光波导单元阵列和具有其的光学透镜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光波导单元阵列和具有其的光学透镜，所述光波导单元阵列包括：多个光波导单元，相邻两个所述光波导单元之间通过粘接层粘接连接，所述粘接层内嵌设有粒子层，所述粒子层包括多个粒子，多个所述粒子均匀分布，且多个所述粒子的高度均相等。根据本实用新型专利技术的光波导单元阵列，通过粘接层内嵌设包括均匀分布且高度相等的多个粒子的粒子层，可以有效保证粘接层厚度的均匀性，光波导单元阵列不易变形，从而可以提高成像质量。

【技术实现步骤摘要】
光波导单元阵列和具有其的光学透镜
本技术涉及光学显示
，尤其是涉及一种光波导单元阵列和具有其的光学透镜。
技术介绍
随着成像显示技术的发展，对成像的特性要求不断提高。一方面要求有较高的解像，保证观察画面清晰度的同时，还需要满足小畸变要求；另一方面要求有三维立体显示特性的同时，具有裸眼三维全息显示要求。然而，在现有的成像
，一方面，主要采用透镜成像，其主要受视场和孔径的限制，存在球差、彗差、像散、场曲、畸变、色差等光学像差，在大视场、大孔径成像显示领域受限较大。另一方面，现有的裸眼三维显示技术大多数是基于调节左右眼视差来实现三维感官，而非实际三维显示技术。相关技术中，光波导单元阵列平板透镜的相邻的光波导单元之间通过粘接层连接，然而，在粘接两个大尺寸表面时由于胶水分布不均，会使得粘接层厚度不均，从而使光波导变形，导致成像畸变。
技术实现思路
本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种光波导单元阵列，降低粘接后光波导单元的变形量，提高成像质量。本技术的另一个目的在于提出一种具有上述光波导单元阵列的光学透镜。根据本技术第一方面实施例的光波导单元阵列，包括：多个光波导单元，相邻两个所述光波导单元之间通过粘接层粘接连接，所述粘接层内嵌设有粒子层，所述粒子层包括多个粒子，多个所述粒子均匀分布，且多个所述粒子的高度均相等。根据本技术实施例的光波导单元阵列，通过粘接层内嵌设包括均匀分布且高度相等的多个粒子的粒子层，可以有效保证粘接层厚度的均匀性，光波导单元阵列不易变形，从而可以提高成像质量。根据本技术的一些实施例，每个所述光波导单元包括：光波导；两层金属层，两层所述金属层分别设在所述光波导的两侧，且每层所述金属层位于所述光波导和对应的粘接层之间。根据本技术的一些实施例，每个所述光波导单元还包括：至少一层防护层，所述防护层设在所述金属层的远离所述光波导的一侧，所述防护层位于所述金属层和所述粘接层之间。根据本技术的一些实施例，所述防护层为两层，两层所述防护层分别设在两层所述金属层的远离所述光波导的一侧。根据本技术的一些实施例，每层所述防护层为光学晶体层或光学玻璃层。根据本技术的一些实施例，每层所述防护层的厚度为Thp，其中所述Thp满足：1μm≤Thp≤0.1mm。根据本技术的一些实施例，每层所述金属层为铝层或银层。根据本技术的一些实施例，每层所述金属层的厚度为Tm，其中所述Tm满足：1μm≤Tm≤0.1mm。根据本技术的一些实施例，所述光波导的厚度为Tod，所述光波导的宽度为Tow，其中所述Tod、Tow分别满足：0.05mm≤Tod≤5mm，0.06mm≤Tow≤20mm。根据本技术的一些实施例，同一所述光波导单元的至少一侧的所述粒子层的多个所述粒子的底面均粘接于所述同一所述光波导单元。根据本技术的一些实施例，多个所述粒子彼此间隔设置。根据本技术的一些实施例，相邻两个所述粒子之间通过连接部连接以使多个所述粒子连接成一体。根据本技术的一些实施例，所述粘接层的厚度为Tgu，所述粒子层的高度为Hspc，其中所述Tgu、Hspc满足：Tgu≥Hspc。根据本技术的一些实施例，所述粒子层的高度为Hspc，其中所述Hspc满足：1μm≤Hspc≤500μm。根据本技术的一些实施例，相邻两个所述粒子之间的距离为Dspc，其中所述Dspc满足：5μm≤Dspc≤20mm。根据本技术的一些实施例，每个所述粒子的形状为圆台形、圆柱形、椭圆柱形、长圆柱形、长方体形、棱柱形、球形或椭球形。根据本技术的一些实施例，每个所述粒子为高分子材料件、树脂件、光学玻璃件、光学晶体件或金属件。根据本技术的一些实施例，每个所述光波导单元的横截面形状为矩形或平行四边形，多个所述光波导单元的排布方向为斜45°布置。根据本技术的一些实施例，所述光波导单元阵列的外轮廓形状为矩形，每个所述光波导单元的延伸方向与所述光波导单元阵列的外轮廓的至少两条边之间的夹角为α，其中所述α满足：30°≤α≤60°。根据本技术第二方面实施例的光学透镜，包括：两个透明基板，每个所述透明基板均具有两个光学面；两个光波导单元阵列，两个所述光波导单元阵列设在两个所述透明基板之间，两个所述光波导单元阵列的光波导延伸方向正交布置，每个所述光波导单元阵列为根据本技术上述第一方面实施例的光波导单元阵列。根据本技术的一些实施例，每个所述透明基板的远离所述光波导单元阵列的光学面上设有增透膜。本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。附图说明本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1是根据本技术实施例的光波导单元的示意图；图2是图1中所示的光波导单元的一侧设有粒子层的示意图；图3是图2所示的多个光波导单元粘接的示意图；图4是图1中所示的光波导单元的两侧均设有粒子层的示意图；图5是图4所示的相邻的光波导单元粘接的示意图；图6是根据本技术另一个实施例的光波导单元的一侧设有粒子层的示意图；图7是图6所示的多个光波导单元粘接的示意图；图8是根据本技术另一个实施例的光波导单元的两侧均设有粒子层的示意图；图9是图8所示的相邻的光波导单元粘接的示意图；图10是根据本技术实施例的光波导单元阵列的示意图；图11a是根据本技术第一个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11b是根据本技术第二个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11c是根据本技术第三个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11d是根据本技术第四个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11e是根据本技术第五个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11f是根据本技术第六个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11g是根据本技术第七个实施例的粒子层的粒子的示意图；图11h是根据本技术第八个实施例的粒子层的粒子的示意图；图12是根据本技术实施例的粒子层的多个粒子的分布示意图；图13是根据本技术另一个实施例的粒子层的多个的粒子的分布示意图；图14是根据本技术实施例的光波导单元阵列的示意图；图15是根据本技术实施例的光学透镜的示意图；图16是图15中所示的光学透镜的局部示意图。附图标记：100：光波导单元阵列；1：光波导单元；11：光波导；12：金属层；13：防护层；2：粘接层；3：粒子层；31：粒子；32：连接部；200：光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光波导单元阵列，其特征在于，包括：/n多个光波导单元，相邻两个所述光波导单元之间通过粘接层粘接连接，所述粘接层内嵌设有粒子层，所述粒子层包括多个粒子，多个所述粒子均匀分布，且多个所述粒子的高度均相等。/n

