【技术实现步骤摘要】
光学防伪元件及其制作方法
本专利技术涉及光学防伪领域，具体地，涉及光学防伪元件及其制作方法。
技术介绍
人眼对颜色以及颜色的变化十分敏感，能够分辨出两种颜色之间细小的差别。所以，将颜色变化作为一种光学防伪要素是一种效率极高的防伪特征。基于颜色和颜色变化的光学防伪元件已经作为重要的光学防伪特征，应用于钞票防伪、品牌保护等多种领域。该种防伪元件通过光学原理，能够实现颜色的变化，即当倾斜光学防伪元件时，该光学防伪元件中的颜色随着观察角度的变化而发生变化。这种颜色的变化十分容易辨识，并且无需对使用者进行大量的培训。颜色和颜色变化可以通过多种方式实现，例如采用金属反射层，或者通过在金属反射层之上涂布具有颜色的图层来获得颜色，且该颜色不随观察角度的变化而变化。也可以采用“法布里-珀罗”干涉器的原理，采用“吸收层/介质层/反射层”的结构，形成颜色随观察角度变化而变化的光变镀层。由于在倾斜时，上述镀层或光学防伪元件的光学颜色发生变化，因此在本专利申请之后的内容中将上述结构以及相应的产品统称为“光变膜”。人眼同样对于动感特征具有极其敏...
【技术保护点】
1.一种光学防伪元件，包括：/n基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；以及/n位于所述基材的所述第一表面上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述基材接触，且所述吸收层的材料为合金材料。/n
【技术特征摘要】
1.一种光学防伪元件，包括：
基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；以及
位于所述基材的所述第一表面上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述基材接触，且所述吸收层的材料为合金材料。
2.一种光学防伪元件，包括：
基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；
位于所述基材的所述第一表面上的表面浮雕结构层，所述表面浮雕结构层包括与所述光学防伪元件的镂空区域对齐的第一区域和与所述光学防伪元件的非镂空区域对齐的第二区域，所述第一区域包括第一光栅微结构，所述第二区域包括第二光栅微结构和/或平坦结构，其中，所述第一光栅微结构的深宽比大于所述第二光栅微结构的深宽比，和/或所述第一光栅微结构的比体积大于所述第二光栅微结构的比体积；
同形覆盖于所述第二区域上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述第二区域接触，且所述吸收层的材料为合金材料。
3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述合金材料为至少两种金属形成的合金材料，形成所述合金材料的一种金属为灰色金属，另一种金属为易被溶液腐蚀的金属。
4.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，
所述灰色金属包括以下一者或多者：铬、镍、铜、钴、钛、钒、钨、锡、硅、锗、或其组合；
所述易被溶液腐蚀的金属包括铝和/或铁。
5.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，
所述合金材料为下一者或多者：铝/铬合金、铝/镍合金、铝/硅合金、铁/铬、或者铝/铁/铬合金；和/或
所述吸收层的厚度范围是2nm-30nm。
6.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，
所述法布里-珀罗干涉器结构中的介质层的材料为折射率小于1.8的低折射率材料，或者为折射率大于1.8的高折射率材料，
所述法布里-珀罗干涉器结构中的反射层的材料包括以下中的一者或多者：铝、银、锡、镍、铬、铂、铜、金、硅、或其组合。
7.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，所述基材是透明的或半透明的。
8.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，还包括形成于所述干涉型反射镀层之上的保护层。
9.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其中，
所述第一光栅微结构和/或所述第二光栅微结构的特征尺寸的范围是100nm至100μm；
所述第二光栅微结构的深宽比小于0.2，和/或所述第二光栅微结构的比体积小于0.2；和/或
所述第一光栅微结构和/或所述第二光栅微结构为以下一者或多者：亚波长光栅、全息光栅、闪耀光栅、球透镜、或柱透镜。
10.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其中，还包括：形成于所述基材和所述表面浮雕结构层之间的剥离层；以及覆盖于所述镂空区域和/或所述非镂空区域上的胶层，所述胶层的表面被平整化。
11.一种用于光学防伪元件的制作方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张巍巍，孙凯，朱军，
申请(专利权)人：中钞特种防伪科技有限公司，中国印钞造币总公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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