【技术实现步骤摘要】
一种红外辐射加湿装置及其加湿方法
本专利技术涉及一种气体加湿装备，尤其是涉及一种使用于半导体工业生产中等具有高洁净度环境气体要求的加湿装置及其加湿方法。
技术介绍
半导体工业生产中很多场合需要使用高洁净度的气体，对气体的湿度进行调节控制也是常见的气体处理流程之一。例如，申请人在申请号为201711395951.3的中国专利技术专利中提到，浸没式光刻机将高相对湿度的空气供给到硅片上方，以减弱硅片上浸没液体蒸发，防止硅片受冷却而发生变形。而现有传统气体加湿技术主要采用有：超声波雾化加湿、填料塔鼓泡加湿和喷雾冷却加湿；虽然新型的气体加湿技术有中空纤维膜加湿和传质膜加湿等。上述加湿技术中加湿过程通过水蒸气传质膜加湿传质过程的，其传质动力为气液界面水蒸气浓度差；而加湿过程中气液接触比表面积、气液两相界面水蒸气浓度梯度则是决定加湿效率的主要因素；上述传统的气体加湿技术存在着一定的局限性：例如存在着加湿效率低、受周围环境温度影响大、加湿不可控或控制效率低等；而中空纤维膜与传质膜加湿虽然效率高，洁净度高，但却存在着温度适用范围窄、加湿湿度不...
【技术保护点】
1.一种红外辐射加湿装置，包括蒸发腔室、液相水供给装置、载气流道和控制器，液相水供给装置包括供液控制阀和雾化喷嘴，其特征在于：还包括红外加热器，红外加热器位于蒸发腔室内部，红外加热器用于提供红外波使液相水气化；载气流道包含干气体入口与湿气体出口，湿气体出口后级与气体输出流路连接，湿气体出口后级气体输出流路的下游管路上设有液滴去除装置，液滴去除装置用于去除湿气体中夹带的未气化的小液滴，进行二次过滤去除液滴；气体经过载气流道在蒸发腔室内大致呈自上而下的方向流动，湿气体出口位于蒸发腔室的下部位置且处于内底部上方位置处；蒸发腔室内部设有用于监测蒸发腔室内部温度的温度传感器及用于监测...
【技术特征摘要】
1.一种红外辐射加湿装置，包括蒸发腔室、液相水供给装置、载气流道和控制器，液相水供给装置包括供液控制阀和雾化喷嘴，其特征在于：还包括红外加热器，红外加热器位于蒸发腔室内部，红外加热器用于提供红外波使液相水气化；载气流道包含干气体入口与湿气体出口，湿气体出口后级与气体输出流路连接，湿气体出口后级气体输出流路的下游管路上设有液滴去除装置，液滴去除装置用于去除湿气体中夹带的未气化的小液滴，进行二次过滤去除液滴；气体经过载气流道在蒸发腔室内大致呈自上而下的方向流动，湿气体出口位于蒸发腔室的下部位置且处于内底部上方位置处；蒸发腔室内部设有用于监测蒸发腔室内部温度的温度传感器及用于监测蒸发腔室内部残留液液位的液位传感器；蒸发腔室底部设有排液孔及排液控制阀门；液相供给装置位于装置的上部，雾化喷嘴位于蒸发腔室的顶部。
2.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的红外加热器具有螺旋线形状，红外加热器采用具有圆柱螺旋线形状、上大下小的倒锥形螺旋线形状、上小下大的锥形螺旋线形状或者是上下两端小中部大的双锥螺旋线形状。
3.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的蒸发腔室柱状多边形筒体腔室结构或大致呈圆筒形腔室结构。
4.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的湿气体出口位于蒸发腔室的下部周边，湿气体出口为倒置的锥形圆环状，也即湿气体出口采用从蒸发腔室内壁面处倾斜向上向外延伸至蒸发腔室外壁面处的倒锥形圆环状出口结构。
5.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的雾化喷嘴可为超声波雾化喷嘴、单相液体雾化喷嘴或两相气液雾化喷嘴，所述雾化喷嘴的数量与排布可以根据气体流量和蒸发腔室2的温度等工作参数确定。
6.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的其中干气体入口位于蒸发腔室内部的一端设有使气流均匀地流入蒸发腔室的气流均匀装置,气流均匀装置具有使出口气体各部位流量均匀和流速稳定的多孔筛板结构；气流均匀装置位于蒸发腔室的上部周边，且分布于靠近蒸发腔室内环周壁面处。
7.按照权利要求1所述的红外辐射加湿装置，其特征在于：所述的液体去除装置采用微米级...
【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：浙江启尔机电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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