【技术实现步骤摘要】
四象限传感器的标定方法、掩模传输分系统和光刻设备
本专利技术实施例涉及掩模预对准
，尤其涉及一种四象限传感器的标定方法、掩模传输分系统和光刻设备。
技术介绍
光刻设备的掩模预对准是将掩模版在一定对准精度范围内与光刻物镜光轴进行预对准，以使得掩模版的精对准标记位于精对准系统的捕获范围内。掩模预对准的精度影响精对准的效率，而掩模预对准的效率影响掩模版的上片速度，所以，掩模预对准影响着光刻设备的曝光生产效率，提高预对准的效率和精度是提高光刻设备生产效率的重要一环。现有的掩模预对准装置具有左右对称的两路对准光路，使用两个四象限传感器分别采集掩模版上的两个预对准标记，利用每个象限之间能量差值关系表征掩模版的位置，进而实现掩模版的预对准。因此，四象限传感器的测量精度影响掩模预对准精度。由于被测标记对准四象限传感器的中心时测得的机器常数最为精准，因此，对四象限传感器位置的常规标定是将被测物上的各个标记分别对准每一个四象限传感器的中心，获取每一个四象限传感器的机器常数后进行掩模预对准。但由于四象限传感器在安装时会存在机械安装位...
【技术保护点】
1.一种四象限传感器的标定方法，包括将待测工件装载上运动单元至对准位，其中，所述待测工件上形成有透明的第一预对准标记以及第二预对准标记；对第一四象限传感器进行标定；对第二四象限传感器进行标定，其特征在于，对所述第二四象限传感器进行标定的步骤包括：/n微动所述运动单元至第一四象限传感器给出的第一方向坐标值、第二方向坐标值以及第二四象限传感器给出的第二方向坐标值均为0；/n保持所述运动单元在第一坐标方向的坐标不变，移动所述运动单元在第二坐标方向运动，以带动所述待测工件在所述第二四象限传感器的两个线性区边界之间移动，其中，所述两个线性区边界之间包括至少一段线性区，所述线性区为所述...
【技术特征摘要】
1.一种四象限传感器的标定方法，包括将待测工件装载上运动单元至对准位，其中，所述待测工件上形成有透明的第一预对准标记以及第二预对准标记；对第一四象限传感器进行标定；对第二四象限传感器进行标定，其特征在于，对所述第二四象限传感器进行标定的步骤包括：
微动所述运动单元至第一四象限传感器给出的第一方向坐标值、第二方向坐标值以及第二四象限传感器给出的第二方向坐标值均为0；
保持所述运动单元在第一坐标方向的坐标不变，移动所述运动单元在第二坐标方向运动，以带动所述待测工件在所述第二四象限传感器的两个线性区边界之间移动，其中，所述两个线性区边界之间包括至少一段线性区，所述线性区为所述第二四象限传感器接收到的光强与光源的光强呈线性关系的区域；
基于所述第二四象限传感器采集的多个数据，完成对所述第二四象限传感器的标定。
2.根据权利要求1所述的四象限传感器的标定方法，其特征在于，保持所述运动单元在第一坐标方向的坐标不变，移动所述运动单元在第二坐标方向运动，以带动所述待测工件在所述第二四象限传感器的两个线性区边界之间移动，包括：
保持所述运动单元在第一坐标方向的坐标不变，移动所述运动单元在第二坐标方向的第一方向运动，以带动所述待测工件移动至所述第二四象限传感器的第一线性区边界；
保持所述运动单元在第一坐标方向的坐标不变，按设定步长移动所述运动单元在第二坐标方向的第二方向运动，以带动所述待测工件移动至所述第二四象限传感器的第二线性区边界，其中，所述第一方向和所述第二方向相反。
3.根据权利要求2所述的四象限传感器的标定方法，其特征在于，基于所述第二四象限传感器采集的多个数据，完成对所述第二四象限传感器的标定，包括：
在所述待测工件在所述第二四象限传感器的两个线性区边界之间移动的过程中，获取所述第二四象限传感器的多个数据；
基于获取的所述第二四象限传感器的多个数据，确定所述两个线性区边界之间的各所述线性区的线性区系数和拐点的拐点数值，其中，所述拐点为所述第二四象限传感器接收到的光强与光源的光强之比发生变化时的临界点；
将所述线性区系数和所述拐点数值作为所述第二四象限传感器的机器常数。
4.根据权利要求3所述的四象限传感器的标定方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵远祎，周文贤，朱正平，唐文力，牛增欣，王青亮，季桂林，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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