【技术实现步骤摘要】
本技术是关于X射线相衬成像装置,特别是涉及一种电磁放大X射线诱导光电子相衬成像装置。
技术介绍
X射线用于成像已有100年的历史,已成为医学、生物学及材料科学中不可缺少的诊断工具。早期的X射线成像技术,是根据样品的密度分布差异、组成以及厚度的不同,来获得像的衬度。但在硬X射线范围,诸如生物体软组织、聚合物及碳纤维等以轻元素为主的物体吸收极小,产生的对比度也很小。对于这类弱吸收物体,硬X射线的位相移动却很大。近年来,随着高亮度同步辐射光源及X射线激光的迅猛发展,位相衬度成像已经成为国际上成像领域的一个研究热点,在医学诊断、生物和材料研究等领域有显著的优越性,极具推广应用的潜力。当X射线穿透物质时,它的位相变化给出了产生位相衬度的可能性。目前世界上几个研究小组探讨新的X射线成像方法,主要可分为三类干涉法、衍射法及类同轴全息成像法分别对、和2进行测量。其中,Wilkins等人给出的一种非常简单的、基于菲涅尔衍射的X射线相位成像方法特别引人注意,它实质上就是X射线同轴盖柏全息的记录,亦称之为X射线相位直接成像(参见在先技术S.W.Wilkins,T.E.Gur ...
【技术保护点】
一种电磁放大X射线诱导光电子相衬成像装置,它包含X射线源(1),其特征在于沿x射线前进方向依次是待测样品(2)、光电子转换器(3)、加速阳极(4)、电磁放大透镜组(5)、CCD(6),该CCD(6)的输出连计算机(7),而光电子转换器(3)位于待测样品(2)之后,与待测样品(2)的距离Z↓[2]为:Z↓[2]=0.49Z↓[1]/λU↑[2]Z↓[1]-0.49式中:λ-X射线波长,U-物体空间频率,Z↓[1]-待测样品(2)和X射线源(1)的 距离。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:高鸿奕,陈建文,朱化凤,李儒新,徐至展,
申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所,
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]
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