可随温度自调节的全向透射薄膜元件及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种可随温度自调节的全向透射薄膜元件，包括两层渐变折射率材料薄膜层、基底层和二氧化钒薄膜层，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的一层设置在所述基底的上表面，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的另一层设置在所述基底的下表面。本发明专利技术将渐变折射率材料和热致相变材料结合,得到SiO

【技术实现步骤摘要】
可随温度自调节的全向透射薄膜元件及其制备方法
本专利技术涉及光学薄膜领域，特别涉及一种可随温度自调节的全向透射薄膜元件及其制备方法。
技术介绍
二氧化钒(VO2，VanadiumOxide)薄膜可在不同外界激励条件下瞬时发生半导体-金属(MIT)可逆的相变，2018年被评选为未来世界20大材料之一。二氧化钒薄膜相变过程中晶体结构由单斜晶相变为金红石型，相变前后的薄膜物理性能发生突变。鉴于二氧化钒薄膜这些独特相变性能，二氧化钒薄膜器件可以被广泛应用到航天、军事、民用等领域。例如在智能窗、热控组件、光学传感器、热敏电阻、光存储材料、红外遥感接收器、可变反射镜、激光防护镜等方面，二氧化钒薄膜都具有广阔的应用前景。但由于二氧化钒薄膜本身透射率及红外调制率较低，同时偏振效应会引起透射效率的严重下降，这极大限制了其在相关领域的应用推广。国内外研究人员通过掺杂增透膜等技术来改善其光学性能。常规二氧化钒增透膜利用干涉效应降低表面反射进而提升透射率，但传统均匀膜作用谱段有限，通常只能针对有限波段(如380-780nm)进行增透，且当倾斜入射时会存在严重的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可随温度自调节的全向透射薄膜元件，其特征在于，包括两层渐变折射率材料薄膜层、基底层和二氧化钒薄膜层，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的一层设置在所述基底的上表面，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的另一层设置在所述基底的下表面，所述二氧化钒薄膜层设置在所述另一层渐变折射率材料薄膜层的下表面。/n

【技术特征摘要】
1.一种可随温度自调节的全向透射薄膜元件，其特征在于，包括两层渐变折射率材料薄膜层、基底层和二氧化钒薄膜层，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的一层设置在所述基底的上表面，所述两层渐变折射率材料薄膜层中的另一层设置在所述基底的下表面，所述二氧化钒薄膜层设置在所述另一层渐变折射率材料薄膜层的下表面。


2.根据权利要求1所述的可随温度自调节的全向透射薄膜元件，其特征在于，所述两层渐变折射率材料薄膜层为氧化硅薄膜层。


3.根据权利要求2所述的可随温度自调节的全向透射薄膜元件，其特征在于，所述氧化硅薄膜层的折射率大于1.0且小于2.85。


4.一种可随温度自调节的全向透射薄膜元件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)选取高纯单质硅作为溅射靶材；
(2)使用机械泵与分子泵将真空镀膜机的真空腔抽至小于10-3Pa；
(3)将渐变折射率材料薄膜层SiOx(0≤x≤2)在反应气体O2和溅射气体Ar的混合氛围中沉积；
(4)在0.5Pa的工作气压下，稳定真空镀膜机的溅射功率在设定值，预溅射设定时间；
(5)在预溅射完成后，打开真空镀膜机的挡板溅射设定时间，并控制真空镀膜机的溅射功率在设定范围内变化，以制备得到折射率在范围内连续可调的氧化硅薄膜层；
(6)将第...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳京城，张卫，周泳全，赵振宇，肖海兵，刘明俊，徐晓梅，张东平，
申请(专利权)人：深圳信息职业技术学院，
类型：发明
国别省市：广东;44