【技术实现步骤摘要】
一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法
本专利技术属于制备高纯钴
,涉及一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法。
技术介绍
钴是重要的高纯金属材料之一,是制备磁记录介质、磁记录磁头、光电器件和磁传感器和集成电路等元器件的重要材料。大多应用都是将钴制备成纯金属靶材或合金靶材,通过镀膜方式得到符合要求的功能薄膜。5N及以上纯度的高纯钴则主要用来制造超大规模集成电路行业用溅射靶材。目前限于技术原因,5N及以上高纯钴需要大量进口,因而开发具有自主知识产权的高纯钴制备技术尤为重要。钴溶液的净化阶段多采用溶剂萃取、萃取色层法、膜分离、离子交换、电解等方式,其目的主要是为了除去钴溶液中的金属杂质(如Fe3+、Ni2+、Cu2+、Zn2+等),经过除杂之后的钴溶液再通过电解的方法得到高纯金属钴,其中钴镍为姐妹元素,性质比较相似,去除起来也比较困难,因此硫酸钴溶液中杂质镍离子的的去除一直是一个值得关注的问题。
技术实现思路
鉴于现有技术中所存在的问题,本专利技术公开了一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法,采用的技术 ...
【技术保护点】
1.一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法,其特征在于,具体方法为:/n步骤一:配置硫酸钴溶液,其中钴离子浓度为80g/L,镍离子浓度为3.25mg/L;/n步骤二:预处理螯合M4195 UPS树脂;/n步骤三:将步骤二中预处理好的螯合M4195 UPS树脂按照1:5的比例与硫酸钴溶液混合,在室温下搅拌吸附10h得净化后的硫酸钴溶液。/n
【技术特征摘要】
1.一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法,其特征在于,具体方法为:
步骤一:配置硫酸钴溶液,其中钴离子浓度为80g/L,镍离子浓度为3.25mg/L;
步骤二:预处理螯合M4195UPS树脂;
步骤三:将步骤二中预处理好的螯合M4195UPS树脂按照1:5的比例与硫酸钴溶液混合,在室温下搅拌吸附10h得净化后的硫酸钴溶液。
2.根据权利要求1所述的一种深度净化硫酸钴电解液中杂质镍的方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵云超,王广欣,郭明宜,杨斌,李荣坡,唐坤,李海涛,张晨飞,
申请(专利权)人:河南科技大学,
类型:发明
国别省市:河南;41
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