【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】通过激光转移印刷涂覆至少一个硅酮层的方法本专利技术涉及一种通过激光转移印刷(lasertransferprinting)施涂至少一个硅酮层的方法,该方法适合于生产传感器、致动器和其他EAP层系统。这些系统中的硅酮层可以用作导电电极层或用作介电层。该方法可以配置为连续的并且可以与各种其他涂覆技术结合。
技术介绍
在现有技术中已知多种用于生产硅酮层和/或基于硅酮的层的系统的方法。DE19644112A1描述了一种用于生产硅橡胶流延膜的连续方法。在这种方法中,将两组分硅酮化合物以相应的厚度和宽度浇铸在循环带上。来自加热系统的热量引入会在循环带上产生热活化硫化。在膜固化时,将其从循环带中取出、进一步热处理,并最后卷起。WO2014/090506A1描述了一种用于连续生产均匀膜厚度的薄硅酮膜的方法,并且还描述了通过该方法生产的硅酮膜及其用途。在这种情况下,将硅酮化合物通过狭缝式模头(slotdie)挤出到传送带(carrierbelt)上并固化。当膜固化时,可以将其从传送带上取下或用传送带卷起来。WO2015/113911A1描述了一种用于生产多层复合材料的方法,该多层复合材料具有至少两个均匀层厚度的薄硅酮层。US2016/0057835A1描述了电活性层系统和组件的生产。与此相关地描述了在非导电层上产生片状电极(导电层)的方法和步骤。另外,提到了与电化学填料或层一起使用。US2016/156066A1描述了一种通过气相沉积(i-CVD)用不同的掺杂剂改性聚合物薄层的方法。在此,在真空操作中,将聚合物与可变掺 ...
【技术保护点】
1.一种通过激光转移印刷施加至少一个硅酮层的方法,所述方法包括以下步骤:/n(i)提供激光源(31);/n(ii)在所述激光源(31)下方提供印刷化合物载体(33),所述印刷化合物载体(33)对激光辐射是透明的并且在下侧上涂覆有可交联硅酮组合物(35),并且至少所述可交联硅酮组合物的表面被充电至电位phi_1;/n(iii)在所述印刷化合物载体(33)下方提供沉积载体(36);/n(iv)在所述沉积载体(36)下方提供电极(37),所述电极(37)被充电至电位phi_3,其中phi_1和phi_3具有相反的极性;/n(v)用激光束(32)照射所述印刷化合物载体(33),使得至少一部分所述可交联硅酮组合物(35)分离并转移到所述沉积载体(36);和/n(vi)通过完全或部分交联转移至所述沉积载体(36)的硅酮组合物(35)形成硅酮层。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种通过激光转移印刷施加至少一个硅酮层的方法,所述方法包括以下步骤:
(i)提供激光源(31);
(ii)在所述激光源(31)下方提供印刷化合物载体(33),所述印刷化合物载体(33)对激光辐射是透明的并且在下侧上涂覆有可交联硅酮组合物(35),并且至少所述可交联硅酮组合物的表面被充电至电位phi_1;
(iii)在所述印刷化合物载体(33)下方提供沉积载体(36);
(iv)在所述沉积载体(36)下方提供电极(37),所述电极(37)被充电至电位phi_3,其中phi_1和phi_3具有相反的极性;
(v)用激光束(32)照射所述印刷化合物载体(33),使得至少一部分所述可交联硅酮组合物(35)分离并转移到所述沉积载体(36);和
(vi)通过完全或部分交联转移至所述沉积载体(36)的硅酮组合物(35)形成硅酮层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中至少面向所述可交联硅酮组合物(35)的所述沉积载体(36)的表面被充电至电位phi_2,其中phi_2和phi_1具有相反的极性,并且选择phi_2使得在步骤(v)中转移到所述沉积载体(36)的所述硅酮组合物(35)的至少一部分电荷量在所述沉积载体(36)的表面上被中和。
3.根据权利要求1和2中任一项所述的方法,其中在所述印刷化合物载体(33)和所述硅酮组合物(35)之间设置有不透明的分离层(34),在用激光束(32)照射时将所述分离层(34)加热。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述激光束(32)的焦点(40)位于所述印刷化合物载体(33)的上方。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中通过具有锥-板系统的校准流变仪,锥CP50-2在25℃下开度角为2°且剪切速率为1s-1根据DINENISO3219:1994和DIN53019测量的,所述硅酮组合物具有10mPa·s或更大且1000Pa·s或更小的动态粘度。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述硅酮组合物是加成交联硅酮组合物,并且包含以下组分:
(A)含有至少两个具有脂族碳-碳多键的基团的有机化合物或有机硅化合物,
(B)含有至少两个Si键合的氢原子的有机硅化合物,
或代替(A)和/或(B)或除(A)和(B)之外
(C)含有具有脂族碳-碳多键的SiC键合的基团和Si键合的氢原子的有机硅化合物,以及
(D)氢化硅烷化催化剂。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述加成交联硅酮组合物包含以下另外的组分:
(E)一种或多种填料,选自由以下各项组成的组:BET表面积为至少50m2/g的气相二氧化硅或沉淀二氧化硅、炭黑、活性炭、石墨、石墨烯、金刚石、碳纳米管、氮化铝、氧化铝、钛酸钡、氧化铍、氮化硼、氧化镁、微粒金属、碳化硅、碳化钨、氧化锌、二氧化钛、铁氧体、NIR吸收剂、MIR吸收剂以及这些填料的组合。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述硅酮层是介电硅酮层或导电硅酮层。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其中通过扫描电子显微镜分析测量的,所述硅酮层的层厚度为0.1μm至200μm。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法,其中所述印刷化合物载体(33)选自由以下各项组成的组:玻璃、玻璃状二氧化硅、PET、聚碳酸酯、PMMA和硒化锌玻璃。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法,其中所述沉积载体(36)选自由以下各项组成的组:PET膜、金属箔和玻璃。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法,其中所述沉积载体(36)另外具...
【专利技术属性】
技术研发人员:克劳斯·埃勒尔,安德烈亚斯·克尔恩贝格尔,约翰尼斯·诺伊维尔特,
申请(专利权)人:瓦克化学股份公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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