【技术实现步骤摘要】
适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备
本专利技术属于CVD设备
，具体地说，本专利技术涉及一种适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备。
技术介绍
CVD(ChemicalVaporDeposition)成膜工艺是整个IC产业和面板产业的基础，直接决定半导体器件的性能和可靠性。在高温下，将腔体抽至真空状态(1torr)时，通入制程气体，将高频电源加在上电极板DIFF形成电场，形成等离子(整体呈电中性)，下部电极及加热基座(又名Susceptor)提供温度，等离子体通过吸附结合作用，在玻璃基板上形成薄膜。沉积在玻璃上的膜质是工艺重点管控的项目，影响因素居多，主要困扰膜的致密性及组分的是参数是基板温度和气体流量及分布。体流量及分布浓度是由DIFF来调控的。在化学汽相沉积装置中，特别是扩散器(Diffuser)，具有将气体均匀扩散在玻璃面板上的扩散作用，同时还起到等离子体电极作用。扩散器的外形基本像板状长方体(长宽比1.1左右)，上面均匀分布大量的孔结构，类似于蜂槽结构。以宽度方向中心为基准面，两侧具有同心锥形孔，整个结...
【技术保护点】
1.适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。/n
【技术特征摘要】
1.适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，包括相对布置的两个吹扫机器人，吹扫机器人包括用于对扩散器进行吹扫的喷嘴和用于控制喷嘴进行移动的位置调节装置。
2.根据权利要求1所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述位置调节装置包括用于带动所述喷嘴沿Z轴方向进行移动的Z轴执行机构、与Z轴执行机构连接且用于带动Z轴执行机构沿Y轴方向进行移动的Y轴执行机构和与Y轴执行机构连接且用于带动Y轴执行机构沿X轴方向进行移动的X轴执行机构，喷嘴设置于Z轴执行机构上，X轴方向、Y轴方向和Z轴方向相互垂直。
3.根据权利要求2所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述X轴执行机构包括X轴执行器、X轴滑轨、与所述Y轴执行机构连接且设置于X轴滑轨上的X轴齿条和与X轴执行器连接且与X轴齿条相啮合的X轴齿轮，X轴齿条的长度方向与X轴方向相平行。
4.根据权利要求3所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述Y轴执行机构包括与所述X轴齿条连接的Y轴滑轨、Y轴执行器、与所述Z轴执行机构连接且设置于Y轴滑轨上的Y轴齿条和与Y轴执行器连接且与Y轴齿条相啮合的Y轴齿轮，Y轴齿条的长度方向与Y轴方向相平行。
5.根据权利要求4所述的适于化学汽相沉积装置扩散器的吹扫设备，其特征在于，所述Y轴方向为竖直方向，所述Y轴执行器为伺服电机且Y轴执行器具有自锁功能。
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【专利技术属性】
技术研发人员：金卫明，朱传兵，亓露，宋微，张翔，
申请(专利权)人：芜湖通潮精密机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
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