【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板
本申请涉及显示
,具体涉及一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板。
技术介绍
目前主流的有机电致发光显示器件(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)蒸镀与封装工艺,是在阵列工艺制作好的像素界定层(pixeldefinitionlayer,PDL)划分的像素区域中蒸镀相应的有机发光材料,再通过物理气相沉积(PhysicalVapourDeposition,PVD)、化学气相沉积(ChemicalVapourDeposition,CVD)和喷墨打印(inkjetprint,IJP)等工艺成膜封装保护起来。为了防止蒸镀材料扩散发生混色,像素区域往往设计成凹坑结构,有机发光材料一般蒸镀在相应的凹坑底部。这种设计在工艺过程中常导致像素区出光范围较小的问题。
技术实现思路
本申请实施例提供一种阵列基板、阵列基板制程方法及显示面板,能够改善像素区出光范围较小的问题。本申请提供一种阵列基板,包括:像素定义层,所述像素定义层具有相对 ...
【技术保护点】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:/n像素定义层,所述像素定义层具有相对设置的第一面和第二面,且在所述第一面设置有若干凹槽,所述凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°;/n发光层,所述发光层设置在所述凹槽底面;/n透明导光层,所述透明导光层填充在所述凹槽内,并位于所述发光层远离所述凹槽底面的一侧。/n
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
像素定义层,所述像素定义层具有相对设置的第一面和第二面,且在所述第一面设置有若干凹槽,所述凹槽的侧面与底面延长线所成的角度为0°至50°;
发光层,所述发光层设置在所述凹槽底面;
透明导光层,所述透明导光层填充在所述凹槽内,并位于所述发光层远离所述凹槽底面的一侧。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述透明导光层远离所述发光层的一侧表面与所述第一面平齐。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述透明导光层远离所述发光层的一侧表面向远离所述发光层的方向凸起,所述凸起的表面为半圆形、波浪形或凹凸折线形中的任一种。
4.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述透明导光层采用透明微球层叠堆积形成。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述透明微球的直径沿第二面向第一面的方向逐渐变大...
【专利技术属性】
技术研发人员:齐晓青,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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