摄像头保护罩的污迹检测方法、装置以及设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种摄像头保护罩的污迹检测方法，包括对摄像头的焦距和光圈进行调节，使得摄像头的焦点到保护罩的距离不大于预设距离，且光圈不小于预设光圈大小；利用摄像头获取保护罩的灰度图像；识别灰度图像中的污迹像素点，获得保护罩上的污迹分布数据。本发明专利技术摄像头调制成焦点位于保护罩附近，并采用大光圈拍摄的保护罩图像，在很大程度上避免了因保护罩为透明色，导致背景物体在拍摄的保护罩图像中清晰成像所带来的干扰的问题，保证了对保护罩图像中污迹识别的准确度，提高了对保护罩的污迹检测结果的精准度。本申请还提供了一种摄像头保护罩的污迹检测装置和设备，具有上述有益效果。

【技术实现步骤摘要】
摄像头保护罩的污迹检测方法、装置以及设备
本专利技术涉及图像
，特别是涉及一种摄像头保护罩的污迹检测方法、装置以及设备。
技术介绍
视频监控技术是目前应用较为广泛的一种监测技术，既能够用于交通违章监测、还能够用于重要财务安全监测、甚至还可以用于工地等安全操作监测等等。视频监测技术应用到的视频检测设备中，摄像头是关键设备之一，摄像头拍摄的图像的清晰度之间关系到监测结果的准确性。但是视频检测设备应用的环境多种多样，如果工作环境较为恶劣存在湿气、污染较重的问题，则会在一定程度上影响摄像头的使用寿命。为此可以在工作环境恶劣的摄像头上设置透明的防水外壳，对摄像头起到保护作用。但随着摄像头工作时间的延长，该保护壳上不可避免的会沾染上污迹，如果长时间不清理，污迹斑点会越来越多越来越大，影响摄像头的正常工作。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种摄像头保护罩的污迹检测方法、装置和设备，解决了摄像头的保护罩上存在污迹斑点影响摄像头正常工作的技术问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种摄像头保护罩的污迹检测方法，包本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，包括：/n对摄像头的焦距和光圈进行调节，使得所述摄像头的焦点到保护罩的距离不大于预设距离，且所述光圈不小于预设光圈大小；/n利用所述摄像头获取所述保护罩的灰度图像；/n识别所述灰度图像中的污迹像素点，获得所述保护罩上的污迹分布数据。/n

【技术特征摘要】
1.一种摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，包括：
对摄像头的焦距和光圈进行调节，使得所述摄像头的焦点到保护罩的距离不大于预设距离，且所述光圈不小于预设光圈大小；
利用所述摄像头获取所述保护罩的灰度图像；
识别所述灰度图像中的污迹像素点，获得所述保护罩上的污迹分布数据。


2.如权利要求1所述的摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，识别所述灰度图像中的污迹像素点，获得所述保护罩上的污迹分布数据，包括：
根据所述灰度图像中像素点的灰度值大小识别污迹像素点；
判断所述污迹像素点占所述灰度图像的总像素点的比例是否大于预设比例，若是，则确定所述保护罩上的污迹超标。


3.如权利要求2所述的摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，判断所述污迹像素点占所述灰度图像的总像素点的比例是否大于预设比例，包括：
根据识别到的各个所述污迹像素点，确定所述灰度图像中所有污迹像素点的总数量；
判断所有所述污迹像素点的总数量占所述灰度图像的总像素点数量的比值是否大于第一预设比例。


4.如权利要求2所述的摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，判断所述污迹像素点占所述灰度图像的总像素点的比例是否大于预设比例，包括：
根据各个所述污迹像素点的坐标值确定每个污迹成像区域所包含的像素点数量；
判断面积最大的污迹成像区域的像素点数量和所述灰度图像的总像素点数量比值是否大于第二预设比例。


5.如权利要求4所述的摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，根据各个所述污迹像素点的坐标值确定每个污迹成像区域所包含的像素点数量，包括：
获得多个所述污迹像素点形成的同一个污迹成像区域中各个像素点的最大横坐标、最小横坐标、最大纵坐标以及最小纵坐标；
根据污迹成像区域的像素点数量估算公式：S＝K*(X1-X2)*(Y1-Y2)，估算每个所述污迹成像区域的像素点数量，其中，S为像素点数量，X1、X2、Y1、Y2分别为所述污迹成像区域的最大横坐标、最小横坐标、最大纵坐标以及最小纵坐标，K为估算比例系数。


6.如权利要求2所述的摄像头保护罩的污迹检测方法，其特征在于，判断所述污迹像素点占所述灰度图像的总像素点的比例是否大于预设比例，包括：
判断是否存在所有所述污迹像素点的总数量占所述灰度图像的总像素点数量的比值大于第一预设比例，和/或面积最大的污迹成像区域的像素点数量和所述灰度图像的总像素点数量比值大于第二预设比例；其中，所述第一预设比例大于所述第二预...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏钦展，吕廷昌，
申请(专利权)人：歌尔科技有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37