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一种反射式半导体光放大器制造技术

技术编号:26262053 阅读:66 留言:0更新日期:2020-11-06 17:59
本发明专利技术公开了一种反射式半导体光放大器,包括依次连接的增益区、调制区和旋偏区,所述增益区顶部设置脊波导一,所述调制区顶部设置脊波导二,所述旋偏区顶部设置脊波导三,所述增益区和调制区底部设置底部电极,所述增益区顶部设置顶部电极一,所述调制区顶部设置顶部电极二,所述旋偏区末端镀有高反射膜;所述增益区内包含应变多量子阱结构。本发明专利技术所公开的反射式半导体光放大器在末端引入了旋偏区,因此,增益区可以同时对下行和上行信号分别工作在饱和及线性放大状态,满足两个方向的信号处理需求,上行信号眼图质量得到明显提升。

【技术实现步骤摘要】
一种反射式半导体光放大器
本专利技术属于光电器件
,特别涉及一种反射式半导体光放大器。
技术介绍
光纤到户(FibertotheHome,FTTH)即光纤直接接至用户家,它不但可以提供更大的带宽,而且增强了网络对数据格式、速率、波长和协议的透明性,放宽了对环境条件和供电等方面的要求,简化了维护和安装,因此成为了最理想的接入网解决方案。FTTH的初步架构是由全业务工作组(FullServiceAccessNetworks,FSAN)在20世纪90年代完成的。目前FTTH主要的组网方式依然是基于时分复用(TimeDivisionMultiplexing,TDM)的无源光网络(PassiveOpticalNetwork,PON)。这种组网方式由于所有用户共享一个波长,因而带宽受限。相对而言,基于波分复用(WavelengthDivisionMultiplexing,WDM)的无源光网络以其接入容量大、易升级、信息安全性高等优点,被认为是下一代光接入网技术中最具潜力的一种方案。在WDM-PON的网络架构中,如果各个光网络单元(Optica本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种反射式半导体光放大器,其特征在于,包括依次连接的增益区、调制区和旋偏区,所述增益区顶部设置脊波导一,所述调制区顶部设置脊波导二,所述旋偏区顶部设置脊波导三,所述增益区和调制区底部设置底部电极,所述增益区顶部设置顶部电极一,所述调制区顶部设置顶部电极二,所述旋偏区末端镀有高反射膜;所述增益区内包含应变多量子阱结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种反射式半导体光放大器,其特征在于,包括依次连接的增益区、调制区和旋偏区,所述增益区顶部设置脊波导一,所述调制区顶部设置脊波导二,所述旋偏区顶部设置脊波导三,所述增益区和调制区底部设置底部电极,所述增益区顶部设置顶部电极一,所述调制区顶部设置顶部电极二,所述旋偏区末端镀有高反射膜;所述增益区内包含应变多量子阱结构。


2.根据权利要求1所述的一种反射式半导体光放大器,其特征在于,所述增益区和调制区从下往上依次包括第一接触层、衬底层、缓冲层、第一分别限制层、量子阱有源层、第二分别限制层、间隔层、腐蚀停止层、第一上包层、第二接触层以及第三接触层,所述脊波导一和脊波导二为在第一上包层、第二接触层和第三接触层上刻蚀得到。


3.根据权利要求1所述的一种反射式半导体光放大器,其特征在于,所述旋偏区包括第一接触层、衬底层、下包层、芯层和第二上包层,所述脊波导三为在下包层、芯层和第二上包层上刻蚀得到。


4.根据权利要求1-3任一所述的一种反射式半导体光放大器,其特征在于,所述增益区、调制区和旋偏区均由III-V族半导体材料制成,所述增益区长度为1200μm,宽度为1.4μm;调制区长度为200μm,宽度为1.4μm;法拉第旋偏区长度为1000μm,宽度为1.4μm。


5.根据权利要求1所述的一种反射式半导体光放大器,其特征在于,所述脊波导一、脊波导二和脊波导三的脊宽均为1.4μm,所述脊波导一和脊波导二的脊高为2μm,所述脊波导三的脊高为2.5μm。


6.根据权利要求2所述的一种反射式半导体光放大器,其特征在于,所述第一接触层和第三接触层的材料为InGaAs,厚度分别为150nm,掺杂浓度大于1×1019cm-3;第二接触层由两层厚度均为50nm、带隙波长分别为1300nm和1500nm、掺杂浓度大于3×1018cm-3的P型InG...

【专利技术属性】
技术研发人员:李洵左成亮
申请(专利权)人:山东大学
类型:发明
国别省市:山东;37

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