膜过滤器用基材及其制造方法技术

膜过滤器用的基材(12)包含90质量％以上的氧化铝，并以0.1质量％以上10质量％以下的范围包含氧化钛，在由压汞仪得到的细孔分布曲线中具有第一峰和第二峰，所述第二峰在大于第一峰的细孔径处且大于第一位置峰，细孔径7μm以上的细孔容积显示为0.02cm

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜过滤器用基材及其制造方法
在本说明书中公开的本专利技术涉及膜过滤器用基材及其制造方法。
技术介绍
以往，作为陶瓷膜过滤器，提出了以下陶瓷膜过滤器：在作为微滤膜(MF膜)的多孔质基材上形成的平均细孔径为2～20nm、膜厚为0.1～1.0μm的超滤膜(UF膜)即二氧化钛UF膜上形成有陶瓷膜，该陶瓷膜为其中的一部分渗透到二氧化钛UF膜的细孔内、或者二氧化钛UF膜及多孔质基材的细孔内的陶瓷多孔膜(例如参照专利文献1)。对于该陶瓷膜过滤器，能够提供一种具备缺陷少、膜厚薄且均匀、分解能力也高的陶瓷多孔质膜的陶瓷过滤器。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-255035号公报
技术实现思路
但是，这种陶瓷膜过滤器在进行各种分离对象的分离处理之后，有时例如用酸、碱等进行化学试剂清洗，因此，除了对分离对象的耐性之外，还要求对这种酸碱化学试剂的耐腐蚀性。为了得到高耐腐蚀的陶瓷基材，例如要求在氢还原气氛下进行约2000℃等的高温烧结等，制造并不容易，期望进一步提高分离性能、强度、耐腐蚀性。本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜过滤器用基材，其中，/n该膜过滤器用基材包含90质量％以上的氧化铝，并以0.1质量％以上10质量％以下的范围包含氧化钛，/n在由压汞仪得到的细孔分布曲线中具有第一峰和第二峰，所述第二峰在大于所述第一峰的细孔径处且大于该第一位置峰，细孔径7μm以上的细孔容积为0.02cm

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180330 JP 2018-0673611.一种膜过滤器用基材，其中，
该膜过滤器用基材包含90质量％以上的氧化铝，并以0.1质量％以上10质量％以下的范围包含氧化钛，
在由压汞仪得到的细孔分布曲线中具有第一峰和第二峰，所述第二峰在大于所述第一峰的细孔径处且大于该第一位置峰，细孔径7μm以上的细孔容积为0.02cm3/g以上。


2.根据权利要求1所述的膜过滤器用基材，其中，
所述第一峰位于细孔径为4μm以上6μm以下的范围，所述第二峰位于细孔径为6μm以上9μm以下的范围。


3.根据权利要求1或2所述的膜过滤器用基材，其中，
在由压汞仪得到的细孔分布曲线中，所述第一峰的细孔容积为0.005cm3/g以上0.02cm3/g以下的范围，所述第二峰的细孔容积为0.03cm3/g以上0.05cm3/g以下的范围。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的膜过滤器用基材，其中，
透水量为7.5m3/(m2·h)以上。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的膜过滤器用基材，其中，
内压强度为0.6MPa以上。


6.一种膜过滤器用基材的制造方法，其包含下述工序：
混合成型工序，将平均粒径为35μm以上45μm以下且纯度为90质量％以上的氧化铝和平均粒径为0.01μm以上1μm以下且纯度为70质量％以上的氧化钛作为原料，按相对...

【专利技术属性】
技术研发人员：稗田耕士，
申请(专利权)人：日本碍子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP