蚀刻液及其制备方法技术

本发明专利技术属于蚀刻技术领域，尤其涉及一种蚀刻液及其制备方法。本发明专利技术提供的蚀刻液包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。该蚀刻液可实现对金属材料的蚀刻，反应条件温和，速度可控，蚀刻精度高，且蚀刻表面光滑平整，适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件，保证产品质量。

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液及其制备方法
本专利技术属于蚀刻
，尤其涉及一种蚀刻液及其制备方法。
技术介绍
在金属蚀刻中，业界主要采用湿蚀刻法以及例如离子蚀刻、等离子蚀刻等干蚀刻法。与干蚀刻法相比，湿蚀刻法使用的化学试剂价格经济，且不需要昂贵设备，蚀刻成本低；而且，湿蚀刻法还可对具有复杂外形和三维结构的金属器件进行蚀刻处理，使用范围广，操作方便。此外，蚀刻掉的金属材料还能够从废蚀刻液中回收，有利于金属资源的可循环利用，绿色环保经济。因此，湿蚀刻法常被广泛用于蚀刻各种金属器件。目前，市场上的蚀刻液的蚀刻剂主要为盐酸、硝酸、磷酸等酸以及铵盐、铁盐等盐的组合，常用于厚金属板的装饰性蚀刻或者印刷电路上铝膜的镂空性腐蚀，其反应过于剧烈，难以控制蚀刻速度，蚀刻精度低，不适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂外形的三维金属器件。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种蚀刻液，以及提供一种蚀刻液的制备方法，旨在解决现有蚀刻液主要适用于厚金属板的装饰性蚀刻，或者适用于印刷电路上铝膜的镂空性腐蚀，反应剧烈，难以控制蚀刻程度，不适用于蚀刻金属箔片以及具有复杂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蚀刻液，其特征在于，包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；/n所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；/n所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。/n

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液，其特征在于，包含有浓度大于或等于5g/L的蚀刻剂，所述蚀刻剂选自酸性盐或碱性盐；
所述酸性盐选自磷酸二氢盐和/或硫酸氢盐；
所述碱性盐选自碳酸盐、碳酸氢盐、亚硫酸盐、乙酸盐、磷酸盐和次氯酸盐中的至少一种。


2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述酸性盐选自磷酸二氢钠、磷酸二氢钾、磷酸二氢锂、硫酸氢钠、硫酸氢钾和硫酸氢锂中的至少一种；和/或
所述碱性盐选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢锂、亚硫酸钠、亚硫酸锂、亚硫酸钾、乙酸锂、乙酸钠、乙酸钾、磷酸钠、磷酸钾、磷酸锂、次氯酸锂、次氯酸钠和次氯酸钾中的至少一种。


3.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻剂在所述蚀刻液中的浓度为5-300g/L。


4.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液用于蚀刻两性金属；和/或
所述蚀刻液用于蚀刻厚度等于或小于0.1mm的金属箔片。


5.根据权利要求4所述的蚀刻液，其特征在于，所述两性金属选自铝金属或铝合金。


6.根据权利要求1至5任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兆晶，孙朋，罗昌杰，魏伟，王志安，
申请(专利权)人：深圳市乾行达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44