一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置制造方法及图纸

技术编号:26227321 阅读:62 留言:0更新日期:2020-11-04 11:07
本发明专利技术公开一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,包括上盖、聚焦装置主体、下盖、球铰喷头、等离子体射流发生器,所述上盖和所述下盖分别固定设置在所述聚焦装置主体的上下两端,所述等离子体射流发生器设置在所述聚焦装置主体内,所述球铰喷头设置在所述聚焦装置主体下端并对应所述离子体射流发生器的出射口设置;本发明专利技术利用流体聚焦原理设计出气流辅助聚焦装置实现对大气压冷等离子体射流的聚焦,具有结构简单、操作方便、聚焦效果好且可同时屏蔽空气对等离子体射流影响等优点,可大大提高大气压冷等离子体射流的加工精度并提高对其特性的可控性。

【技术实现步骤摘要】
一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置
本专利技术涉及大气压低温等离子体
,具体涉及一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置。
技术介绍
大气压冷等离子体射流是利用气流和电场的作用使放电区域产生的低温等离子体从孔口喷出,形成等离子体射流,是一种电子能量较高而离子能量较低的大气冷等离子体射流,其温度在室温至几百摄氏度之间。由于大气压冷等离子体射流具有温度低、活性粒子数量大、种类多、活性强,易与所接触表面发生反应,因此在材料表面加工、纳米粒子合成以及生物医疗方面具有广阔的应用前景。相比于低气压等离子体,大气冷等离子体射流摆脱了真空环境等限制,对被加工物体体积与形状没有特殊要求,且具有装置简单、操作便捷、温度低、成本低、绿色无污染等显著优点。此外,通过控制等离子体射流直径,可以获得直径在几百微米至几微米的大气压微冷等离子体射流,从而可以摆脱对掩膜的需求,通过大气压微冷等离子体射流直写工艺实现对被加工物体的图案化微加工。尽管通过限制喷嘴尺寸来约束等离子体射流直径,可以在大气环境下产生直径在毫米、微米甚至亚微米级的大气压冷等离子体射流,但本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,其特征在于,包括上盖、聚焦装置主体、下盖、球铰喷头、等离子体射流发生器,所述上盖和所述下盖分别固定设置在所述聚焦装置主体的上下两端,所述等离子体射流发生器设置在所述聚焦装置主体内,所述球铰喷头设置在所述聚焦装置主体下端并对应所述离子体射流发生器的出射口设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,其特征在于,包括上盖、聚焦装置主体、下盖、球铰喷头、等离子体射流发生器,所述上盖和所述下盖分别固定设置在所述聚焦装置主体的上下两端,所述等离子体射流发生器设置在所述聚焦装置主体内,所述球铰喷头设置在所述聚焦装置主体下端并对应所述离子体射流发生器的出射口设置。


2.如权利要求1所述的大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,其特征在于,所述上盖设置有上盖导向孔,所述聚焦装置主体设置有主体导向孔,所述下盖设置有下盖中心通孔,所述上盖导向孔、所述主体导向孔和所述下盖中心通孔相互连通形成放置腔,所述等离子体射流发生器设置在所述放置腔内。


3.如权利要求2所述的大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,其特征在于,所述上盖内设置有上内腔,所述聚焦装置主体内设置有主体内腔和连接腔,所述球铰喷头的端部设置在所述连接腔内,所述球铰喷头内设置有喷射腔,所述上内腔、所述主体内腔和所述喷射腔连通,从而形成气体通道,所述上盖侧端面上设置有进气通道,所述进气通道和所述上内腔连通。


4.如权利要求3所述的大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置,其特征在于,所述上盖中心设置有圆筒状的上中心件,所述上中心件在所述上盖内部阻隔形成所述上盖导向孔和所述上内腔;所述聚焦装置主体中心设置有圆筒状的主体中心件,所述主体中心件在所述聚焦装置主体内部阻隔形成所述主体导向孔和所述主体内腔。


5.如权利要求4所述的大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:王涛时礼平吕栎张兴权童宝宏张国涛
申请(专利权)人:安徽工业大学
类型:发明
国别省市:安徽;34

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