【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法
本专利技术涉及一种混合无机酸含量的检测,具体涉及氢氟酸、氟硅酸和硝酸含量的检测。
技术介绍
湿法化学蚀刻是半导体芯片行业的一道主要制程,通过酸性物质腐蚀基体表面达到刻蚀目的。其中氢氟酸、氟硅酸和硝酸的混合物是一种常见的蚀刻液,蚀刻液浓度影响蚀刻速度和质量,在循环套用过程中也需要根据各组分的含量补加酸液。硝酸、氢氟酸和氟硅酸单独检测及二元混酸的测试方法较多,三种酸组成的混酸含量测试未见报道。目前,刻蚀酸中硝酸、氢氟酸和氟硅酸的测定方法主要有容量法、重量法、离子选择性电极法、分光光度法、离子色谱法、液相色谱法等。用碱直接滴定不能区分三种酸,无法计算三种酸的含量;离子选择性电极适用于微量离子的检测,离子浓度的对数与响应信号成比例,绘制标准曲线,进而计算样品中离子含量,此方法测定过程中响应信号的微小波动对离子含量的影响较大,因此不适用于本体系;三种酸的吸收曲线有重叠,无法采用紫外分光光度法直接测定,且分光光度法适用于微量组分的测定,常量组分测定时由稀释引入的误差较大;离子色谱法 ...
【技术保护点】
1.一种刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法,其特征在于,用络合滴定测定氟硅酸和氢氟酸的含量,用酸碱滴定测定总酸度,以总酸度减氟硅酸和氢氟酸含量计算硝酸含量。/n
【技术特征摘要】
1.一种刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法,其特征在于,用络合滴定测定氟硅酸和氢氟酸的含量,用酸碱滴定测定总酸度,以总酸度减氟硅酸和氢氟酸含量计算硝酸含量。
2.如权利要求1刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法,其特征在于,所述的刻蚀酸为含氟硅酸、氢氟酸和硝酸的混酸溶液,其中氟硅酸的质量分数为1%~15%,氢氟酸的质量分数为1%~15%,硝酸的质量分数为10%~40%。
3.如权利要求1所述的刻蚀酸中氟硅酸、氢氟酸和硝酸含量的测定方法,其特征在于,其具体测定步骤如下:
(1)样品溶液的制备:取刻蚀酸加入容量瓶中,并加入沉淀剂、水解抑制剂,振摇以后,待溶液冷却至室温后,用水解抑制剂定容至刻度,定容体积为V定容,静置分层,取上清液,即为样品溶液A;
(2)总酸度测定:以酚酞为指示液,移取样品溶液AV移取,用氢氧化钠标准滴定稀释后的溶液A滴定至溶液呈微粉色,同时同样做空白试验;总酸度的计算公式如下:
(I)
W1为总酸度,以氢离子(H+)的质量分数计;
V1为样品溶液消耗的氢氧化钠标准滴定溶液的体积;
V0为空白溶液消耗的氢氧化钠标准滴定溶液的体积;
c1为氢氧化钠标准滴定溶液的浓度;
M1为氢(H+)的摩尔质量;
m1为样品的质量;
(3)氢氟酸含量的测定:移取样品溶液AV移取,以甲基橙为指示液,用碱调节pH至溶液恰变为亮黄色,以氟离子选择性电极为指示电极,用硝酸镧标准滴定溶液,滴定溶液中的氟离子,采用二级微商法确定终点,同时同样做空白试验,氢氟酸的计算公式如下:
(II)
其中,W2为氢氟酸(以HF计)的质量分数;
V2为样品溶液消耗的硝酸镧标准滴定溶液的体积;
V3为空白溶液消耗的硝酸镧标准滴定溶液的体积;
c2为硝酸镧标准滴定溶液的浓度;
M2为氟化氢(HF)的摩尔质量数值为M2=20.006;
m1为样品的质量;
(4)氟硅酸含量的测定:称取试样置于烧杯中,加入氢氧化钠溶液,加入试样溶液后用pH试纸测定pH值应呈强碱性,加热至沸腾,煮沸2min~5min,冷却至室温,以甲基红指示液,调节溶液pH至恰变为亮黄色,以氟离子选择...
【专利技术属性】
技术研发人员:张晓霞,杨松,王艳,邢伶,王瑞菲,岳涛,
申请(专利权)人:青岛科技大学,
类型:发明
国别省市:山东;37
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