【技术特征摘要】
1.一种光波导单元阵列，其特征在于，包括：
多个光波导单元，相邻两个所述光波导单元之间通过粘接层粘接连接，所述粘接层内嵌设有粒子层，所述粒子层包括多个粒子，多个所述粒子均匀分布，且多个所述粒子的高度均相等。


2.根据权利要求1所述的光波导单元阵列，其特征在于，每个所述光波导单元包括：
光波导；
两层金属层，两层所述金属层分别设在所述光波导的两侧，且每层所述金属层位于所述光波导和对应的粘接层之间。


3.根据权利要求2所述的光波导单元阵列，其特征在于，每个所述光波导单元还包括：
至少一层防护层，所述防护层设在所述金属层的远离所述光波导的一侧，所述防护层位于所述金属层和所述粘接层之间。


4.根据权利要求3所述的光波导单元阵列，其特征在于，所述防护层为两层，两层所述防护层分别设在两层所述金属层的远离所述光波导的一侧。


5.根据权利要求3所述的光波导单元阵列，其特征在于，每层所述防护层为光学晶体层或光学玻璃层。


6.根据权利要求3所述的光波导单元阵列，其特征在于，每层所述防护层的厚度为Thp，其中所述Thp满足：1μm≤Thp≤0.1mm。


7.根据权利要求2所述的光波导单元阵列，其特征在于，每层所述金属层为铝层或银层。


8.根据权利要求2所述的光波导单元阵列，其特征在于，每层所述金属层的厚度为Tm，其中所述Tm满足：1μm≤Tm≤0.1mm。


9.根据权利要求2所述的光波导单元阵列，其特征在于，所述光波导的厚度为Tod，所述光波导的宽度为Tow，其中所述Tod、Tow分别满足：0.05mm≤Tod≤5mm，0.06mm≤Tow≤20mm。


10.根据权利要求1-9中任一项所述的光波导单元阵列，其特征在于，同一所述光波导单元的至少一侧的所述粒子层的多个所述粒子的底面均粘接于所述同一所述光波导单元。


11.根据权利要求1-9中任一项所述的光波导单元阵列，其特征在于，多个所述粒子彼此间隔设置。


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【专利技术属性】
技术研发人员：范超，韩东成，
申请(专利权)人：安徽省东超科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34