一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板技术

本申请属于OLED器件技术领域，提供了一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板，该三维自卷曲OLED面板的制备方法包括：制备面板基板，其中，所述面板基板包括第一金属层和第二金属层，所述第二金属层上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层与所述第二金属层的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物；在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板；采用激光对所述面板基板进行照射，以对所述面板基板进行塑形，解决了现有的三维OLED器件的造型设计上存在的工艺复杂、良率较低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板
本申请属于OLED器件
，尤其涉及一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板。
技术介绍
随着科学技术的不断进步，人们对于光源的需求越来越多样化。OLED利用超薄有机层发光原理，具有超轻，超薄，柔性，透明等诸多优点，在照明与显示领域有着广阔的应用前景，可望成为未来照明的主流。然而，OLED作为一种面光源，在实际应用中多应用于二维平面光源，而较少的应用在三维照明器件上，而三维OLED器件的制备工艺一般需要定制蒸镀的掩膜版或者采用柔性OLED对灯具发光面进行包裹。这样一来，不仅大大限制了三维OLED器件的造型设计，同时也降低了三维OLED器件的制备良率。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板，旨在解决现有的三维OLED器件的造型设计上存在的工艺复杂、良率较低的问题。本申请实施例的第一方面提供了一种三维自卷曲OLED面板的制备方法，所述三维自卷曲OLED面板的制备方法包括：制备面板基板，其中，所述面板基板包括第一金属层和第二金属层，所述第二金属层上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层与所述第二金属层的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物；在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板；采用激光对所述面板基板进行照射，以对所述面板基板进行塑形。可选的，所述制备面板基板包括：在所述第一金属层上形成所述第二金属层；采用掩膜版在所述第二金属层上定义出多个依序排列的凹槽区域；对所述凹槽区域进行刻蚀，得到多个依序排列的凹槽；在所述凹槽内填充所述有机聚合物。可选的，所述在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板包括：在所述第一金属层上形成隔热层；在所述隔热层上采用蒸镀的方式形成所述金属纳米线层；在所述金属纳米线层上依次蒸镀功能层材料，以形成所述有机功能层；在所述有机功能层上依序形成所述阴极层以及所述封装层。可选的，所述采用激光对所述面板基板进行照射包括：将所述平面OLED面板设于样品台上，其中，所述样品台用于根据激光控制信号调节所述平面OLED面板的位置；采用激光器根据所述激光控制信号对所述面板基板上对应的区域进行激光照射。可选的，所述样品台为四轴连动系统。可选的，所述有机聚合物的玻璃化温度为40摄氏度。可选的，所述第一金属层的材料为铬，所述第二金属层的材料为金或者铜。可选的，所述第一金属层的固有应力大于所述第二金属层的固有应力。可选的，所述金属纳米线层包括银纳米线。本申请实施例第二方面还提供了一种OLED面板，所述OLED面板采用如上述任一项所述的三维自卷曲OLED面板的制备方法制成。本申请实施例提供了一种三维自卷曲OLED面板的制备方法及OLED面板，该三维自卷曲OLED面板的制备方法包括：制备面板基板，其中，所述面板基板包括第一金属层和第二金属层，所述第二金属层上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层与所述第二金属层的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物；在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板；采用激光对所述面板基板进行照射，以对所述面板基板进行塑形，解决了现有的三维OLED器件的造型设计上存在的工艺复杂、良率较低的问题。附图说明图1为本申请实施例提供的一种三维自卷曲OLED面板的制备方法的流程示意图；图2为本申请实施例提供的一种三维自卷曲OLED面板的制备方法中步骤10的流程示意图；图3为本申请实施例提供的面板基板的结构示意图；图4为本申请实施例提供的一种三维自卷曲OLED面板的制备方法中步骤20的流程示意图；图5为本申请实施例提供的一种三维自卷曲OLED面板的结构示意图；图6为本申请实施例提供的面板基板的二维到三维应力形变的示意图；图7为本申请实施例提供的制备方法的应用实施例示意图；图8为本申请实施例提供的加工示意图。具体实施方式为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。本申请实施例提供了一种三维自卷曲OLED面板的制备方法，参见图1所示，本实施例中的制备方法包括步骤10、步骤20以及步骤30。步骤10：制备面板基板00，其中，所述面板基板00包括第一金属层01和第二金属层02，所述第二金属层02上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层01与所述第二金属层02的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物03。在本实施例中，通过两种固有应力不匹配的第一金属层01和第二金属层02组成面板基板00，并结合有机聚合物03的玻璃化温度的基本特性，实现面板基板00的自弯曲且曲率可控的目的，进而基于平面OLED面板制备三维自卷曲OLED面板。具体的，参见图2所示，本实施例中的步骤10具体可以包括步骤11、步骤12、步骤13以及步骤14。步骤11：在所述第一金属层01上形成所述第二金属层02。步骤12：采用掩膜版在所述第二金属层02上定义出多个依序排列的凹槽区域。步骤13：对所述凹槽区域进行刻蚀，得到多个依序排列的凹槽。步骤14：在所述凹槽内填充所述有机聚合物03。在本实施例中，参见图3所示，第一金属层01和第二金属层02贴合，具体的，可以通过镀膜的形式在第一金属层01上形成与第一金属层01应力完全不匹配的第二金属层02，然后在第二金属层02表面形成掩膜版，定义出需要刻蚀形成凹槽的凹槽区域，然后对所述凹槽区域进行刻蚀，得到多个依序排列的凹槽，在所述凹槽内填充所述有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三维自卷曲OLED面板的制备方法，其特征在于，所述三维自卷曲OLED面板的制备方法包括：/n制备面板基板，其中，所述面板基板包括第一金属层和第二金属层，所述第二金属层上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层与所述第二金属层的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物；/n在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板；/n采用激光对所述面板基板进行照射，以对所述面板基板进行塑形。/n

【技术特征摘要】
1.一种三维自卷曲OLED面板的制备方法，其特征在于，所述三维自卷曲OLED面板的制备方法包括：
制备面板基板，其中，所述面板基板包括第一金属层和第二金属层，所述第二金属层上设有依序排列的凹槽，所述第一金属层与所述第二金属层的固有应力不匹配，所述凹槽内设有有机聚合物；
在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板；
采用激光对所述面板基板进行照射，以对所述面板基板进行塑形。


2.如权利要求1所述的三维自卷曲OLED面板的制备方法，其特征在于，所述制备面板基板包括：
在所述第一金属层上形成所述第二金属层；
采用掩膜版在所述第二金属层上定义出多个依序排列的凹槽区域；
对所述凹槽区域进行刻蚀，得到多个依序排列的凹槽；
在所述凹槽内填充所述有机聚合物。


3.如权利要求1所述的三维自卷曲OLED面板的制备方法，其特征在于，所述在所述面板基板上依序制备隔热层、金属纳米线层、有机功能层、阴极层以及封装层，以形成平面OLED面板包括：
在所述第一金属层上形成隔热层；
在所述隔热层上采用蒸镀的方式形成所述金属纳米线层；
在所述金属纳米线层上依次蒸镀功能层材料，以形成所述有机功能层；
在所述有机功能层上依序...

【专利技术属性】
技术研发人员：金凌，刘纪文，江创，易子为，
申请(专利权)人：武汉华美晨曦光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42