，可以不受外观弧度的限制，在基材上制造出炫彩纹理效果，则将在一定程度上缓解甚至解决上述问题。因此，目前的壳体组件及其制备方法、电子设备仍有待提高。
技术实现思路
本申请是基于专利技术人对以下事实和问题的发现和认识本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：/n提供基体；/n在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及/n利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：
提供基体；
在所述基体的一侧依次形成第一底漆层、色漆层、镀膜漆层、光学镀膜层；以及
利用镭雕处理方法在所述第一底漆层、所述色漆层和所述镀膜漆层的至少之一上形成纹理结构。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述镭雕处理方法形成的纹理深度为1μm～10μm，宽度为30～60μm。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括以下步骤的至少之一：
设置第二底漆层，所述第二底漆层位于所述基体和所述第一底漆层之间，所述第二底漆层的厚度为3～5μm；以及
设置面漆层，所述面漆层位于所述光学镀膜层远离所述镀膜漆层的一侧。


4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一底漆层、所述色漆层、所述第二底漆层是由PU型树脂漆烘烤形成的，
所述第一底漆层的厚度为20～30μm；
所述色漆层的厚度为8～12μm；
所述烘烤的温度为70～80℃，所述烘烤的时间为20～40min。


5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的，所述固化使用的UV能量为1000～1200mJ/cm2，所述镀膜漆层的厚度为20～30μm，且所述镀膜漆层包含纳米氧化物，所述纳米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。


6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光学镀膜层含有钛、硅、锆的至少之一，所述光学镀膜层的厚度为30～300nm，且形成所述光学镀膜层的温度为40～60℃。


7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述面漆层为UV型树脂漆经UV能量固化形成的，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈益明，杨光明，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44